近日,上海凯世通半导体股份有限公司迎来重要里程碑——首次成功交付用于生产CMOS图像传感器(CIS)的大型离子注入机给全新客户。
据了解,到2024年第一季度为止,该公司已陆续向多个特定客户发出了多个离子注入机订单,单季度就完成了八台离子注入机的客户端上线工作,呈现出迅猛增长的发展态势,取得了良好开局。
作为电子信息行业的基石,集成电路产业关系着国家发展大局。而离子注入机、光刻机、刻蚀机及薄膜沉积设备被誉为芯片加工的关键设备。
然而,国内在此领域存在国产化程度低的问题,只有不到五成的设备来自于本土企业。因此,凯世通以市场需求和前沿科技创新为导向,现已成功推出多种类型的离子注入机,并满足了频繁且大规模的订单需求。
此举成功挑战了极具技术难度的CIS大束流离子注入机,再次证明其在关键技术上坚守自主研发与创新的决心。
未来,凯世通将继续深入开发创新产品,扩展产品线,力求以更优质的产品回馈客户,为推动集成电路行业的可持续发展献力。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
集成电路
+关注
关注
5387文章
11530浏览量
361632 -
半导体
+关注
关注
334文章
27290浏览量
218083 -
CIS
+关注
关注
3文章
194浏览量
29606
发布评论请先 登录
相关推荐
SiC的离子注入工艺及其注意事项
离子注入是SiC器件制造的重要工艺之一。通过离子注入,可以实现对n型区域和p型区域导电性控制。本文简要介绍离子注入工艺及其注意事项。
源漏离子注入工艺的制造流程
与亚微米工艺类似,源漏离子注入工艺是指形成器件的源漏有源区重掺杂的工艺,降低器件有源区的串联电阻,提高器件的速度。同时源漏离子注入也会形成n型和p型阱接触的有源区,或者n型和p型有源区电阻,以及n型和p型多晶硅电阻。
万业企业旗下凯世通半导体:离子注入机基本自主可控!
零部件本土化新质生产力研讨会暨协同创新战略合作签约仪式在上海浦东成功举办。万业企业旗下上海凯世通半导体股份有限公司(以下简称凯世通)携手国内顶尖的集成电路制造企业、中国科学院合肥物质
凯世通收获重点晶圆厂客户多台复购订单
上海凯世通半导体股份有限公司近日传来喜讯,公司再次获得一家重要的12吋主流晶圆厂客户的青睐,成功拿下低能大束流离子注入机的复购订单。自去年一季度起,这位重点客户已多次向
日本住友重工将推出SiC离子注入机
住友重工离子技术公司,作为住友重工的子公司,计划在2025年向市场推出专为碳化硅(SiC)功率半导体设计的离子注入机。SiC制程虽与硅生产线有诸多相似之处,但由于其高硬度等独特性质,对生产设备提出了特殊要求。
住友重工2025年拟推碳化硅离子注入机
尽管SiC制造过程中的多数设备与常规硅类通用,但因其具备高硬度特性,需要专属设备支持,包括高级别的高温离子注入机、强效的碳膜溅射仪以及大规模的高温退火炉等。其中,能否拥有高温离子注入机被视为衡量SiC生产线水平的关键指标。
SiC与GaN 功率器件中的离子注入技术挑战
碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等宽带隙(WBG)半导体预计将在电力电子器件中发挥越来越重要的作用。与传统硅(Si)设备相比,它们具有更高的效率、功率密度和开关频率等主要优势。离子注入是在硅器件
离子注入涉及到的隧道效应为什么需要7°角?
隧道效应,又称沟道效应,对晶圆进行离子注入时,当注入离子的方向与晶圆的某个晶向平行时,其运动轨迹将不再是无规则的碰撞,而是将沿沟道(原子之间的缝隙)运动并且很少受到原子核的碰撞
万业企业助推凯世通获得批量采购订单
据业内人士透露,凯世通长期专注于该行业,产品已应用于逻辑、存储、功率等多个应用领域。他们所生产的低能大束流离子注入机和高能离子注入机已经实现
评论