继台积电(TSMC)于10月初宣布7nm极紫外光(EUV)芯片首次流片成功后,三星(Samsung)也宣布投片并逐步量产多款7nm极紫外光(EUV)芯片。
尽管台积电早已量产的7nm工艺抢走了大部分订单,但是其第二代采用EUV工艺的7nm芯片尚未量产。随着三星7nm LPP EUV工艺的量产,其在晶圆代工领域呈现后来居上态势。至于英特尔仍陷入10纳米量产递延的泥淖里,在工艺竞赛里恐居次落后。
三星7nm LPP芯片量产“抓紧”高通
10月18日,三星宣布7nm LPP(Low Power Plus)制程已进入量产阶段,全球首发EUV工艺,成功应用EUV微影技术。官方称基于EUV的7nm LPP成功量产为其推进3nm奠定了基础、指明了道路。而在产能方面,主要在韩国华城的S3工厂,2020年前会再开一条新产线。
据了解,三星7nm LPP采用EUV光刻,日产能已达到1500片。相较于其10nm节点,三星的7LPP工艺缩小多达40%的芯片面积,性能提升20%,并降低50%的功耗,消耗的掩膜也减少了20%。
一直以来,三星与高通的合作都较为紧密。然而由于三星7nm工艺迟迟未有进展,有传言称高通最新芯片骁龙8150可能转由台积电代工。随着三星第二代EUV工艺的7nm芯片量产后,骁龙8150等SoC的代工也迎来了变数。
据悉,高通新一代的5G基带将采用三星的7nm LPP工艺,而骁龙8150/8180等SoC的代工是否会被三星拿下,也值得期待。
随着GlobalFoundries宣布将其7nm计划无限期搁置后,7nm及以下工艺赛道的“玩家”越来越少。2018年4月,台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产,并拿下苹果、华为、超微等客户大单。近日,台积电更是一举拿下2019年苹果A13芯片大单,大幅拉开与其他晶圆代工厂的差距。
10月18日,在台积电法说会上,台积电总裁暨副董事长魏哲家针对7纳米的进展表示,2019年包括手机、高速运算、绘图处理器与人工智能等四大平台需求都相当强劲,7nm与增强版7nm工艺已超过100个产品设计定案(Tape out),明年7nm工艺比重将远高于2成水准,预计7nm增强版要到2020年出货会较多。
目前,台积电已于2017年第4季进行了7nm试产,部光罩工艺采用极紫外光(EUV)技术的7+(7nm强化版)预定2019年进入量产。
下一阶段,台积电开始在***地区建设一座全新的5nm晶圆厂,预计将于2019年4月开始在5nm节点上实现完整的EUV风险试产,2020年上半年量产。
值得一提的是,分析师郭明錤日前也透露了台积电未来的产品规划与动向,其预测台积电将会在2023年到2025年的时候将有望突破的3nm或者5nm的时候为苹果提供驾驶辅助系统定制款芯片。
反观 Intel,刚发布的秋季桌面处理器i9仍然是14nm,而拖延已久的10nm要到2019年才能量产,7nm则是遥遥无期,5nm目前仍未见端倪。
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原文标题:【IC制造】晶圆代工三足鼎立 7纳米世代台积三星龙虎争霸
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