近日,据韩国媒体报道,三星在其1b nm(即12nm级)DRAM内存生产过程中遇到了良率不足的挑战。目前,该制程的良率仍低于业界一般目标的80%~90%,仅达到五成左右。为了应对这一局面,三星已在上月成立了专门的工作组,致力于迅速提升良率。
值得一提的是,三星的12nm级制程在DRAM内存领域具有显著优势。特别是32Gb的颗粒容量,使得三星能够在不使用TSV(Through Silicon Via)工艺的情况下,生产出高达128GB容量的高密度DDR5 RDIMM内存条。相较于采用TSV技术的3DS DIMM内存,这种常规内存条在功耗上减少了10%,同时制造成本也显著降低。
因此,三星对12nm级制程的32Gb DDR5内存颗粒寄予厚望,视其为未来的主力产品。为了确保这一战略的实现,三星不仅成立了专门工作组,还决定积极扩大12nm级DRAM的产量。据悉,未来华城15和平泽P2晶圆厂将成为这一产品的主要生产基地。
目前,平泽P2晶圆厂主要生产1z nm内存,但三星计划对该厂进行工艺升级,以适应12nm级DRAM的生产需求。随着三星对良率提升和产量扩大的不断努力,我们有理由期待其在未来DDR5内存市场上取得更大的成功。
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