0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

光刻胶国产化项目落地咸阳,未来可期!

XcgB_CINNO_Crea 来源:未知 作者:胡薇 2018-07-19 09:09 次阅读

随着现场观众热情的倒计时欢呼,在热烈的掌声中,默克与中电彩虹的创新合作项目光刻胶国产化项目于 7 月 17 日在陕西咸阳正式竣工。

默克通过提供技术支持、工艺与原材料,携手中电彩虹,在短短四个月内就建成了国内领先的光刻胶生产线。在占地 1000 多平方米的厂房内,这里将生产出高品质的光刻胶产品,提供给本地平板制造企业。

去年中电彩虹与默克正式签约合作,投资 5800 万元建设彩虹正性光刻胶项目。该项目投产后,年产液晶正性光刻胶 1800 吨,销售额 1.4 亿元,产能位居国内第二。项目的建成投产进一步完善了中国电子和咸阳的平板显示产业链,增强了彩虹集团在电子材料领域的产业实力,同时也为彩虹与默克的进一步合作奠定了坚实基础。

“ 今天,我们很骄傲地见证中电彩虹光刻胶生产厂的竣工。自中电集团涉足平板显示制造以来,默克就开始了与中电集团的合作,其中包括彩虹在咸阳的最新 G8.6 线。我们非常感谢中电集团为中国平板显示行业做出更多贡献的决心,并很荣幸有机会与中电彩虹就这个光刻胶国产化项目展开合作。”默克中国总裁兼高性能材料中国区董事总经理安高博(Allan Gabor)评价道,“ 特别是彩虹集团对于默克的信任,这是项目成功的基石。默克将继续致力于与本地客户和合作伙伴的合作,携手共进,不断推动中国先进技术的发展。”

|安高博参观中电彩虹光刻胶生产线

“彩虹将聚焦国家战略,加大科技创新、提高核心能力,把新材料产业作为彩虹的支柱产业大力发展。我们将在中电集团和咸阳市的大力支持下,加大与默克的合作,谋划打造具备全球影响力的咸阳新材料产业园,努力实现各方共赢,实现高质量发展的彩虹3.0版本。”彩虹集团党委书记、董事长司云聪对此项给予了高度评价。

“在如此短的 4 个月内完成这个项目,从硬件建设到生产设施安装、设备选择、知识转移和落地,默克和中电彩虹都紧密地合作在一起。整个项目都在以惊人的速度向前发展。我坚信随后在中电彩虹的生产将一样顺利。默克公司还将在试生产期间尽最大努力支持中电彩虹。”默克高性能材料业务显示科技事业部中国区总经理李俊隆对于项目的快速推进给予了高度的评价。

来自显示科技事业部的徐普是这个项目的倡议者,他也凭借这个他最为自豪的成就获得了 2018 年默克高性能材料业务中国销售精英奖。

|徐普(右2)与默克项目团队合影

去年 5 月份,默克跟中电中电集团签署了战略合作—默克正式宣布提供前端原材料给客户,并配合客户建厂。此前,这个合作倡议遇到了不少挑战,在徐普和高性能材料中国区的管理团队努力下,最后促成了此项合作,既成功维护了默克在中电的业务,又确保了默克市场领先地位。

以上是来自中国光学电子行业协会液晶分会的贺信

作为一个创新的合作案例,徐普牵头的这个合作项目,也得到了液晶行业协会的肯定。“ 最近每次协会开会时,都要提到这个经典案例,说明默克集团是开放的。”

他笑着说,“ 支持想往前端发展的国内客户,帮助中国企业不断成长。”默克作为跨国企业,对中国面板行业的不断付出,大家都看在眼里。徐普倍感骄傲,他的工作不仅帮助默克开拓了市场,更扩大了默克在行业内的影响力。连锁效应,未来可期。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 光刻胶
    +关注

    关注

    10

    文章

    312

    浏览量

    30130

原文标题:MERCK | 默克与中电彩虹携手推动光刻胶国产化

文章出处:【微信号:CINNO_CreateMore,微信公众号:CINNO】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    一文看懂光刻胶的坚膜工艺及物理特性和常见光刻胶

    共读好书关于常用光刻胶型号也可以查看这篇文章:收藏!常用光刻胶型号资料大全,几乎包含所有芯片用光刻胶欢迎扫码添加小编微信扫码加入知识星球,领取公众号资料
    的头像 发表于 11-01 11:08 158次阅读

    光刻胶的使用过程与原理

    本文介绍了光刻胶的使用过程与原理。
    的头像 发表于 10-31 15:59 172次阅读

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻胶

    在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用烘台或者烤设备对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8
    的头像 发表于 08-27 15:54 179次阅读

    导致光刻胶变色的原因有哪些?

    存储时间 正和图形反转在存储数月后会变暗,而且随着储存温度升高而加速。因为该类型光刻胶含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可见光谱的部分具有很强的吸收能力,对紫外灵敏度没有任何影响。这种变色过程
    的头像 发表于 07-11 16:07 427次阅读

    光刻胶的硬烘烤技术

    根据光刻胶的应用工艺,我们可以采用适当的方法对已显影的光刻胶结构进行处理以提高其化学或物理稳定性。通常我们可以采用烘烤步骤来实现整个光刻胶结构的热交联,称为硬烘烤或者坚膜。或通过低剂量紫外线辐照
    的头像 发表于 07-10 13:46 650次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的硬烘烤技术

    光刻胶的一般特性介绍

    评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能,这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. 灵敏度 灵敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所
    的头像 发表于 07-10 13:43 516次阅读

    光刻胶后烘技术

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻胶膜的烘烤过程。由于光刻胶膜还未显影,也就是说还未闭合,PEB也可以在高于光刻胶软化温度的情况下进行。前面的文章中我们在
    的头像 发表于 07-09 16:08 1090次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>后烘技术

    光刻胶的图形反转工艺

    图形反转是比较常见的一种紫外光刻胶,它既可以当正使用又可以作为负使用。相比而言,负工艺更被人们所熟知。本文重点介绍其负
    的头像 发表于 07-09 16:06 493次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>的图形反转工艺

    光刻胶的保存和老化失效

    我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能,但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题,其实这个问题应该在我们购买光刻胶前就应该提出并规划好。并且,在
    的头像 发表于 07-08 14:57 721次阅读

    关于光刻胶的关键参数介绍

    与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶
    的头像 发表于 03-20 11:36 2332次阅读
    关于<b class='flag-5'>光刻胶</b>的关键参数介绍

    光刻胶光刻机的区别

    光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
    的头像 发表于 03-04 17:19 4366次阅读

    光刻胶分类与市场结构

    光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
    发表于 01-03 18:12 1182次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>分类与市场结构

    速度影响光刻胶的哪些性质?

    光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀中至关重要的参数,那么我们在匀时,是如何确定匀速度呢?它影响
    的头像 发表于 12-15 09:35 1778次阅读
    匀<b class='flag-5'>胶</b>速度影响<b class='flag-5'>光刻胶</b>的哪些性质?

    光刻胶价格上涨,韩国半导体公司压力增大

    光刻胶类别的多样,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JS
    的头像 发表于 12-14 15:20 1044次阅读

    光刻胶国内市场及国产化率详解

    KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
    发表于 11-29 10:28 644次阅读
    <b class='flag-5'>光刻胶</b>国内市场及<b class='flag-5'>国产化</b>率详解