SK海力士在半导体领域再次迈出创新步伐,计划在其第6代(1c工艺,约10nm)DRAM的生产中,首次采用Inpria的下一代金属氧化物光刻胶(MOR)。这一突破性的应用标志着MOR技术正式进入DRAM量产工艺。
据悉,SK海力士即将量产的1c DRAM将包含五个极紫外(EUV)层,其中一层将使用MOR进行绘制。这不仅展现了SK海力士在先进制造技术上的领先实力,也预示了半导体制造行业的新趋势。
值得注意的是,不仅SK海力士,三星电子也对该类无机PR材料表现出浓厚兴趣,预计将加入MOR技术的探索与应用行列。这一技术的广泛应用,有望为半导体行业带来更多的创新与突破。
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