0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

万业企业旗下凯世通半导体:离子注入机基本自主可控!

半导体芯科技SiSC 来源:半导体芯科技SiSC 作者:半导体芯科技SiS 2024-09-13 18:03 次阅读

零部件本土化新质生产力研讨会暨协同创新战略合作签约仪式在上海浦东成功举办。万业企业旗下上海凯世通半导体股份有限公司(以下简称凯世通)携手国内顶尖的集成电路制造企业、中国科学院合肥物质科学研究院等离子体物理研究所,元禾璞华投资管理有限公司,以及众多国内集成电路零部件企业共同参与了此次盛会。通过签订战略合作协议,各方将联合推动技术创新和产学研合作,促进上游零部件企业一体化发展,进而帮助下游用户解决本土芯片制造的连续性挑战。

芯片制造国产化,装备先行;装备国产化,零部件是基础。集成电路产业作为国家综合实力的关键标志之一是新质生产力,上下游协同创新是半导体产业链整体突破的必由之路。离子注入机是集成电路前道设备中系统复杂度最高的核心设备之一,包含数以万计的零部件。凯世通在这一领域积极发挥“链主”功能,与上游众多零部件供应商建立了战略合作关系,并且联合下游应用企业开展新技术和新产品研发,从而打造了一个具有韧性、多元化特征的供应链体系。

万业企业总裁兼旗下凯世通董事长李勇军博士表示,凯世通提早布局,目前已基本实现国产离子注入机供应链自主可控。此次战略合作的签约项目,包括微波等离子体喷枪、静电吸盘材料、真空自动化机器人、超高能射频加速器、射频电源高精度气体流量计等多款关键零部件,致力于填补国内空白,为客户提供性能更优、成本更低、自主可控的产品与服务解决方案。

在上下游产业链的紧密协作下,凯世通多个关键零部件项目已开花结果。其中,微波等离子体喷枪主要用于离子注入静电中和,相对于传统的灯丝型等离子体喷枪,可有效降低金属污染,从而提升芯片制造的良品率。这一零部件是满足AI、HBM、传感器为代表的新质生产力芯片严苛制造要求的关键。经过系列科技攻关与研发创新,凯世通已实现关键技术突破,产品测试性能表现优异,维护成本低,并已交付给客户进行产线验证。

凯世通副总经理、首席技术官夏世伟介绍,离子注入机零部件种类繁多、技术要求极高。凯世通扎实推进离子注入机国产化工作,发挥链主作用,积极拓宽零部件本土化路径。基于正向设计与协同创新的理念,凯世通联合下游应用单位与上游零部件厂商紧密合作,共同开发关键零部件,有序推进国产零部件的验证工作,从而逐步提升对离子注入机零部件核心技术的掌控性、创新性、领先性。

元禾璞华董事总经理陈瑜表示,凯世通以链主为桥梁将众多关键部件企业聚合在一起,不仅有助于提高设备国产化率,还可以加速半导体产业创新、增强产业安全性、增厚半导体新质生产力,为半导体产业协同升级、自主可控提供了一个新的范式。

面向未来,凯世通将继续坚持创新突破,不断支撑集成电路制造产业链稳健运营,为新质生产力发展提供不竭“芯”动力,不断带动更多国产零部件产业链,推动中国制造迈向高端。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 芯片
    +关注

    关注

    450

    文章

    49593

    浏览量

    416982
  • 半导体
    +关注

    关注

    334

    文章

    26273

    浏览量

    209865
  • 零部件
    +关注

    关注

    0

    文章

    360

    浏览量

    14865
收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    上游设备和材料企业最新业绩公布,传递出半导体行业回暖复苏信号?

    电子发烧友网报道(文/李弯弯)半导体设备和材料是半导体产业链中的关键组成部分。半导体设备包括制造设备和封测设备,如用于晶圆制造环节的退火炉、光刻、刻蚀
    的头像 发表于 08-24 00:32 3811次阅读
    上游设备和材料<b class='flag-5'>企业</b>最新业绩公布,传递出<b class='flag-5'>半导体</b>行业回暖复苏信号?

    通收获重点晶圆厂客户多台复购订单

    上海半导体股份有限公司近日传来喜讯,公司再次获得一家重要的12吋主流晶圆厂客户的青睐,成功拿下低能大束流离子注入机的复购订单。自去年一季度起,这位重点客户已多次向
    的头像 发表于 06-06 10:25 494次阅读

    华瑞微电子科技荣获离子注入机专利

    该专利揭示了一款专用于集成电路生产线的离子注入机,属于半导体加工设备技术领域。该设备主要由支撑框架、离子注入机构、照射箱组件和扰流机构组成,同时配备吸尘除尘组件。
    的头像 发表于 05-28 10:06 331次阅读
    华瑞微电子科技荣获<b class='flag-5'>离子注入机</b>专利

    日本住友重工将推出SiC离子注入机

    住友重工离子技术公司,作为住友重工的子公司,计划在2025年向市场推出专为碳化硅(SiC)功率半导体设计的离子注入机。SiC制程虽与硅生产线有诸多相似之处,但由于其高硬度等独特性质,对生产设备提出了特殊要求。
    的头像 发表于 05-20 14:31 746次阅读

    住友重工2025年拟推碳化硅离子注入机

    尽管SiC制造过程中的多数设备与常规硅类通用,但因其具备高硬度特性,需要专属设备支持,包括高级别的高温离子注入机、强效的碳膜溅射仪以及大规模的高温退火炉等。其中,能否拥有高温离子注入机被视为衡量SiC生产线水平的关键指标。
    的头像 发表于 05-17 09:47 495次阅读

    离子注入机的简易原理图

    本文介绍了离子注入机的相关原理。 离子注入机的原理是什么?
    的头像 发表于 04-18 11:31 1453次阅读
    <b class='flag-5'>离子注入机</b>的简易原理图

    通参与上海全球投资大会,推动汽车-宽禁带半导体产业合作

    会上,临港新片区管委会联动企业(600641.SH)旗下通等多家行业翘楚,协同成立“汽车
    的头像 发表于 04-03 15:50 378次阅读

    通联手成立汽车-宽禁带半导体产业链联盟,倡导绿色低碳经济

    临港新片区管委会和企业(600641.SH)下属的通等知名企业联合宣布成立“汽车-宽禁带
    的头像 发表于 04-03 09:23 298次阅读

    通交付首台面向CIS的大束流离子注入机

    据了解,到2024年第一季度为止,该公司已陆续向多个特定客户发出了多个离子注入机订单,单季度就完成了八台离子注入机的客户端上线工作,呈现出迅猛增长的发展态势,取得了良好开局。
    的头像 发表于 03-30 09:34 536次阅读

    什么是离子注入离子注入的应用介绍

    离子注入是将高能离子注入半导体衬底的晶格中来改变衬底材料的电学性能的掺杂工艺。通过注入能量、角度和剂量即可控制掺杂浓度和深度,相较于传统的扩
    的头像 发表于 02-21 10:23 4028次阅读
    什么是<b class='flag-5'>离子注入</b>?<b class='flag-5'>离子注入</b>的应用介绍

    原位掺杂、扩散和离子注入的相关原理及其区别介绍

    半导体改变电阻率的方式有三种,原位掺杂、扩散和离子注入,这三种方式分别过程如何,有何区别呢?
    的头像 发表于 01-05 18:21 3875次阅读
    原位掺杂、扩散和<b class='flag-5'>离子注入</b>的相关原理及其区别介绍

    企业助推通获得批量采购订单

    据业内人士透露,通长期专注于该行业,产品已应用于逻辑、存储、功率等多个应用领域。他们所生产的低能大束流离子注入机和高能离子注入机已经实现了产业化突破,无论是工艺覆盖面,还是良品率,
    的头像 发表于 12-25 10:40 549次阅读

    碳化硅离子注入和退火工艺介绍

    统的硅功率器件工艺中,高温扩散和离子注入是最主要的掺杂控制方法,两者各有优缺点。一般来说,高温扩散工艺简单,设备便宜,掺杂分布轮廓为等向性,且高温扩散工艺引入的晶格损伤低。离子注入工艺复杂且设备昂贵,但它可独立控制掺杂元素的浓度和结深,虽然也会给衬底引入大量的点缺陷和扩展
    的头像 发表于 12-22 09:41 2444次阅读
    碳化硅<b class='flag-5'>离子注入</b>和退火工艺介绍

    离子注入仿真用什么模型

    离子注入是一种重要的半导体工艺,用于在材料中引入离子,改变其物理和化学性质。离子注入仿真是对离子注入
    的头像 发表于 12-21 16:38 833次阅读

    什么是离子注入离子注入相对于扩散的优点?

    想要使半导体导电,必须向纯净半导体中引入杂质,而离子注入是一种常用的方法,下面来具体介绍离子注入的概念。
    的头像 发表于 12-11 18:20 3202次阅读
    什么是<b class='flag-5'>离子注入</b>?<b class='flag-5'>离子注入</b>相对于扩散的优点?