发展国产芯片一直是中国人多年的梦想,随着全社会的努力,国产芯片已获得了很大的成就,在设计、制造、封装等环节都有长足的发展。从设计图纸到加工成品,一颗小小的芯片离不只开很多高技术装备的使用,光刻机就是发展国产芯片的核心技术装备,国内有家公司将使用最先进的光刻机装备,钻研7nm制程的芯片制造。。
有些朋友会诧异,咱们国产芯片怎样会进展到7nm工艺呢,国际上有些厂商已抛却了研发7nm制程芯片,中国***的联电科技宣告抛却7nm制程及更先进工艺的研发,研发7nm支持这家公司就是中芯国际,目前已向荷兰ASML公司订购了一台EUV光刻机,用于7nm节点。
中芯国际在近期实现了14nm制程的重大进展,中芯国际目前已有信念以及实力量产出高通骁龙820、麒麟960、苹果A10等芯片,一旦掌握14nm制程技术,中芯国际极有可能跳过10nm制程,直接开始7nm制程技术攻关,中芯国际不只会按部就班地再走10nm制程,由于10nm很快会过时。
中芯国际已在做这样的筹备,否则没有必要就在今年下单订购7nm制程的EUV光刻机,毕竟这是当前的世界上最先进的光刻机,能够用它量产7nm制程芯片的厂商还只有台积电一家,尽管中芯国籍这么做,但要想超出台积电就只能撒手一搏,先拿到7nm制程的装备,台积电未来3年的建厂计划已进展到了5nm、3nm制程。
如果深入分析市场格局,咱们发现,除台积电已实现量产了,目前明年表态弄7nm制程芯片的厂商就只有三星以及英特尔了,三星将在2019年量产7nm芯片,而英特尔则要到2020年后。中芯国际则在2019年开始量产14nm制程的芯片,而对7nm制程的钻研已开始了,可能会在2020年后实现7nm重大技术突破。。
声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。
举报投诉
相关推荐
电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(
发表于 10-17 00:13
•2649次阅读
1. 三星将于2025 年初引进High NA EUV 光刻机,加快开发1nm 芯片 据报道,三星电子正准备在2025年初引入其首款High NA EUV(极紫外)光刻机设备,这标
发表于 10-31 10:56
•775次阅读
最近网上因为光刻机的事情,网上又是一阵热闹。好多人又开始讨论起28nm/7nm的事情了有意无意之间,我也看了不少网上关于国产自主7nm工艺的
发表于 10-08 17:12
•205次阅读
近日,国内半导体行业迎来重要里程碑,北京显芯科技有限公司成功实现全球首款28纳米内嵌RRAM(阻变存储器)画质调节芯片的量产。这款
发表于 09-11 17:17
•2232次阅读
近日,全球光刻机巨头ASML的首席执行官Christophe Fouquet在接受外媒采访时,发表了一系列引人深思的言论。他指出,尽管由于复杂的地缘政治因素,ASML无法向中国厂商出售最先进的光刻机,但全球
发表于 07-09 14:20
•552次阅读
的一部分,目前正在对其进行测试,该设备可确保生产350nm的芯片。什帕克还指出,到2026年将获得130nm的国产
发表于 05-28 15:47
•704次阅读
的芯片。Shpak表示,“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”俄罗斯接下来的目标是在2026年制造可以支持130nm工艺的
发表于 05-28 09:13
•641次阅读
disable)台积电相应机器,而且还可以包括最先进的极紫外光刻机(EUV)。 这就意味着阿斯麦(ASML)留了后门,随时有能力去远程瘫痪制造芯片的光刻机。 要知道我国大陆市场已经连
发表于 05-22 11:29
•5722次阅读
据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
发表于 05-17 17:21
•883次阅读
光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影
发表于 03-21 11:31
•5734次阅读
、产量、销量、需求量、销售收入等数据,2019-2030年)
第4章:全球7nm智能座舱芯片主要地区分析,包括销量、销售收入等
第5章:全球7nm智能座舱芯片主要厂商基本情况介绍,包括
发表于 03-16 14:52
光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
发表于 03-04 17:19
•4378次阅读
光刻机是微电子制造的关键设备,广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中,光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
发表于 01-29 09:37
•2567次阅读
现时,ASML是全球唯一的EUV光刻机制造商,这台设备主要应用于生产7nm及以下制程芯片。目前,ASML年产此类设备数量有限,供不应求。李在镕本次来访韩国主要是与ASML商讨优先供应事宜。
发表于 12-18 14:31
•509次阅读
芯片的7nm工艺我们经常能听到,但是7nm是否真的意味着芯片的尺寸只有7nm呢?让我们一起来看看吧!
发表于 12-07 11:45
•5337次阅读
评论