新思科技成为首个获得三星EUV技术5LPE工艺认证的平台
新思科技近日宣布，三星(Samsung Electronics)认证了新思科技Fusion Design Platform™，用于三星采用EUV光刻技术的5纳米Low-Power Early(早期低功耗，简称“LPE”)工艺。人工智能(AI)增强型云就绪Fusion Design Platform提供前所未有的全流程设计实现质量和设计收敛速度，实现三星5LPE工艺技术提供的超高性能和低功耗，加速新一波半导体设计的开发，包括高性能计算(HPC)、汽车、5G和人工智能细分市场。
“7纳米产品的交付以及5纳米工艺开发的成功完成，证明了我们在基于EUV节点方面的能力。使用新思科技Fusion Design Platform，我们的共同客户将能够设计出最具竞争力的5LPE系统级芯片(SoC)产品，以满足超高性能和低功耗应用的需求。新思科技仍然是我们的首选厂商，在新节点开发和实现方面开展合作，因此我们的代工厂客户可以放心地在所有细分市场(包括汽车、人工智能、高性能计算和移动)提升他们的设计。”
——JY Choi
三星设计技术团队副总裁
三星代工厂使用64位Arm® Cortex®-A53和Cortex-A57处理器设计(基于Armv8架构)为Fusion Design Platform提供了认证。
声明：本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人，不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用，如有内容侵权或者其他违规问题，请联系本站处理。
举报投诉
-
芯片
+关注
关注
452文章
50142浏览量
420462 -
三星电子
+关注
关注
34文章
15843浏览量
180852 -
新思科技
+关注
关注
5文章
780浏览量
50284
原文标题：新思科技Fusion Design Platform成为首个获得三星EUV技术5LPE工艺认证的平台
文章出处：【微信号：Synopsys_CN，微信公众号：新思科技】欢迎添加关注！文章转载请注明出处。
发布评论请先 登录
相关推荐
三星电子：18FDS将成为物联网和MCU领域的重要工艺
电子发烧友网报道（文/吴子鹏）今年上半年，三星在FD-SOI工艺上面再进一步。3月份，意法半导体（STMicroelectronics）宣布与三星联合推出18nm FD-SOI工艺。该
发表于 10-23 11:53
•175次阅读
中兴通讯南京滨江5G工厂荣膺国内首个五星认证
2023年8月30日，中兴通讯南京智能滨江5G工厂（简称“滨江工厂”）成功通过中国信息通信研究院（中国信通院）泰尔认证中心的严格评估，荣获国内首个五星
概伦电子NanoSpice通过三星代工厂3/4nm工艺技术认证
概伦电子(股票代码：688206.SH)近日宣布其新一代大容量、高性能并行SPICE仿真器NanoSpice通过三星代工厂3/4nm工艺技术认证，满足双方共同客户对高精度、大容量和高性能的高端电路仿真需求。
三星携手红帽成功构建全球首个CXL认证基础设施
近日，三星电子宣布了一个重要的里程碑事件：其首个经过全球领先的开源解决方案提供商红帽（Red Hat）认证的Compute Express Link（CXL）基础设施已成功构建。这一成果的取得
三星电子宣布成功构建其首个红帽认证的CXL基础设施
今日，三星电子宣布已成功构建其首个，经红帽(Red Hat，全球领先的开源解决方案提供商)认证的Compute Express Link(CXL)基础设施。
三星展望2027年：1.4nm工艺与先进供电技术登场
在半导体技术的竞技场上，三星正全力冲刺，准备在2027年推出一系列令人瞩目的创新。近日，三星晶圆代工部门在三星代工论坛上公布了其未来几年的技术
三星与新思科技携手，备战2nm工艺量产
在全球半导体行业迈向更高精度和更小尺寸的征途上，三星与新思科技近日宣布了一项重要的合作。这一合作旨在确保三星的2nm制造工艺能够顺利实现量产，并在市场中占据领先地位。
导远IMU5104成为首个获得ISO 26262功能安全认证的车载IMU模组产品
12月27日，导远电子获得DEKRA德凯颁发，国内首张高精度定位IMU模组ISO 26262 ASIL B功能安全产品认证证书，标志着导远IMU5104成为首个获得ISO 26262功
Ansys RaptorX™荣获三星Foundry高速设计认证
RaptorX™凭借其可用于对三星先进节点设计中的高速信号和器件进行准确建模而获得此项认证殊荣
新思科技携手Ansys和三星共同开发14LPU工艺的全新射频集成电路设计
新思科技（Synopsy）近日宣布，携手Ansys 、三星半导体晶圆代工（以下简称“三星”）共同开发了面向三星14LPU工艺的全新射频集成电
三星曝光技术大进展！
据报导，三星已主要客户的部分先进 EUV 代工生产在线导入 EUV 光罩护膜。虽然三星也在 DRAM 生产线中采用 EUV 制程，但考虑到生
三星希望进口更多ASML EUV***，5年内新增50台
EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分，占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂，因此ASML每年只能制造约60台，而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机，包括英特尔、美光、
工商网监
评论