中国专利奖结果公布：新声、中微等半导体企业入选-电子发烧友网

电子发烧友网报道（文/吴子鹏）近日，国家知识产权局在其官网正式对外发布了第二十五届中国专利奖评审结果。根据《中国专利奖评奖办法（2023年修订）》《国家知识产权局关于评选第二十五届中国专利奖的通知》规定，第二十五届中国专利奖共评选出中国专利金奖预获奖项目30项，中国外观设计金奖预获奖项目10项，中国专利银奖预获奖项目60项，中国外观设计银奖预获奖项目15项，中国专利优秀奖预获奖项目610项，中国外观设计优秀奖预获奖项目47项。

作为国民经济支柱性行业之一，信息技术产业的重要组成部分，支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性产业，半导体领域创新是衡量一个国家科技发展水平的核心指标之一。此次评选，有多家国内知名的半导体企业入选，包括深圳新声半导体有限公司、中微半导体设备（上海）股份有限公司、华海清科股份有限公司、广东风华高新科技股份有限公司、山东天岳先进科技股份有限公司、北京智芯微电子科技有限公司等。

新声半导体的体声波谐振器

新声半导体成立于2021年3月，是国家重点扶持的高新技术企业。新声半导体致力于设计与销售各类滤波器，包括BAW、SAW、TC-SAW、TF-SAW、IPD等，提供从滤波器、双工器、多工器到模组的全系列产品，覆盖6GHz以下全频段。

新声半导体入选的专利是《体声波谐振器》，该专利通过实现平坦的电极和压电薄膜结构，极大提升了谐振器的品质因数。新声半导体的该项技术已成功应用于手机、平板电脑、物联网设备及可穿戴装置等多种通信产品中，为这些设备提供了更加稳定和高效的射频解决方案。这一成果不仅满足了5G通信的高性能需求，也让新声在体声波谐振器技术领域实现了全球领先的地位。

虽然相较于其他入选的半导体企业而言，新声半导体的成立时间较短，不过该公司的技术创新能力得到了业界的广泛认可。除了本次入选的专利，近一段时间以来，新声半导体有多项专利结果公开，包括《一种声表面波谐振器及滤波器》专利，该专利申请于2024年11月；《一种温度补偿型声表面波谐振器的制作方法》专利，该专利申请于2024年11月。同时，该公司还有多项“集成电路布图设计专有权公告”发布于国家知识产权局官网。

在高效、高质量的创新推动下，新声半导体的产品已经在智能通讯设备（智能手机、平板等）、物联网和可穿戴等领域落地，高质量完成技术创新到商业落地的成果转化。

中微公司的化学气相沉积装置

中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，为集成电路和泛半导体行业提供极具竞争力的高端设备和高品质的服务。中微开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。

中微公司入选的专利是《一种化学气相沉积装置及其清洁方法》，根据专利介绍，该专利是一种化学气相沉积装置，包括反应腔，位于反应腔上方的反应区域和位于反应腔底部的排气区域，联通到反应腔外部的抽气装置；所述排气区域包括一个隔离装置，将排气区域分隔为内外排布的一个排气腔和一个存储腔，所述隔离装置包括一个侧壁，侧壁上开设有气体开口使排气腔和存储腔之间联通，所述排气区域还包括一个可上下移动的刮擦部件，其可以在所述排气口的上下两端之间移动。

华海清科的化学机械抛光设备

华海清科是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体装备制造商，公司主要产品包括CMP装备、减薄装备、划切装备、湿法装备、晶圆再生、关键耗材与维保服务，打造了“装备+服务”的平台化战略布局。公司核心团队成员来自半导体行业专业人才，公司主要产品及服务已广泛应用于集成电路、先进封装、大硅片、第三代半导体、MEMS、Micro LED等制造工艺。

华海清科入选的专利是《化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备》，这项技术助推国产CMP设备向着更高水平发展。目前，华海清科推出的CMP设备包括Universal-300系列、Universal-200系列和Universal-150系列。其中，Universal-300 T是在华海清科先进CMP设备基础上，根据行业前沿技术需求开发的领先型12英寸CMP设备。该设备基于华海清科自主知识产权的创新技术，配备性能优越的抛光单元，集成多种终点检测技术，并搭载更先进的组合清洗技术，展现出更卓越的清洁效果。该设备可实现晶圆纳米级全局平坦化，满足先进制程技术需求，已在集成电路、先进封装、大硅片等制造工艺中批量应用。

除了上述具体介绍的公司和专利，此次入选的公司和专利还有风华高科和该公司的《一种抗硫化片式电阻器及其制造方法》专利，天岳先进和该公司的《一种高平整度、低损伤大直径单晶碳化硅衬底》专利，芯可鉴科技、智芯微和国网信息通信共同研发的《用于制备高压 LDMOS器件的方法及器件》等。这些公司和专利的入选，代表了国产半导体产业的高水平发展，也表示国产半导体企业对于专利保护越来越重视。