三星电子,全球领先的存储芯片制造商,近日宣布在美国设立新的研究实验室,专注于开发新一代3D DRAM技术。这个实验室将隶属于总部位于美国硅谷的Device Solutions America (DSA),负责三星在美国的半导体生产。
新一代3D DRAM技术将带来革命性的突破。通过先进的3D堆叠技术,这种DRAM有望实现更高的存储容量和更快的读写速度,从而满足不断增长的数据需求。三星希望通过这项技术引领全球3D存储芯片市场,巩固其市场领先地位。
新实验室的成立标志着三星对3D DRAM技术的重视和投入。这将是一个重要的研发基地,汇聚了业界顶尖的技术专家和工程师,共同致力于新一代3D DRAM的研发工作。
去年10月,三星透露了正在为10纳米以下的DRAM开发新的3D结构。这种结构能够实现更大的单芯片容量,理论上甚至可以超过100千兆位。这一突破性的进展将为未来的存储技术打开新的可能性,为数据中心、云计算和人工智能等领域提供更强大的支持。
三星在美国设立实验室,并专注于新一代3D DRAM技术的开发,展现了其在技术创新和行业领导力方面的决心。随着新一代3D DRAM技术的不断成熟和应用,我们有理由相信,三星将继续引领全球存储芯片市场的发展,为未来的科技产业注入强大的动力。
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