净化机与光刻机：陌路交错，携手开创行业未来

光刻机被称为“半导体行业的璀璨明珠”，融合了光学、流体力学、表面物理与化学、精密仪器、软件和图像等多个领域的尖端技术，其构造由十几万个部件组成。全球有超过5000家领先企业提供相关设备，包括来自德国的光学仪器以及美国的照明系统和计量设备，涉及数千项专利技术。

据工信微报发文，此次指导目录是为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

对于我国的半导体行业来说，能够实现28nm工艺的国产化，已经是非常重要的进步了。28nm芯片广泛应用于智能家电、汽车电子、物联网设备等领域，因此其市场需求依然很大。如果我们的65nm光刻机能够成功量产28nm芯片，不仅能降低对外依赖，还能提升国内芯片的整体供应能力。

根据工信部发布的信息，这次国产光刻机分为两款：一款是氟化氪光刻机，另一款是氟化氩光刻机。我们这里讨论的焦点，就是那款氟化氩光刻机。光刻机的工作原理是通过特定波长的光线，把设计好的芯片电路图形印刻在硅片上。波长越短，能刻出的电路图形就越细，最终也就能制造出工艺更精细的芯片。

具体来看，氟化氪光刻机晶圆直径为300mm（12英寸）；照明波长为248mm；分辨率≤110nm；套刻≤25nm。

相比之下，阿斯麦（ASML）的氟化氪光刻机型号有TWINSCANNXT：870、TWINSCANXT：860N和TWINSCANXT：860M。这三个型号，波长均为248mm；分辨率≤110nm。

而指导目录中更为先进的氟化氩光刻机，其照明波长为193mm，分辨率≤65nm；套刻≤8nm。

这一数据与ASML旗下TWINSCANXT：1460K最为接近。该型号照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此外，该系统可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。

光刻机的精密制造过程对环境条件有着极为苛刻的要求，任何微小的尘埃或污染物都可能对芯片的质量造成严重影响。因此，一个高度洁净、稳定的工作环境是光刻机正常运作和高效产出的前提。广州澳企凭借其深厚的研发实力和行业经验，研发出了实验室净化机，为光刻机等高端电子设备的研发与生产提供了坚实的保障。

半导体实验室环境可以保证室内恒温恒湿以及其他相关条件的稳定性，但是在半导体生产过程中，其产生的危废气体是室内通风系统无法及时处理的盲区部分，因此大多数的实验室都会采用循环通风系统及小范围净化两部分组成。实验室净化机不仅采用了先进的过滤技术和密封设计，能够有效去除空气中的尘埃、微粒、有害气体等污染物，将实验室的洁净度提升至百级甚至更高标准，还配备了智能控制系统，能够实时监测并调节室内温湿度、气流速度等环境参数，确保光刻机工作在最佳状态。此外，其高效节能、低噪音的特点也赢得了业界的广泛赞誉。

结合此次工信部发布的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》中提到的氟化氪光刻机和氟化氩光刻机，广州澳企的实验室净化机更是成为了这些高端设备不可或缺的配套设施。特别是针对氟化氩光刻机，其193mm的照明波长和≤65nm的分辨率要求极高的环境洁净度，广州澳企的净化机能够完美满足这一需求，为光刻机提供了一个近乎无尘的工作环境，助力生产出更高质量的芯片。

光刻机与实验室净化机作为半导体制造过程中的关键设备，各自承担着不可替代的角色。光刻机以其高精度和稳定性确保了芯片制造的质量与效率；而实验室净化机则以其高效的过滤和智能的环境控制为光刻机提供了坚实的保障。两者相辅相成，共同推动着中国半导体行业的蓬勃发展。

审核编辑 黄宇