近日,全球领先的半导体制造设备供应商阿斯麦(ASML)与比利时微电子研究中心(IMEC)共同宣布,位于荷兰费尔德霍芬的High-NA EUV光刻实验室正式启用。
这一里程碑式的事件标志着双方合作研发的高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻技术即将进入大批量生产阶段,预计将在2025至2026年间实现广泛应用。
该实验室的核心设备是一台名为TWINSCAN EXE:5000的原型高数值孔径EUV扫描仪,以及一系列配套的处理和计量工具。这些设备将共同助力未来芯片制造的突破,为行业带来前所未有的精度和效率。
IMEC与ASML的合作不仅推动了High-NA EUV技术的研发,也为领先的芯片制造商和其他相关供应商提供了早期使用这一价值3.5亿欧元先进工具的机会。这一举措不仅展示了双方对技术创新的共同追求,也体现了对全球半导体产业未来发展的深刻洞察。
ASML在周一的声明中表示,预计客户将在2025年至2026年开始使用这一工具进行商业制造。目前,ASML已经向美国英特尔公司出货了另一台测试机器,英特尔计划在其2025年的14A工艺中使用该设备。
分析人士认为,High-NA EUV技术的成熟和普及将对半导体产业产生深远影响。随着技术的不断进步,未来的芯片制造将更加精细、高效,从而推动整个产业的快速发展。IMEC与ASML的此次合作无疑为这一进程注入了强大的动力。
对于行业而言,High-NA EUV技术的广泛应用将带来更高的生产效率和更低的制造成本,进一步推动半导体产业的竞争和创新。同时,这也将促进相关产业链的发展,为全球经济注入新的活力。
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