新诺科技掌握了数字化光刻技术的源头

光刻设备被誉为“工业技术皇冠上的明珠”，它是电子产业中最核心的装备。中山新诺科技是一家专门从事于数字化激光光刻设备研发、生产和销售的高端装备制造商。 2009年底将在国际上最早发明无掩模曝光的 技术团队引入国内，2012年获得广东省创新团队的支持。 到2017年9月，新诺科技已完成8个系列光刻设备的研发，累计发、售超过200台数字化曝光设备。多款光刻设备入选“广东省首台套设备”。

在世界范围内越来越重视知识产权的今天，很多企业因为没有独立知识产权而丧失了核心竞争力。新诺科技始终把知识产权作为公司的根本和核心竞争力，掌握了数字化光刻技术的源头，是国内唯一一家拥有光刻技术原始专利并可在世界范围内使用的光刻设备制造商，已将光刻设备出口销往美国、荷兰、新加坡、韩国和***等国家和地区。新诺科技在原始专利的基础上，创新出大量自主知识产权：申请专利75项（已授权中国发明17项、实用新型10项、 美国发明3项）；软件著作权7项；企业标准3项。

技术来源

新诺科技的核心技术源自公司CTO梅文辉博士——世界上首位将数字微镜阵列（DMD）技术应用于光刻领域的科学家，被光刻行业誉为“The Father of Maskless”（无掩模光刻之父）。

1998~2006年，梅博士在美国球型半导体公司带领团队研究无掩模光刻技术，并围绕这项研究 获得了100多项专利技术，之后梅博士的无掩模光刻专利被国际上数家大公司采用。

2009~2010 年重组美国球形半导体公司，将梅文辉博士主导的研发团队集合在一起，利用加拿大Aiscent Tech公司作为平台，取得LDI发明专利在世界范围内的使用权，将这项技术和团队带回中山新诺科技股份有限公司，重新开始展开研发、生产、销售无掩模光刻设备的业务，并快 速扩展到多个领域的无掩膜光刻的应用之中。

发展历程

2017年，客户端

累计装机200台

荣誉资质

知识产权

公司掌握了国际上数字化光刻技术的源头，拥有数字化光刻技术原始专利并在此基础上创新出大量自主知识产权：申请专利75项（已授权中国发明17项、实用新型10项、 美国发明3项）；软件著作权7项；企业标准3项。

技术及主要产品

新诺科技分别开发了适用于高精度电路板、大平板显示、半导体集成电路、集成电路高密度封装、触摸屏、大面积光掩模版、光化学精密加工等领域应用的无掩模光刻设备系列产品。其中已产业化的有：高精密印刷电路板（PCB）数字化光刻（单台面、双台面、全自动连线）设备；激光无掩模双面LDI设备；集成电路芯片高密度/3D封装数字化光刻设备；卷到卷柔性线路板激光直接曝光设备；触摸屏无掩模曝光设备；高精密光掩模和金属掩模激光直写曝光设备；TFT/OLED显示屏数字化光刻设备。国内外的客户已经超过100多家（包括美国，荷兰，新加坡，韩国等发达国家，其中双面数字化光刻设备销售给国际上最大的光刻设备ASML公司的平行公司ASM Pacific）。

高精度印刷电路板曝光设备

01单台面激光直接成像曝光系统PCB系统Jupiter 8000系列

应用领域：高精度HDI、内外层板、多层板、软板量产，快板打样，多品种小批量生产。

产品特点

适用于湿膜、干膜内外层板曝光制程

高功率低能耗半导体激光器

多光学引擎扫描技术

实时涨缩管控和分区域失真补偿技术

02双台面直接成像曝光系统PCB系统Jupiter 8000系列

应用领域：高精度HDI、PCB、FPS的高速量产

打样，多品种小批量生产。

产品特点

采用双台面结构

可采用大功率混合波长激光光源

多光学引擎扫描技术

实时涨缩管控和分区域实战补偿技术

03全自动连线直接成像曝光系统PCB系统Jupiter 8000系列

应用领域：广泛应用于HDI、FPC、硬板结合的内外层线路制程，大批量生产。

产品特点

高功率低能耗固态光源

多光学引擎扫描技术

实时涨缩管控和分区域失真补偿技术

全制程兼容性

超高的产能

04丝网直接制版系统PCB系统CTS系列

应用领域：CTS系统是专门针对高精度、大面积网版曝光而实际的直接成像（数字化曝光）设备。主要应用于：电路板印刷（字符、线路、防焊）、工业品印刷、触摸屏、太阳能电池、工程玻璃及汽车玻璃、印染、陶瓷灯希望印刷行业的丝网曝光制版。

产品特点

兼顾高产能和高精度

无需使用菲林，采用数字化直接成像技术，大幅度降低网版制作的人工、材料成本。资料分辨力最高可至23400dpi，提升网版的生产精度及品质。

更优秀的成像品质和不同耗材的应用性

采用高功率固态光源，方形像素可提供更高的成像质量，高能量可支持传统的感光材料，光源寿命长，可靠性高，无污染。

低维护成本

采用固态光源和LED光源具有寿命长和维护成本低的优势。

设备使用能耗低，仅为传统曝光机的一半。

国内主要客户