在PA设计中GaN的I-V曲线有多重要？

作为一项相对较新的技术，氮化镓(GaN)采用的一些技术和思路与其他半导体技术不同。对于基于模型的GaN功率放大器(PA)设计新人来说，在知晓了非线性GaN模型的基本概念（非线性模型如何帮助进行 GaN PA 设计？）后，了解I-V曲线（亦称为电流-电压特性曲线）是一个很好的起点。本篇文章探讨I-V曲线的重要性，及其在非线性GaN模型（如Modelithics Qorvo GaN库里的模型）中的表示如何帮助您更精确、更高效地完成设计流程。

场范围(pitch)是什么？

您可将 I-V 曲线看作一个足球场（有时也称为“pitch”），其限值决定了微波信号的边界，如下图所示。简而言之，一旦触及边界，就会发生信号削波，这会导致压缩和非线性失真。边界值由以下参数设置：

拐点电压和最大电流(Imax)，由图中角上的标记m1表示

零电流线，对应于栅极-源极夹断电压(Vpo)

击穿电压(VBR)，由右边电流曲线的上升沿表示

基于 Modelithics Qorvo GaN 库的图形而重新创建

拐点电压、偏置条件和增益

该图还显示了以下信息：

标记m1表示拐点电压(Vk)。

标记m2、m3和m4表示标称静态偏置条件，分别代表A级、AB级和B级常规PA工作级或模式。当然，还有其他模式，例如C级偏置对应于比夹断电压更低的负栅极电压，因此射频电流导通时间小于栅极电压输入波形的半周期。

不同的曲线代表不同的栅极-源极电压值，从夹断值（本例中约为‑4 V）到微正值(Vgs= 1 V)。本器件允许的绝对最大电流(Imax)约为900 mA，击穿电压(VBR)约为118 V。

不同Vgs值的I-V曲线的间距与所谓的跨导(gm≈ΔIds/ΔVgs)有关，跨导与增益有关。（图中Vgs的阶跃电压为0.2 V。）请注意，在m4（B级偏置）附近，与m3（AB级）相比，曲线间距更近。AB级具有与B级相似的效率优势，并且增益更高，这是其成为首选的原因之一。

可获得多大的射频功率？?

上图还显示了一条蓝色虚线和一条深灰色实线，用于表示交流信号会往复摆动的负载线路。在理想意义上，深灰色线考虑到最大限度地利用I-V“运行场”，并允许信号充分利用最大电流和最大电压摆幅。

在本例中，静态偏置电压原则上可设置为61 V。但是，出于可靠性和设计裕量的考虑，我建议使用更低的标称偏置电压（始终小于击穿电压的一半）和不同的最佳负载线路（这里我们选择了28 V，在上图中标记为m2、m3和m4）。器件的潜在功率（对于A级和B级）可以简单地用0.25*(VdsQ-Vk)*Imax来大致估算。此处所示器件的输出功率约为5 W。

对于给定的工艺，击穿电压趋于恒定值，因此可以通过增加栅极宽度来获得更高功率。这将引入一个衡量功率性能的常见参数，称为功率密度，GaN的功率密度为5-10瓦/毫米(W/mm)栅极宽度，GaAs晶体管的功率密度为0.5至1 W/mm。

简而言之，为了在削波前使电流/电压峰值达到最大值以优化功率输出，负载电阻将是负载线路斜率的倒数（忽略器件和封装的反应性寄生效应）。最佳功率负载总是不同于按照线性电路理论所得出的最大程度提高器件增益所需的功率负载。

GaN扩大I-V“运行场”的能力

回到对功率性能的简单估算，0.25*(VdsQ-Vk)*Imax，因此，可以通过使用以下器件获得更高功率：

Imax值更高的器件

可在更高静态电压下运行的器件

两者兼具（更高Imax和VdsQ）的器件

商用GaN工艺的击穿电压在100 V和200 V之间，比GaAs的击穿电压高出一个数量级，也是典型LDMOS工艺的两倍以上。GaN有效地扩展了上述I-V运行场的边界，对于高功率PA设计而言，这种I-V曲线扩展非常令人振奋。

是否存在让我们担扰的陷阱？

俘获效应是影响GaAs和GaN HEMT器件工作的一个电学现象。它发生于器件的外延层，其中可用于增强HEMT沟道中电流的电子实质上被“陷”入缺陷状态，该缺陷发生在GaAs或GaN格栅表面或内部。这种效应具有电压依赖性，并随时间推移会降低器件的运行性能，影响拐点电压之类的参数。

GaN俘获效应的一个众所周知的影响称为拐点蠕变，它将使I-V曲线的拐点电压右移，如下图所示。

好消息是非线性GaN模型可帮助预测这种俘获效应的行为。下图显示了Modelithics Qorvo GaN模型中捕获的一个Qorvo裸片模型的I-V曲线。它显示了在短脉冲条件下（例如0.05%占空比下0.5 µs脉冲宽度）的两种不同静态漏极电压（12 V和28 V，下图中标记为VdsQ1和VdsQ2）的仿真。

基于 Modelithics Qorvo GaN 库的图形而重新创建

您可看到拐点电压和Imax如何受到与陷阱相关的拐点蠕变效应的影响。将自热参数输入值设置为零时，该模型数据很好地再现了在12 V和28 V静态漏极电压（VgsQ设置为夹断值）短脉冲条件下测得的I-V曲线。

我们从上述讨论中得知，这两个参数会相应地影响器件的最大功率，因此模型随工作电压而跟踪I-V变化的能力将十分重要，具体取决于应用。

非线性模型可加快设计流程

了解I-V曲线的影响和细微差别及其对PA设计的基本限制和影响十分重要。如果您是这个领域的新手，希望本文有助于您了解I-V曲线中许多有用的信息！

选择负载条件以最大程度地提高大信号功率性能，这与线性共轭匹配的思路完全不同，因此在设计流程中使用非线性GaN模型可帮助您第一次就获得正确设计。无需过多担心与晶体管的输出阻抗匹配，我们需要考虑的是如何最大程度地提高I-V“运行场”上的电流和电压变化摆幅，这由I-V曲线的边界值控制，从拐点电压和最大电流沿着选定的负载线路下降至夹断区域。