0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

这笔钱花的值!单价1.2亿刀,中芯国际拿下EUV光刻机

dKBf_eetop_1 来源:未知 作者:伍文辉 2018-05-20 10:32 次阅读

据业内最新消息,全球最大的芯片机器制造商、荷兰的AMSL证实,中国向荷兰订购一台最新型的使用EUV(极紫外线)技术的芯片制造机器光刻机,订货单位是中芯国际(SMIC)。这也几乎花掉了中芯国际2017年的所有利润,该公司去年的净利润为1.264亿美元。

不过在大家了解到 EUV 设备有多重要之后,就知道这笔钱花的有多值了。

EUV 作为现在最先进的光刻机,是唯一能够生产 7nm 以下制程的设备,因为它发射的光线波长仅为现有设备的十五分之一,能够蚀刻更加精细的半导体电路,所以 EUV 也被成为“突破摩尔定律的救星”。从2019年半导体芯片进入 7nm 时代开始(现在我们处于 10nm 时代),EUV 光刻机是绝对的战略性设备,没有它就会寸步难行。

在半导体工艺进入10nm节点之后,制造难度越来越大,传统的193nm紫外光刻机也难以为继,EUV极紫外光刻机成为突破制程工艺的关键。

光刻机曾经也是日本佳能、尼康公司的重要产品,不过现在的高端光刻机已经被ASML垄断,在EUV光刻机上更是独一份。日经新闻亚洲版今天报道称,中芯国际(SMIC)已经向ASML公司订购了一台EUV光刻机,单价1.2亿美元,预计在2019年初交付。

此前英特尔三星、台积电以及GF都向ASML下了EUV订单,其中台积电订购了大约10台,三星订购了大约6台,英特尔今年会引入3台EUV光刻机,GF也下了订单,不过日经新闻没提到具体数量。

中国公司能买先进的光刻机?很多人听到这个消息可能不太相信,因为网上一直有传闻称中国公司因为瓦森那协定的关系一直被禁止采购先进光刻机。对于这个问题,网上有很多争议也有很多解答了,日经新闻报道的中芯国际采购EUV光刻机其实也不是新闻了。

去年台媒电子时报采访过中ASML中国区总经理金泳璇,后者辟谣称ASML光刻机并没有禁运问题,该公司对所有客户都一视同仁,不存在有钱买不到的问题。他还透露了已经有中国客户洽谈购买EUV光刻机,如果订单确认的话,那么最快在2019年就会有EUV光刻机进入中国晶圆厂,ASML对此表示乐观。

两边对比的话,这家中国公司就是中芯国际,虽然该公司的14nm工艺要到2019年初才能量产,不过国内有需求EUV光刻机的几乎只有他们了,2017年中芯国际表示他们已经在预研7nm工艺了,订购一台EUV光刻机做研究也是很正常的。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 半导体
    +关注

    关注

    335

    文章

    27939

    浏览量

    224913
  • 中芯国际
    +关注

    关注

    27

    文章

    1427

    浏览量

    65632
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1159

    浏览量

    47716
  • EUV
    EUV
    +关注

    关注

    8

    文章

    609

    浏览量

    86320

原文标题:单价1.2亿刀!中芯国际拿下EUV光刻机!

文章出处:【微信号:eetop-1,微信公众号:EETOP】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    相关推荐

    EUV光刻技术面临新挑战者

      EUV光刻有多强?目前来看,没有EUV光刻,业界就无法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻机
    的头像 发表于 02-18 09:31 301次阅读
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技术面临新挑战者

    光刻机用纳米位移系统设计

    光刻机用纳米位移系统设计
    的头像 发表于 02-06 09:38 136次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>用纳米位移系统设计

    如何提高光刻机的NA

    本文介绍了如何提高光刻机的NA。 为什么光刻机希望有更好的NA?怎样提高?   什么是NA?   如上图是某型号的
    的头像 发表于 01-20 09:44 374次阅读
    如何提高<b class='flag-5'>光刻机</b>的NA<b class='flag-5'>值</b>

    光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片
    的头像 发表于 01-16 09:29 806次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的分类与原理

    组成光刻机的各个分系统介绍

      本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤,其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备,它的工作原理类似于传统摄影的曝光过程,但精度要求极高
    的头像 发表于 01-07 10:02 743次阅读
    组成<b class='flag-5'>光刻机</b>的各个分系统介绍

    日本首台EUV光刻机就位

    据日经亚洲 12 月 19 日报道,Rapidus 成为日本首家获得极紫外 (EUV) 光刻设备的半导体公司,已经开始在北海道芯片制造厂内安装极紫外光刻系统。 它将分四个阶段进行安装,设备安装预计在
    的头像 发表于 12-20 13:48 394次阅读
    日本首台<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>就位

    用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术介绍

    时,摩尔定律开始面临挑战。一些光刻机巨头选择了保守策略,寄希望于F2准分子光源157nm波长的干式光刻技术。2002年,浸润式光刻的构想被提出,即利用水作为介质,通过光在液体的折射特
    的头像 发表于 11-24 11:04 1191次阅读
    用来提高<b class='flag-5'>光刻机</b>分辨率的浸润式<b class='flag-5'>光刻</b>技术介绍

    光刻机的工作原理和分类

      本文介绍了光刻机在芯片制造的角色和地位,并介绍了光刻机的工作原理和分类。         光刻机:芯片制造的关键角色     光刻机
    的头像 发表于 11-24 09:16 3437次阅读

    今日看点丨 2011亿元!比亚迪单季营收首次超过特斯拉;三星将于2025年初引进High NA EUV光刻机

    光刻机售价约3.5亿美元(约合人民币25亿元),远高于ASML标准EUV系列的1.8亿~2亿美元
    发表于 10-31 10:56 883次阅读

    Rapidus对首代工艺0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

    在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus),只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
    的头像 发表于 05-27 14:37 719次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
    的头像 发表于 05-17 17:21 1163次阅读

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 1074次阅读

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机
    发表于 03-21 11:31 7093次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    3 月 13 日消息,光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装,新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
    的头像 发表于 03-14 08:42 646次阅读
    ASML 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    光刻胶和光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 5149次阅读