文章来源:Tom聊芯片智造
原文作者:Tom
随着线条宽度的不断缩小,为了防止胶上图形出现太大的深宽比,提高对比度,应该采用很薄的光刻胶。但薄胶会遇到耐腐蚀性的问题。由此开发出了 双层光刻胶技术,这也是所谓超分辨率技术的组成部分。
涂双层胶一般不是为了增加厚度,如果仅仅为了增加厚度,完全没必要做双层,因为双层胶工艺难度极大,而且各种厚度的光刻胶都可以买到。而双层胶工艺一般是在Lift-off工艺中使用的较多。
一般的lift off胶分辨率较低,如下图所示,无法做更精细的结构:
而双层胶结构可以看出上层胶的开口较小,而下层胶的开口较大,这样在镀膜的时候,可以做出的图形更小。
双层胶的工艺是什么样的?
1,底层胶涂覆,烘烤
2,第二层胶涂敷,烘烤
3,曝光
4,显影
为什么下面的胶溶解的更多?
该双层胶,上层是光刻胶,可曝光可显影,下层胶不感光但可溶于碱溶液。显影时,先将上层的光刻胶显影出图案,之后显影剂开始以各向同性方式溶解底层。这样就制作出了上下两层开口不同的效果。
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原文标题:双层胶工艺是什么?
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