0
  • 聊天消息
  • 系统消息
  • 评论与回复
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
会员中心
创作中心

完善资料让更多小伙伴认识你,还能领取20积分哦,立即完善>

3天内不再提示

中国晶圆制造材料技术与市场论坛在浙江杭州召开

mvj0_SEMI2025 来源:陈年丽 2019-07-19 16:47 次阅读

由亚化咨询主办的中国晶圆制造材料技术与市场论坛2019将于9月10-11日在浙江杭州召开。

2018年度海关数据显示,中国集成电路(IC)进口金额超过3100亿美元,比2017年增长19.8%。作为国家重点战略兴新兴产业,集成电路产业链的技术突破,成为业界关注的焦点。

晶圆制造是集成电路产业链的核心环节,关键材料十分重要。主要包括CMP材料、光刻胶、湿电子化学品(显影、清洗、剥离、蚀刻等)、电子气体、光掩膜版、靶材等。根据《国家集成电路产业发展推进纲要》明确要求:突破集成电路关键装备和材料,加快产业化进程,增强产业配套能力。本土企业将迎来空前发展机遇。

行业数据显示,2018年全球晶圆制造材料市场规模为近300亿美元。随着中国Fab厂陆续建成投产,未来关键材料和化学品市场将有广大的增长空间。由于技术壁垒和市场门槛高,目前半导体材料国产化程度较低,不到10%。欧美日韩的龙头企业占据主要市场份额。中国晶圆制造材料行业面临巨大市场机遇,技术与应用发展迫在眉睫。

首届中国晶圆制造材料技术与市场论坛2019将于9月10-11日杭州召开。会议将重点探讨中国集成电路与晶圆制造产业政策,全球与中国晶圆产能扩张与材料需求展望,中国FAB厂投资与晶圆制造材料市场,海外企业最新技术,光刻胶、湿电子化学品、高纯电子气体、溅射靶材、光掩膜版、CMP材料的技术与市场趋势,以及国产化率提升的机遇与挑战等。

声明:本文内容及配图由入驻作者撰写或者入驻合作网站授权转载。文章观点仅代表作者本人,不代表电子发烧友网立场。文章及其配图仅供工程师学习之用,如有内容侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 举报投诉
  • 电路
    +关注

    关注

    173

    文章

    5979

    浏览量

    173128
  • 晶圆制造
    +关注

    关注

    7

    文章

    284

    浏览量

    24161

原文标题:演讲报告征集—中国晶圆制造材料技术与市场论坛

文章出处:【微信号:SEMI2025,微信公众号:半导体前沿】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

收藏 人收藏

    评论

    相关推荐

    制造及直拉法知识介绍

    第一个工艺过程:及其制造过程。   为什么制造如此重要 随着
    的头像 发表于 01-09 09:59 324次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>及直拉法知识介绍

    【「大话芯片制造」阅读体验】+ 芯片制造过程和生产工艺

    。 光刻则是上“印刷”电路图案的关键环节,类似于表面绘制半导体
    发表于 12-30 18:15

    半导体制造工艺流程

    半导体制造是现代电子产业中不可或缺的一环,它是整个电子行业的基础。这项工艺的流程非常复杂,包含了很多步骤和技术,下面将详细介绍其主要的制造
    的头像 发表于 12-24 14:30 1292次阅读
    半导体<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>工艺流程

    背面涂敷工艺对的影响

    一、概述 背面涂敷工艺是背面涂覆一层特定的材料,以满足封装过程中的各种需求。这种工艺不
    的头像 发表于 12-19 09:54 397次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>背面涂敷工艺对<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>的影响

    /晶粒/芯片之间的区别和联系

    (Si)或其他半导体材料制成。的形状一般是圆形的薄片,厚度一般几百微米到几毫米之间,表面经过精密的处理,使其足够光滑,并具备优良的晶体结构,适合进行各种电子器件的加工。 比喻:可
    的头像 发表于 11-26 11:37 851次阅读

    利用全息技术内部制造纳米结构的新方法

    本文介绍了一种利用全息技术内部制造纳米结构的新方法。 研究人员提出了一种
    的头像 发表于 11-18 11:45 420次阅读

    三星举办2024代工论坛,聚焦AI与先进代工技术

    三星电子宣布将于10月24日举办中国“2024三星代工论坛”(SFF),旨在展示其
    的头像 发表于 10-15 17:01 607次阅读

    三星电子将在线举办代工论坛

    三星电子宣布,将于10月24日中国北京、日本东京和德国慕尼黑三地同时在线举办2024年三星代工论坛及三星先进
    的头像 发表于 10-10 16:46 313次阅读

    制造良率限制因素简述(2)

    相对容易处理,并且良好的实践和自动设备已将断裂降至低水平。然而,砷化镓并不是那么坚
    的头像 发表于 10-09 09:39 655次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>良率限制因素简述(2)

    碳化硅和硅的区别是什么

    以下是关于碳化硅和硅的区别的分析: 材料特性: 碳化硅(SiC)是一种宽禁带半导体材料
    的头像 发表于 08-08 10:13 1924次阅读

    是什么东西 和芯片的区别

    是半导体制造过程中使用的一种圆形硅片,它是制造集成电路(IC)或芯片的基础材料
    的头像 发表于 05-29 18:04 7723次阅读

    300毫米级平台上的柔性光子芯片:应用与制造技术详解

    随着技术的进步,300毫米级平台下的柔性光子芯片将进一步提升其性能、降低成本,驱动更多创新应用的出现。同时,研究者们也探索新的材料体系
    的头像 发表于 05-27 12:52 1058次阅读

    制造和封装之影响良率的主要工艺和材料因素(一)

    制造和封装是一个极其漫长和复杂的过程,涉及数百个要求严格的步骤。这些步骤从未每次都完美执行,污染和材料变化结合在一起会导致
    的头像 发表于 05-20 10:55 1625次阅读
    <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b><b class='flag-5'>制造</b>和封装之影响良率的主要工艺和<b class='flag-5'>材料</b>因素(一)

    TC WAFER 测温系统 仪表化温度测量

    “TC WAFER 测温系统”似乎是一种用于测量(半导体制造中的基础材料)温度的系统。
    的头像 发表于 03-08 17:58 1182次阅读
    TC WAFER   <b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>测温系统 仪表化<b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>温度测量

    不同材料级封装中的作用

    共读好书 本篇文章将探讨用于级封装(WLP)的各项材料,从光刻胶中的树脂,到承载系统(WSS)中的粘合剂,这些
    的头像 发表于 02-18 18:16 1103次阅读
    不同<b class='flag-5'>材料</b><b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>晶</b><b class='flag-5'>圆</b>级封装中的作用