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黄仁勋:Blackwell芯片已正式启动生产

要长高 2024-06-04 14:26 次阅读

6月3日,英伟达创始人兼CEO黄仁勋于台北国际电脑展上宣布,旗下备受期待的Blackwell芯片已经正式投入生产。

该芯片被誉为英伟达的最新力作,号称“全球最强芯片”。首款Blackwell芯片命名为GB200,内部搭载高达2080亿个晶体管,由台积电独家研发的4NP工艺制造,该工艺专为Blackwell GPU量身定做,实现两倍光刻极限尺寸。

GB200的设计宗旨在于满足人工智能的发展需求,能助力各类机构构建并运行实时生成式AI应用,且性价比较前代火星架构显着提高25倍,同时能耗更低。

黄仁勋亦披露了公司产品线路图,规划将于2025年推出超级AI芯片Blackwell Ultra,以及2026年推出采用HBM4内存的下一代AI平台Rubin。

Rubin平台将包含8S HBM4 Rubin GPU及Vera CPU等系列产品,展示了英伟达在数据中心规模、技术革新与统一架构方面的持续创新。

此外,英伟达联手多家知名电脑制造商共同发布了基于Blackwell架构的系统“列阵”,旨在协助企业打造“AI工厂”和数据中心,推动生成式人工智能的发展。

黄仁勋表示,AI工厂将引领新的产业革命,而英伟达则通过推出NIM云原生微服务,简化AI模型的部署流程,让企业更轻松地部署AI服务。

供应链对GB200充满信心,预计2025年出货量将破百万颗,占据英伟达高端GPU出货量的近40%-50%。

台积电正积极提升CoWoS产能,以满足英伟达的需求,预计2024年产能将增长逾150%。

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