单晶硅的少子寿命是指非平衡少数载流子(电子或空穴)在半导体材料中从产生到消失(即通过复合过程失去)的平均时间。它是评价单晶硅质量的重要参数之一,对硅单晶的性能有着直接和重要的影响。影响单晶硅少子寿命的因素有很多,包括材料的晶体缺陷、杂质含量、表面损伤、表面复合速率以及基片厚度等。
表面损伤和杂质
在单晶硅的加工过程中,如切割、研磨和抛光等步骤,可能会在表面引入损伤层和杂质。这些损伤和杂质会作为复合中心,加速少子的复合过程,从而降低少子寿命。例如,研究表明,使用HF与HNO3混合溶液对单晶硅片表面进行腐蚀,可以在一定时间内去除损伤层,使少子寿命达到最大。
从上图中可知,随着酸腐蚀时间的增加,测得的少子寿命值逐渐增大,在5~7min时最大,样品的厚度减少0.3~0.4mm。使用混合酸腐蚀,去除面损伤层和沾污,使表面趋于平整,可使少子寿命显著提高。
表面粗糙度
表面粗糙度的增加会导致更多的表面态和缺陷态,这些态会捕获或释放电荷载流子,增加非辐射复合的几率,从而降低少子寿命。因此,通过优化抛光工艺,获得更光滑的表面,可以有效提高少子寿命。
表面钝化
使用碘酒将硅片表面进行表面钝化处理,因为碘原子可与硅的(100)表面上的悬挂键结合,从而避免了重金属杂质,特别是Fe、Cu等原子污染硅的表面,就能获得较真实的单晶体寿命值。经过实验,碘与无水乙醇的摩尔浓度为0.08mol/L时,钝化后的少子寿命最高。此外还应强调钝化用的碘酒必须现配现用,否则钝化效果将会大打折扣。
单晶硅的表面形态通过影响表面复合速率和载流子的分布状态,进而影响其少子寿命。为了获得高性能的半导体器件,需要通过精细的加工和表面处理工艺来优化单晶硅的表面形态,以实现更长的少子寿命。
审核编辑:刘清
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原文标题:表面形态对单晶硅少子寿命的影响
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