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2018年至2024年压电器件市场的发展情况预测

电子工程师 来源:网络整理 作者:佚名 2019-11-19 09:32 次阅读

对于压电器件来说,目前正在经历一个光明时期!5G通信、个人语音助手、消费类可穿戴设备、指纹识别和医疗设备都是压电器件的候选应用。自从20世纪初,当石英成为军事应用中声呐器件的可选材料时,压电技术就已发展出多种产品类型,并在多种应用领域中发挥作用。如今,压电特性为换能器(传感器和执行器)提供了很好的市场机遇。

压电陶瓷应用(传感器和执行器)

据麦姆斯咨询介绍,块体型压电器件由具有一定结构形式的石英或陶瓷材料制成,无论是普通还是高端电子产品中皆可发现其身影。另一方面,自21世纪初以来,先进材料和技术不断发展,如利用半导体工艺(包括MEMS工艺)来应对小型化和高度集成化的双重挑战,以满足智能手机等消费类产品的海量需求。压电薄膜沉积技术在MEMS产业中变得越来越重要,主要涉及材料是锆钛酸铅(PZT)和氮化铝(AlN)。每种压电材料都有其特殊规格/性能,需要根据应用需求选择合适的材料制成传感器或执行器。例如,爱普生(Epson)和赛尔(Xaar)均使用薄膜PZT沉积工艺来制造压电喷墨打印头,主要应用领域为工业打印机,详情请查看报告:《爱普生PrecisionCore压电喷墨打印头》和《Xaar 1201压电喷墨打印头》。

相关报告推荐:《电子产业的喷墨打印制造及增材制造-2018版》

PZT压电材料应用之喷墨打印头

虽然一些器件采用的压电材料已从块体转向薄膜,但是具体的应用场景仍会影响块体或薄膜类型的选择。压电MEMS超声换能器(PMUT)是压电材料从块体转向薄膜的完美示例,PMUT器件已被广泛用于指纹识别和手势识别。另一个有前途的应用领域是医学成像,基于块体和薄膜的压电器件(用于超声波成像探头)将处于共存状态,需根据应用需求和性能进行选择使用。由于块体压电材料和技术的进步,TDK近期推出了厚度为0.45mm~0.7mm的PiezoListen压电扬声器,展示了一种从块体材料中获得最薄压电层的方法。总而言之,大家需要深入理解:压电材料的“转型”不是“竞争”——块体型和薄膜型是两种互补的方法!

相关报告推荐:《医疗、工业和消费类应用的超声波传感技术

两种压电技术(块体型和薄膜型)应用

本报告分析了压电材料的转型及最有前景的应用,从微型压电扬声器和麦克风到MEMS微镜和自动对焦执行器,当然包括非常热门的薄膜体声波谐振器(FBAR)!报告介绍了这些压电器件的进展状态和产品可用性路线图。此外,还深入探讨了压电材料对换能器(传感器和执行器)的性能影响,以及压电市场趋势和技术路线选择。

扬声器和微型扬声器:尺寸与性能关系

压电器件市场快速发展,2024年将达485亿美元

2018~2024年压电器件市场(薄膜型 vs. 块体型)

2018年压电器件市场规模为238亿美元,预计2024年将达到485亿美元,2018~2024年期间的复合年增长率为12.6%。尽管块体型压电器件的市场份额仍然较大,但是薄膜型压电器件的成长势头更猛。在整个压电器件市场中,射频RF滤波器受益于5G通信而快速发展,包括SAW滤波器和BAW滤波器。博通(Broadcom)和Qorvo是射频滤波器领域的主要薄膜型压电器件厂商

AlN压电材料应用之射频滤波器(FBAR)

薄膜型压电器件厂商近期受到亚马逊(Amazon)等互联网巨头的青睐,希望募集资金以支持研发超低功耗的微型压电扬声器和压电MEMS麦克风。而块体型压电器件具有很高的驱动性能,可用于喷墨打印头和直线电机等应用,实现非常精确的运动控制。

PZT压电材料应用之MEMS扬声器

AlN压电材料应用之MEMS麦克风

本报告预测未来五年块体型和薄膜型压电器件的增长情况,说明这两类器件的发展趋势和动态,并重点分析市场关注的压电器件。

PZT压电材料应用之惯性传感器(陀螺仪

薄膜沉积工艺:溶胶-凝胶法 vs. 物理气相沉积法

一些MEMS代工厂针对压电薄膜技术进行研究,并开发了压电薄膜制造工艺。例如Globalfoundries的AlN压电MEMS技术为Vesper量产MEMS麦克风;意法半导体(STMicroelectronics)的PZT压电MEMS技术为Usound量产MEMS扬声器。在薄膜沉积工艺方面,主要是两大类技术之间的竞争:(1)溶胶-凝胶法(Sol-Gel);(2)物理气相沉积法(PVD),如溅射法(Sputtering)或脉冲激光沉积法(Pulsed Laser Deposition,PLD)。溶胶-凝胶法具有更好的固有薄膜特性、良好的均匀性和更高的击穿电压。但是,当考虑大批量生产时,吞吐量成为主要考虑因素,这也是溶胶-凝胶法的局限之处。

PZT压电薄膜沉积:溶胶-凝胶法(Sol-Gel)

大多数MEMS整合元件制造商(IDM)和代工厂已经对他们的工艺路线做出抉择。富士胶片(Fujifilm)Dimatix和博世Bosch)选择溅射法,而意法半导体和罗姆(Rohm)采用溶胶-凝胶法。设备制造商在开发正确的工艺中发挥着重要作用:例如,总部位于荷兰的设备制造商SolMAteS最近宣布,其PLD技术已进入5G基站和接收器市场。

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