据Semiconductor Engineering报道,三星公司日前宣布,其计划于2025年后引领3D DRAM内存新时代。DRAM内存领域预计将在未来十余年内将线宽缩小到10nm级别。为应对此挑战,业内正积极研究如3D DRAM等新型内存解决方案。
在Memcon 2024上,三星披露了两款全新的3D DRAM内存技术——垂直通道晶体管和堆栈DRAM。垂直通道晶体管通过降低器件面积占用,实现性能提升;堆栈DRAM则通过空间立体利用,有效提高了储存容量至100G以上。
根据预测,3D DRAM市场规模有望在2028年达到1000亿美元,这无疑吸引了业内各大厂商的激烈争夺。为此,三星早前就在美国加州设立了一家新的3D DRAM研发实验室,以期在这场竞争中占据领先地位。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
DRAM
+关注
关注
40文章
2337浏览量
184263 -
晶体管
+关注
关注
77文章
9834浏览量
139483 -
内存技术
+关注
关注
0文章
28浏览量
9872
发布评论请先 登录
相关推荐
三星电子否认1b DRAM重新设计报道
据报道,三星电子已正式否认了有关其将重新设计第五代10nm级DRAM(即1b DRAM)的传闻。这一否认引发了业界对三星电子
三星2025年晶圆代工投资减半
近日,据最新报道,三星计划在2025年大幅削减其晶圆代工部门的投资规模,设备投资预算将从2024年的10万亿韩元锐减至5万亿韩元,削减幅度高达50%。 此次投资削减主要集中在韩国的两大
三星否认重新设计1b DRAM
问题,在2024年底决定在改进现有1b nm工艺的同时,从头设计新版1b nm DRAM。 不过,三星通过相关媒体表示相关报道不准确。尽管三星否认了重新设计,但有业内人士透露,
三星电子1c nm内存开发良率里程碑推迟
据韩媒报道,三星电子已将其1c nm DRAM内存开发的良率里程碑时间推迟了半年。原本,三星计划在2024年底
三星1c nm DRAM开发良率里程碑延期
(High Bandwidth Memory 4)内存规划方面产生影响。 原本,三星电子计划在2024年12月前将1c nm制程DRAM的良
三星重启1b nm DRAM设计,应对良率与性能挑战
近日,据韩媒最新报道,三星电子在面对其12nm级DRAM内存产品的良率和性能双重困境时,已于2024年底作出了重要决策。为了改善现状,三星决
三星推出业界首款24Gb(3GB)GDDR7 DRAM内存芯片
三星推出了业内首款24Gb(即3GB)GDDR7 DRAM内存芯片,其超高速度可达42.5Gbps,专为下一代图形处理单元(GPU)打造。据三星
三星预测HBM需求至2025年翻倍增长
三星电子近期发布预测,指出全球HBM(高带宽内存)需求正迎来爆发式增长。据三星估算,到2025年,全球HBM需求量
三星将于今年内推出3D HBM芯片封装服务
近日,据韩国媒体报道,全球领先的半导体制造商三星即将在今年推出其高带宽内存(HBM)的3D封装服务。这一重大举措是三星在2024年
三星已成功开发16层3D DRAM芯片
在近日举行的IEEE IMW 2024活动上,三星DRAM部门的执行副总裁Siwoo Lee宣布了一个重要里程碑:三星已与其他公司合作,成功研发出16层3D
三星电子研发16层3D DRAM芯片及垂直堆叠单元晶体管
在今年的IEEE IMW 2024活动中,三星DRAM业务的资深副总裁Lee指出,已有多家科技巨头如三星成功制造出16层3D DRAM,其中
3D DRAM进入量产倒计时,3D DRAM开发路线图
目前,各大内存芯片厂商,以及全球知名半导体科研机构都在进行3D DRAM的研发工作,并且取得了不错的进展,距离成熟产品量产不远了。
发表于 04-17 11:09
•931次阅读

三星电子:2025年步入3D DRAM时代
据分析师预测,DRAM行业将于2030年前缩减工艺至10nm以下,然而当前的设计已无法在此基础上进行延伸,故而业内开始寻求如3D DRAM等新型存储器解决方案。
评论