0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

ASML研发下一代EUV光刻机 华为将满足英国提出的要求

t1PS_TechSugar 来源:cg 2018-12-09 09:12 次阅读

华为将满足英国就5G网络提出的一系列要求

12月7日消息,据英国《金融时报》报道,华为已同意英国安全官员提出要求,解决其设备和软件中发现的风险,以避免被未来5G电信网络拒之门外。

英国《金融时报》援引两位知情人士的话报道称,在本周举行的由华为高管与GCHQ国家网络安全中心高级官员参加的一次会议上,华为同意将满足一系列技术要求,这些要求将改变华为在英国的业务。

中国首款国产量子计算机控制系统诞生

合肥本源量子计算科技有限责任公司(简称本源量子)6日晚间宣布,该公司研制的中国首款完全自主知识产权的量子计算机控制系统在合肥诞生。据媒体报道称,中国科学院量子信息重点实验室主任郭光灿院士介绍,量子计算机是一个复杂系统,除了核心芯片外,操作控制系统是重要的核心器件之一。

本源量子对半导及超导量子比特进行创新利用与研发,研制了一套精简、高效的量子计算机控制系统——本源量子测控一体机OriginQ Quantum AIO,可将所有量子计算控制系统的功能,集成在一台能够完整实现对量子芯片控制的机器内。根据介绍,本源量子将基于这一控制系统,在未来三年左右推出具有30位量子比特数的量子计算机原型机。

ASML正在开发下一代EUV***

ASML的副总裁Anthony Yen日前表示,他们已经开始研发下一代***。他表示,在他们公司看来,一旦现有的系统到达了极限,他们有必要去继续推动新一代产品的发展,进而推动芯片的微缩。

据介绍,较之他们的客户三星Intel和台积电都正在使用的3400系列,ASML 5000将会有更多的创新。Yen在本周于旧金山举行的IEEE国际电子设备会议上告诉工程师,其中最引人注目的是机器数值孔径(numerical aperture)从现在的0.33增加到0.55 。数值孔径是无量纲(dimensionless quantity)的数量,与光的聚焦程度有关。数值孔径越大意味着分辨率越高。改变EUV机器中的数值孔径将需要更大,更完美抛光的成像镜组。

马斯克与NASA副局长会面

商讨SpaceX载人飞船试飞

12月7日消息,据彭博社报道,美国当地时间周四,SpaceX首席执行官埃隆·马斯克(Elon Musk)会见了美国宇航局(NASA)的一名副局长,讨论了即将进行的载人飞船试飞事宜,这对SpaceX成为NASA首家载人航天伙伴至关重要。

NASA女发言人梅根·鲍尔斯(Megan Powers)在电子邮件中写道,马斯克在华盛顿与NASA负责人类探索和操作的副局长比尔·格斯滕迈尔(Bill Gerstenmaier)举行了会面,两人讨论了SpaceX定于明年1月份进行的Demo-1试飞事宜。

SpaceX和波音公司已经与NASA签署合同,负责将美国宇航员运送到国际空间站上。

台积电15年来首度兴建8英寸厂

台积电总裁魏哲家6日在一年一度的供应链论坛中透露,台积电将在南科六厂旁,新建一座8英寸厂,满足客户对特殊制程要求。这是2003年台积电在上海松江8英寸厂成立后,台积电15年来第一次新建8英寸厂。

台积电供应链表示,台积电增建新产能,主要因应车用芯片对高压制程强劲需求。魏哲家除了提到以特殊制程为主,并未对投资金额、完工时程做详细说明。过去一年以来,8英寸制程市场供需吃紧已久,魏哲家表示,新建8英寸厂主要锁定特殊制程,满足客户需求。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 华为
    +关注

    关注

    216

    文章

    34426

    浏览量

    251601
  • 光刻机
    +关注

    关注

    31

    文章

    1150

    浏览量

    47388
  • ASML
    +关注

    关注

    7

    文章

    718

    浏览量

    41233

原文标题:马斯克计划试飞载人飞船;ASML正在开发下一代EUV光刻机;台积电新建8寸厂 |新闻精选

文章出处:【微信号:TechSugar,微信公众号:TechSugar】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    光刻机巨头ASML业绩暴雷,芯片迎来新轮“寒流”?

    电子发烧友网报道(文/黄山明)作为芯片制造过程中的核心设备,光刻机决定着芯片工艺的制程。尤其是EUV光刻机已经成为高端芯片(7nm及以下)芯片量产的关键,但目前EUV
    的头像 发表于 10-17 00:13 2758次阅读

    日本首台EUV光刻机就位

    本月底完成。 Rapidus 计划 2025 年春季使用最先进的 2 纳米工艺开发原型芯片,于 2027 年开始大规模生产芯片。 EUV 机器结合了特殊光源、镜头和其他技术,可形成超精细电路图案。该系统体积小,不易受到振动和其他干扰。 ASML 是全球唯
    的头像 发表于 12-20 13:48 102次阅读
    日本首台<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>就位

    光刻机巨头抛出重磅信号 阿斯麦(ASML)股价大幅上涨

    ,维持乐观的长期收入前景。预期毛利率则更是利好,毛利率高达56%至60%之间。 此外,阿斯麦公司还承诺增加派息和股票回购。 ASML的CEO  Christophe Fouquet在会议上透露:“ASML有能力
    的头像 发表于 11-15 19:48 5275次阅读

    ASML拟于2030年推出Hyper-NA EUV光刻机芯片密度限制再缩小

    ASML再度宣布新光刻机计划。据报道,ASML预计2030年推出的Hyper-NA极紫外光EUV),
    的头像 发表于 06-18 09:57 496次阅读

    后门!ASML可远程锁光刻机

    来源:国芯网,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 5月22日消息,据外媒报道,台积电从ASML购买的EUV极紫外光刻机,暗藏后门,可以在必要的时候执行远程锁定! 据《联合早报》报道,荷兰方面在
    的头像 发表于 05-24 09:35 566次阅读

    ASML考虑推出通用EUV光刻平台

    范登布林克指出,更高的数值孔径能提高光刻分辨率。他进步解释说,Hyper NA 光刻机简化先进制程生产流程,避免因使用 High NA 光刻机
    的头像 发表于 05-23 09:51 447次阅读

    丰田、日产和本田合作开发下一代汽车的AI和芯片

    丰田、日产和本田等日本主要汽车制造商确实计划联手开发下一代汽车的软件,包括在生成式人工智能(AI)和半导体(芯片)等领域进行合作。
    的头像 发表于 05-20 10:25 973次阅读

    台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

    据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-N
    的头像 发表于 05-17 17:21 977次阅读

    ASML发货第二台High NA EUV光刻机,已成功印刷10nm线宽图案

    ASML公司近日宣布发货了第二台High NA EUV光刻机,并且已成功印刷出10纳米线宽图案,这重大突破标志着半导体制造领域的技术革新向前迈进了
    的头像 发表于 04-29 10:44 811次阅读

    英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

    英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
    的头像 发表于 04-22 15:52 920次阅读

    阿斯麦(ASML)公司首台高数值孔径EUV光刻机实现突破性成果

    )光刻机,并已经成功印刷出首批图案。这重要成就,不仅标志着ASML公司技术创新的新高度,也为全球半导体制造行业的发展带来了新的契机。目前,全球仅有两台高数值孔径EUV
    的头像 发表于 04-18 11:50 922次阅读
    阿斯麦(<b class='flag-5'>ASML</b>)公司首台高数值孔径<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻机</b>实现突破性成果

    光刻机的发展历程及工艺流程

    光刻机经历了5产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式
    发表于 03-21 11:31 6251次阅读
    <b class='flag-5'>光刻机</b>的发展历程及工艺流程

    ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装

    ASML 官网尚未上线 Twinscan NXE:3800E 的信息页面。 除了正在研发的 High-NA EUV 光刻机 Twinscan EXE 系列,
    的头像 发表于 03-14 08:42 549次阅读
    <b class='flag-5'>ASML</b> 首台新款 <b class='flag-5'>EUV</b> <b class='flag-5'>光刻机</b> Twinscan NXE:3800E 完成安装

    光刻机巨头ASML要搬离荷兰?

    据荷兰《电讯报》3月6日报道,因荷兰政府的反移民政策倾向,光刻机巨头阿斯麦(ASML)正计划搬离荷兰。
    的头像 发表于 03-08 14:02 1176次阅读

    三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

    根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机研发与商用,并获得EUV光刻机的优先
    的头像 发表于 02-23 17:27 1021次阅读