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三星电子采用大规模回流模制底部填充技术吗?

微云疏影 来源:综合整理 作者:综合整理 2024-03-13 16:07 次阅读

据报道,随着人工智能浪潮引发对高性能半导体的巨量需求,三星电子计划引进SK海力士的大规模回流模制底部填充(MR-MUF)技术。但此消息被三星否认,其声明显示“从未考虑在半导体芯片生产中运用此技术”。

尽管面对AI热潮及HBM需求的飙升,三星电子仍未与英伟达达成HBM芯片供应协议。分析指出,其坚持使用热压非导电薄膜(TC NCF)制程,可能导致产能问题。对比之下,SK海力士已将问题归结于NCF,转而采用MR-MUF向英伟达提供HBM3解决方案。

多位业内分析者透露,三星HBM3芯片生产良率仅有约10%至20%,而SK海力士则高达60%至70%。此外,三星还在积极与日本名古屋电解研等企业商讨MUF材料供应事宜。

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