俄罗斯首台光刻机问世
据外媒报道，目前，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。
俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已组装并制造了第一台国产光刻机，作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分，目前正在对其进行测试，该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出，到2026年将获得130nm的国产光刻机，下一步将是开发90nm光刻机，并继续向下迈进。
此前，俄罗斯曾表示，计划到2026年实现65nm的芯片节点工艺，2027年实现28nm本土芯片制造，到2030年实现14nm国产芯片制造。
审核编辑 黄宇
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片
+关注
关注
454文章
50502浏览量
422328 -
光刻机
+关注
关注
31文章
1148浏览量
47300
发布评论请先 登录
相关推荐
用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍
本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造：光刻技术的演进 过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当光刻机的光源波长卡在193nm，芯片制程缩小至6
光刻机的工作原理和分类
本文介绍了光刻机在芯片制造中的角色和地位，并介绍了光刻机的工作原理和分类。 光刻机：芯片制造的关键角色 光刻机在芯片制造中占据着至关重要的地位，被誉为芯片制
俄罗斯电子元器件展:俄罗斯微电子论坛-ExpoElectronica 全力支持
2024 年 4 月 16 日，2024 年 俄罗斯微电子论坛 的回顾和分析会议在莫斯科:ExpoElectronica俄罗斯国际电子元器件、组件、模块及加工设备与技术展（以下简称“俄罗斯电子元器件
光刻巨人去世 阿斯麦(ASML)光刻机巨头联合创始人去世
圈内突发噩耗，光刻巨人去世； 阿斯麦(ASML)光刻机巨头联合创始人维姆・特罗斯特去世。 据外媒报道，在当地时间11日晚，荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)创始人之一维姆・特鲁斯特(Wi
俄罗斯推出首台光刻机：350nm
来源：IT之家，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 据外媒报道，俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长Vasily Shpak表示，该设备可确保生产35
台积电A16制程采用EUV光刻机，2026年下半年量产
据台湾业内人士透露，台积电并未为A16制程配备高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下，英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
英特尔突破技术壁垒：首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作，以确保其能够顺利融入未来的生产线。
阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果
)光刻机，并已经成功印刷出首批图案。这一重要成就，不仅标志着ASML公司技术创新的新高度，也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前，全球仅有两台高数值孔径EUV
光刻机的发展历程及工艺流程
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
发表于 03-21 11:31
•5956次阅读
ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
3 月 13 日消息，光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
光刻机结构及IC制造工艺工作原理
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
发表于 01-29 09:37
•2803次阅读
英特尔抢下6种ASML HIGH NA光刻机
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
工商网监
评论