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一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

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原文标题：一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

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光刻胶的使用过程与原理

本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。

发表于 10-31 15:59 •92次阅读

掩膜版与光刻胶的功能和作用

掩膜版与光刻胶在芯片制造过程中扮演着不可或缺的角色，它们的功能和作用各有侧重，但共同促进了芯片的精确制造。‌ 掩膜版‌，也称为光罩、光掩膜或光刻

发表于 09-06 14:09 •370次阅读

如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶？

控SU-8光刻胶烘烤：软烘、后曝光烘烤和硬烘在整个SU-8模具制备的过程中，微流控SU-8光刻胶需要烘烤2或3次，每一次烘烤都有不同的作用。第一次

发表于 08-27 15:54 •150次阅读

导致光刻胶变色的原因有哪些？

存储时间正胶和图形反转胶在存储数月后会变暗，而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料，在可见光谱的部分具有很强的吸收能力，对紫外灵敏度没有任何影响

发表于 07-11 16:07 •365次阅读

光刻胶涂覆工艺—旋涂

为了确保光刻工艺的可重复性、可靠性和可接受性，必须在基板表面上均匀涂覆光刻胶。光刻胶通常分散在溶剂或水溶液中，是一种高粘度材料。根据工艺要求

发表于 07-11 15:46 •562次阅读

光刻胶的硬烘烤技术

根据光刻胶的应用工艺，我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结

发表于 07-10 13:46 •542次阅读

光刻胶的一般特性介绍

评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能，这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1

发表于 07-10 13:43 •463次阅读

光刻胶后烘技术

一般光刻过程文章中简单介绍过后烘工艺但是比较简单，本文就以下一些应用场景下介绍后烘的过程和作用。化学放大正胶机理当使用“正常”正

发表于 07-09 16:08 •983次阅读

光刻胶的图形反转工艺

图形反转胶是比较常见的一种紫外光刻胶，它既可以当正胶使用又可以作为负胶使用。相比而言，负

发表于 07-09 16:06 •441次阅读

光刻胶的保存和老化失效

通常要考虑光刻胶是否过期失效了。接下来我们将介绍一下光刻胶保存和老化失效的基础知识。 光刻胶的保存 光刻胶对光敏感，在光照或高温条件下其性能会发生变化。

发表于 07-08 14:57 •634次阅读

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶

发表于 03-20 11:36 •2210次阅读

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

发表于 03-04 17:19 •3784次阅读

光刻胶分类与市场结构

光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。

发表于 01-03 18:12 •1148次阅读

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质？

匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速

发表于 12-15 09:35 •1725次阅读

光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶

发表于 11-13 18:14 •1394次阅读