0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

瑞红集成电路高端光刻胶总部落户吴中

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2024-01-26 09:18 次阅读

江苏苏州吴中经济技术开发区项目集中签约仪式于1月11日圆满举行,六大项目,总投资额达人民币 63亿元,预计实现销售收入90亿元。此次签约项目中有四个为优质企业的增资扩产,两个为新兴产业的新投资项目,遍布多产业领域如检测检验、光刻胶、新能源自动化设备以及高端医疗器械类。

据吴中发布的最新消息,签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目,该项投资高达15亿元,旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。值得注意的是,瑞红苏州还于1月8日宣布,为了满足公司运营与发展需求,向中国石化集团资本有限公司非公开发行股份1.01亿份,募集到了8.5亿元资金,以支持其在先进制程工艺半导体光刻胶及配套试剂领域的更好发展。

作为1993年创立并发展至今的瑞红苏州,已成为我国最大的专业级光刻胶生产商之一,也是业内少有的能提供紫外宽谱、g线、i线、KrF和ArF全系列光刻机测试实验平台的专业研发制造商。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 集成电路
    +关注

    关注

    5380

    文章

    11377

    浏览量

    360760
  • 半导体
    +关注

    关注

    334

    文章

    26988

    浏览量

    215997
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    312

    浏览量

    30145
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻胶清洗去除方法

    光刻胶作为掩模进行干法刻蚀或是湿法腐蚀后,一般都是需要及时的去除清洗,而一些高温或者其他操作往往会导致光刻胶碳化难以去除。
    的头像 发表于 11-11 17:06 175次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 200次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 191次阅读

    掩膜版与光刻胶的功能和作用

    是作为设计图形的载体,通过光刻过程将掩膜版上的设计图形转移到光刻胶上,再经过刻蚀,将图形刻到衬底上,从而实现图形到硅片的转移。掩膜版的精度和质量在很大程度上决定了集成电路最终产品的质量。在制造过程中,掩膜版
    的头像 发表于 09-06 14:09 504次阅读

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘台或者烤设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8
    的头像 发表于 08-27 15:54 191次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
    的头像 发表于 07-11 16:07 446次阅读

    光刻胶的硬烘烤技术

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 686次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤技术

    光刻胶的一般特性介绍

    评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所
    的头像 发表于 07-10 13:43 531次阅读

    光刻胶后烘技术

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
    的头像 发表于 07-09 16:08 1122次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>后烘技术

    光刻胶的图形反转工艺

    图形反转是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负
    的头像 发表于 07-09 16:06 499次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在
    的头像 发表于 07-08 14:57 771次阅读

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 2354次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4426次阅读

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
    发表于 01-03 18:12 1189次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构

    速度影响光刻胶的哪些性质?

    光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀中至关重要的参数,那么我们在匀时,是如何确定匀速度呢?它影响
    的头像 发表于 12-15 09:35 1818次阅读
    匀<b class='flag-5'>胶</b>速度影响<b class='flag-5'>光刻胶</b>的哪些性质?