0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

沉积温度和溅射功率对ITO薄膜性能的影响研究

美能光伏 2024-03-05 08:33 次阅读

ITO薄膜在提高异质结太阳能电池效率方面发挥着至关重要的作用,同时优化ITO薄膜的电学性能和光学性能使太阳能电池的效率达到最大。沉积温度溅射功率也是ITO薄膜制备过程中的重要参数,两者对ITO薄膜的电阻率和透过率有极大影响。美能扫描四探针方阻测试仪能够帮助用户优化太阳能电池的电学特性,美能分光光度计支持紫外至近红外区域测定,开启光学检测新未来!本篇文章将给大家讲解沉积温度和溅射功率对ITO薄膜的电学和光学性能的影响。

沉积温度

1.电学性能

沉积温度通过改变生长过程中的微观结构来影响ITO薄膜的性能。随着沉积温度的升高,载流子浓度先增大后减小,因为沉积温度升高时Sn4+更有利于取代In3+,从而增加载流子。当温度为190℃时,载流子浓度降低,这是由于Sn在高温下能与O2充分反应,生成复合化学计量比比较完整的氧化物,导致载流子浓度降低。然而,迁移率随着沉积温度的升高而增加,并在270℃时达到最大值。原因是沉积温度的升高提高了结晶度,这有助于提高迁移率。

f4296fd4-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.png

沉积温度影响ITO薄膜的电学特性

2.光学性能

ITO薄膜的透过率随着沉积温度的升高而增加,在270℃时达到最大值90.9%。一方面,Sn4+在高沉积温度下更有利于取代In3+,从而生成较少的低价棕色氧化物,从而提高可见光透过率。另一方面,它可以提高高沉积温度下的结晶度。

f43c2534-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.png

沉积温度影响ITO薄膜的光学特性

f41d7efe-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.gif

溅射功率

溅射功率对ITO薄膜的导电性能也有非常重要的作用,进而通过影响溅射粒子的能量来影响ITO薄膜的致密性以及与硅片之间的附着力

1.电学性能

f444a90c-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.png

溅射功率影响ITO薄膜的电学特性

从上图可以看出,载流子浓度随着溅射功率的增加而增加。由于较高的溅射功率会产生大量的溅射颗粒,在相同氧含量下,氧气不足以充分氧化溅射颗粒,从而使载流子浓度增加。随着溅射功率的增大,迁移率先增大后减小。随着溅射功率的增加,氩离子可以获得更高的能量,有利于提高ITO薄膜与衬底之间的附着力,从而改善薄膜的晶体结构,载流子迁移率进一步提高。然而,当溅射功率继续增加时,薄膜会受到损伤,载流子迁移率会降低,因此ITO薄膜的电阻率随着溅射功率的增加先下降后上升。另外,溅射功率不应超过阈值。一方面,如果溅射功率过高,高能粒子会对薄膜造成损伤,进一步影响薄膜的导电性能。另一方面,陶瓷靶材脆性大,用大功率轰击很容易导致断裂。

2.光学性能

随着溅射功率的增加,ITO薄膜的透过率先增大后略有减小。溅射粒子在低溅射功率下受到限制,溅射粒子可以被氧气完全氧化,生成高电阻、透明的氧化物;因此,透过率可以达到90%以上。然而,随着溅射功率的增加,溅射颗粒数量增加,在氧含量不变的情况下,只有部分颗粒被氧化,导致ITO薄膜的透过率下降。另外,随着溅射功率的增加,载流子浓度达到最大值,导致透过率下降。

f45cdafe-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.png

溅射功率影响ITO薄膜的光学特性

f41d7efe-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.gif

美能扫描四探针方阻测试仪FPP230A

f4751498-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.png

美能扫描四探针方阻测试仪可以对最大230×230mm的样品进行快速、自动的扫描,获得样品不同位置的方阻/电阻率分布信息,可广泛应用于光伏、半导体、合金、陶瓷等诸多领域。

  • 超高测量范围,测量1mΩ~100MΩ

  • 高精密测量,动态重复性可达0.2%

  • 全自动多点扫描,多种预设方案亦可自定义调节

快速材料表征,可自动执行校正因子计算

美能分光光度计UVN2800

f495ee70-da87-11ee-9118-92fbcf53809c.png

美能分光光度计支持测定从紫外区到近红外区的广范围波长区域的太阳光透过率,为太阳电池的效率分析提供了有力支持。设备采用独特的双光束光学设计,可以完美地校正不同样品基质的吸光度变化,从而可稳定地进行样品的测定,具有测试范围广、精度高以及稳定性好的优点

  • 采用双光源双检测器设计,波长范围190-2800nm

  • 双光栅光学结构、有效降低杂散光

积分球直径可达100mm,长期使用不发黄变性、光学性能稳定

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 太阳能电池
    +关注

    关注

    22

    文章

    1176

    浏览量

    69344
  • 检测
    +关注

    关注

    5

    文章

    4480

    浏览量

    91440
  • ITO
    ITO
    +关注

    关注

    0

    文章

    55

    浏览量

    19548
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    薄膜电阻和厚膜电阻区别介绍

        厚膜电阻:采用丝网印刷工艺,通过将特殊糊剂烧制到基板上制成,通常包含玻璃和金属氧化物的混合物。 薄膜电阻:使用真空蒸发、磁控溅射等工艺,在绝缘基板上通过真空沉积形成镍铬薄膜,通
    的头像 发表于 11-24 16:05 566次阅读
    <b class='flag-5'>薄膜</b>电阻和厚膜电阻区别介绍

    溅射薄膜性能的表征与优化

    在现代科技领域中,薄膜技术发挥着至关重要的作用。而磁控溅射镀膜作为一种常用的薄膜制备方法,其工艺的成功与否关键在于对薄膜性能的准确表征。 一
    的头像 发表于 11-22 10:35 170次阅读

    磁控溅射镀膜工艺参数对薄膜有什么影响

          本文介绍了磁控溅射镀膜工艺参数对薄膜的影响。 磁控溅射镀膜工艺参数对薄膜性能有着决定性的影响。这些参数包括
    的头像 发表于 11-08 11:28 374次阅读

    浅谈薄膜沉积

    薄膜沉积工艺技术介绍 薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料,比如绝缘化合物二氧化硅,半导体多晶硅、金属铜等。从半导体芯片制作工艺流程来说,位于前道工艺
    的头像 发表于 11-01 11:08 1856次阅读

    一文详解半导体薄膜沉积工艺

    半导体薄膜沉积工艺是现代微电子技术的重要组成部分。这些薄膜可以是金属、绝缘体或半导体材料,它们在芯片的各个层次中发挥着不同的作用,如导电、绝缘、保护等。薄膜的质量直接影响到芯片的
    的头像 发表于 10-31 15:57 589次阅读
    一文详解半导体<b class='flag-5'>薄膜</b><b class='flag-5'>沉积</b>工艺

    功率放大器测试解决方案分享——交流电场薄膜击穿研究

    功率放大器测试解决方案分享——交流电场薄膜击穿研究
    的头像 发表于 10-18 08:00 220次阅读
    <b class='flag-5'>功率</b>放大器测试解决方案分享——交流电场<b class='flag-5'>薄膜</b>击穿<b class='flag-5'>研究</b>

    不同厚度的ITO薄膜光学和电学性能对光伏电池的影响

    ITO由于其高透过率和导电性,已广泛应用于太阳能电池领域。ITO薄膜的厚度对其光学性能有显著影响,随着膜厚增加,近红外区域的透过率下降,反射率在波长高于1900nm时略有增加。使用「美
    的头像 发表于 09-21 08:09 463次阅读
    不同厚度的<b class='flag-5'>ITO</b><b class='flag-5'>薄膜</b>光学和电学<b class='flag-5'>性能</b>对光伏电池的影响

    融合3D螺旋热电Bi₂Te₃薄膜技术的柔性温压传感器

    在这项研究工作中,研究人员报告了一种基于沉积在聚酰亚胺(PI)衬底上的(000l)纹理Bi₂Te₃薄膜温度-压力传感器。Bi₂Te₃
    发表于 03-25 09:23 422次阅读
    融合3D螺旋热电Bi₂Te₃<b class='flag-5'>薄膜</b>技术的柔性温压传感器

    ITO薄膜制备过程中影响其性能的因素

    含量、沉积温度溅射功率对其电学和光学性能会产生一定的影响。美能扫描四探针方阻测试仪和分光光度计,能分别检测太阳能电池的薄膜方阻和
    的头像 发表于 03-05 08:33 1243次阅读
    <b class='flag-5'>ITO</b><b class='flag-5'>薄膜</b>制备过程中影响其<b class='flag-5'>性能</b>的因素

    ITO薄膜光学性能受退火工艺温度的影响

    TOPCon电池性能的一种有效途径。美能UVN2800分光光度计是一款用于测量ITO、非晶硅、微晶硅等薄膜材料的透过率、反射率以及吸光度的检测仪器,波长范围为190~280
    的头像 发表于 01-20 08:32 1098次阅读
    <b class='flag-5'>ITO</b><b class='flag-5'>薄膜</b>光学<b class='flag-5'>性能</b>受退火工艺<b class='flag-5'>温度</b>的影响

    中国企业超卓航科引领高端溅射靶材产业发展

    动力。 溅射靶材是制备半导体晶圆、显示面板、太阳能电池等表面电子薄膜的核心材料。其纯度、致密度和成分均匀性等性能对下游客户的镀膜质量具有直接影响。超卓航科所采用的冷喷涂技术,作为一种颇具前景的固态粉末
    的头像 发表于 01-15 10:35 296次阅读
    中国企业超卓航科引领高端<b class='flag-5'>溅射</b>靶材产业发展

    半导体资料丨溅射外延、Micro-LED集成技术、化学蚀刻法制备MSHPS

    Si上 AIN 和 GaN 的溅射外延(111) 溅射外延是一种低成本工艺,适用于沉积III族氮化物半导体,并允许在比金属-有机气相外延(MOVPE)更低的生长温度下在大衬底区域上
    的头像 发表于 01-12 17:27 502次阅读
    半导体资料丨<b class='flag-5'>溅射</b>外延、Micro-LED集成技术、化学蚀刻法制备MSHPS

    薄膜电容的工艺与结构介绍

    。 一、薄膜电容的工艺 薄膜电容的制造工艺主要包括金属薄膜沉积、光刻、腐蚀等步骤。 金属薄膜沉积
    的头像 发表于 01-10 15:41 3089次阅读
    <b class='flag-5'>薄膜</b>电容的工艺与结构介绍

    带您深入了解ITO薄膜的方阻与影响方阻的因素

    在太阳能电池的沉积工艺中,制备高性能ITO薄膜是其首要任务。电池厂商在制备ITO薄膜时,往往需
    的头像 发表于 12-28 08:33 2065次阅读
    带您深入了解<b class='flag-5'>ITO</b><b class='flag-5'>薄膜</b>的方阻与影响方阻的因素

    化学气相沉积与物理气相沉积的差异

    在太阳能电池的薄膜沉积工艺中,具有化学气相沉积(CVD)与物理气相沉积(PVD)两种薄膜沉积方法
    的头像 发表于 12-26 08:33 1279次阅读
    化学气相<b class='flag-5'>沉积</b>与物理气相<b class='flag-5'>沉积</b>的差异