今日,半导体巨头SK海力士震撼宣布了一项业界瞩目的技术里程碑,该公司已成功在全球范围内率先实现12层HBM3E芯片的规模化生产,此举不仅将HBM存储器的最大容量推升至史无前例的36GB新高度,更进一步巩固了SK海力士在AI应用存储器市场的领军地位。
SK海力士通过其卓越的技术创新能力,成功地将12颗高性能3GB DRAM芯片精妙地堆叠于单一封装之内,而令人惊叹的是,这一壮举并未增加产品的整体厚度,相较于传统的8层产品,实现了容量上的飞跃性增长,增幅高达50%。这一成就的背后,是SK海力士对DRAM制造工艺的极致精研,每片芯片被精心打磨至前所未有的纤薄程度,较以往缩减了40%,同时借助先进的硅通孔(TSV)技术,实现了高效的垂直堆叠,极大提升了空间利用效率。
尤为值得关注的是,SK海力士在追求高容量的同时,也成功克服了堆叠更多超薄芯片所带来的复杂挑战。公司独有的先进MR-MUF工艺不仅让新产品的散热性能较上一代提升了10%,还有效控制了翘曲现象,确保了产品的卓越稳定性和可靠性,为AI应用的长久高效运行奠定了坚实基础。
自2013年首代HBM产品问世以来,SK海力士始终引领行业潮流,作为唯一一家能提供全系列HBM解决方案的供应商,其在该领域的深耕细作有目共睹。此次12层HBM3E芯片的量产,不仅是SK海力士在HBM技术上的又一次重大突破,更是对AI时代对存储性能极限需求的精准回应。
该芯片在性能上同样令人瞩目,其数据传输速度高达9.6Gbps,在支持四个HBM的GPU平台上,能够以前所未有的速度处理大型AI模型如“Llama 3 70B”的巨量数据,每秒可完成35次高达700亿参数的读取操作,为AI模型的训练与推理提供了强大的数据吞吐能力。
市场对此反应热烈,SK海力士股价在韩国市场迅速攀升,涨幅超过8%,公司总市值也跃升至120.34万亿韩元(约合6351.55亿元人民币),彰显了资本市场对公司技术创新能力及未来发展潜力的高度认可。
展望未来,SK海力士表示将继续深耕HBM技术领域,不断探索前沿科技,为全球AI产业的蓬勃发展注入新的活力。随着12层HBM3E芯片的广泛应用,一个以高效存储为核心驱动力的全新AI时代正加速向我们走来。
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