声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
-
封装
+关注
关注
127文章
8128浏览量
143815
发布评论请先 登录
相关推荐
光刻胶成为半导体产业的关键材料
对光的敏感度。在半导体制造过程中,光刻胶通过光化学反应,将掩膜版上的图案精确地转移到硅片表面。 光刻工艺是半导体制造的核心步骤之一。在硅片表面涂上光
掩膜版与光刻胶的功能和作用
掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色,它们的功能和作用各有侧重,但共同促进了芯片的精确制造。 掩膜版,也称为光罩、光掩膜或光刻
如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶?
控SU-8光刻胶烘烤:软烘、后曝光烘烤和硬烘 在整个SU-8模具制备的过程中,微流控SU-8光刻胶需要烘烤2或3次,每一次烘烤都有不同的作用。 第一次
导致光刻胶变色的原因有哪些?
存储时间 正胶和图形反转胶在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响
光刻胶涂覆工艺—旋涂
为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性,必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中,是一种高粘度材料。根据工艺要求
光刻胶的保存和老化失效
通常要考虑光刻胶是否过期失效了。接下来我们将介绍一下光刻胶保存和老化失效的基础知识。 光刻胶的保存 光刻胶对光敏感,在光照或高温条件下其性能会发生变化。
一份PPT带你看懂光刻胶分类、工艺、成分以及光刻胶市场和痛点
共读好书 前烘对正胶显影的影响 前烘对负胶胶显影的影响 需要这个原报告的朋友可转发这篇文章获取百份资料,内含光刻胶多份精品报告【赠2024电子资料百份】6 月 28-30 日北京“电子

评论