GaN中游我们可以将其分为器件设 计、晶圆制造、封装测试三个部分。 作为化合物半导体的一类,与SiC类似,全球产能普遍集中在IDM厂商上,不过相比于SiC,GaN在设计和制造环节正在往垂直分工的模式
2022-07-18 01:59:454002 SiC、GaN等下一代功率器件的企业有所增加,为数众多的展示吸引了各方关注。SiC和GaN也变得不再是“下一代”。
2013-07-09 09:46:493475 (SiC)和氮化镓(GaN)占有约90%至98%的市场份额。供应商。WBG半导体虽然还不是成熟的技术,但由于其优于硅的性能优势(包括更高的效率,更高的功率密度,更小的尺寸和更少的冷却),正在跨行业进军。 使用基于SiC或GaN的功率半导体来获
2021-04-06 17:50:533168 电力电子将在未来几年发展,尤其是对于组件,因为 WBG 半导体技术正变得越来越流行。高工作温度、电压和开关频率需要 GaN 和 SiC 等 WBG 材料的能力。从硅到 SiC 和 GaN 组件的过渡标志着功率器件发展和更好地利用电力的重要一步。
2022-07-27 10:48:41761 碳化硅 (SiC) MOSFET 和氮化镓 (GaN) HEMT 等宽带隙 (WBG) 功率器件的采用目前正在广泛的细分市场中全面推进。在许多情况下,WBG 功率器件正在取代它们的硅对应物,并在
2022-07-29 14:09:53807 在很宽的范围内实现对器件制造所需的p型和n型的控制。因此,SiC被认为是有望超越硅极限的功率器件材料。SiC具有多种多型(晶体多晶型),并且每种多型显示不同的物理特性。对于功率器件,4H-SiC被认为是理想的,其单晶4英寸到6英寸之间的晶圆目前已量产。
2022-11-22 09:59:261373 超结(SJ)硅MOSFET自1990年代后期首次商业化用于功率器件应用领域以来,在400–900V功率转换电压范围内取得了巨大成功。参考宽带隙(WBG)、碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)功率器件,我们将在本文中重点介绍其一些性能特性和应用空间。
2023-06-08 09:33:241389 全球范围内5G技术的迅猛发展,为氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)功率半导体制造商提供新的增长前景。2020年,GaN和SiC功率半导体市场规模为7亿美元,预计2021年至2027年的复合年增长率
2021-05-21 14:57:182257 电子发烧友网报道(文/梁浩斌)在我们谈论第三代半导体的时候,常说的碳化硅功率器件一般是指代SiC MOSFET(金属-氧化物半导体场效应晶体管),而氮化镓功率器件最普遍的则是GaN HEMT(高电子
2023-12-27 09:11:361220 领域的热点。
如图1所示,GaN材料作为第三代半导体材料的核心技术之一,具有禁带宽度高、击穿场强大、电子饱和速度高等优势。由GaN材料制成的GaN器件具有击穿电压高、开关速度快、寄生参数低等优良特性
2023-06-25 15:59:21
半导体的关键特性是能带隙,能带动电子进入导通状态所需的能量。宽带隙(WBG)可以实现更高功率,更高开关速度的晶体管,WBG器件包括氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半导体。 GaN和SiC
2022-08-12 09:42:07
材料。与目前绝大多数的半导体材料相比,GaN 具有独特的优势:禁带更宽、饱和漂移速度更大、临界击穿电场和热导率更高,使其成为最令人瞩目的新型半导体材料之一。目前,GaN 基发光器件的研究已取得了很大
2019-06-25 07:41:00
为什么GaN可以在市场中取得主导地位?简单来说,相比LDMOS硅技术而言,GaN这一材料技术,大大提升了效率和功率密度。约翰逊优值,表征高频器件的材料适合性优值, 硅技术的约翰逊优值仅为1, GaN最高,为324。而GaAs,约翰逊优值为1.44。肯定地说,GaN是高频器件材料技术上的突破。
2019-06-26 06:14:34
基于碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等宽带隙(WBG)半导体的新型高效率、超快速功率转换器已经开始在各种创新市场和应用领域攻城略地——这类应用包括太阳能光伏逆变器、能源存储、车辆电气化(如充电器
2019-07-31 06:16:52
MOSFET ,是许多应用的优雅解决方案。然而,SiC功率器件的圣杯一直是MOSFET,因为它与硅IGBT的控制相似 - 但具有前述的性能和系统优势。 SiC MOSFET的演变 SiC MOSFET存在
2023-02-27 13:48:12
1. 器件结构和特征SiC能够以高频器件结构的SBD(肖特基势垒二极管)结构得到600V以上的高耐压二极管(Si的SBD最高耐压为200V左右)。因此,如果用SiC-SBD替换现在主流产品快速PN结
2019-03-14 06:20:14
通过电导率调制,向漂移层内注入作为少数载流子的空穴,因此导通电阻比MOSFET还要小,但是同时由于少数载流子的积聚,在Turn-off时会产生尾电流,从而造成极大的开关损耗。 SiC器件漂移层的阻抗
2023-02-07 16:40:49
基于SiC/GaN的新一代高密度功率转换器SiC/GaN具有的优势
2021-03-10 08:26:03
iCoupler 芯 片级变压器还提供芯片高压侧与低压侧之间的控 制信息隔离通信。芯片状态信息可从专用输出读取。器件原边控 制器件在副边发生故障后复位。图3. ADuM4135评估板对于更紧凑的纯 SiC/GaN
2018-10-30 11:48:08
(51, 51, 51) !important]隔离式栅极驱动器的要求已经开始变化,不同于以前的。对于SiC和GaN,宽栅极电压摆幅、快速上升/下降时间和超低传播延迟。ADuM4135隔离式栅极驱动器
2019-07-16 23:57:01
与硅相比,SiC有哪些优势?SiC器件与硅器件相比有哪些优越的性能?碳化硅器件的缺点有哪些?
2021-07-12 08:07:35
电导率调制,向漂移层内注入作为少数载流子的空穴,因此导通电阻比MOSFET还要小,但是同时由于少数载流子的积聚,在Turn-off时会产生尾电流,从而造成极大的开关损耗。SiC器件漂移层的阻抗比Si器件低
2019-05-07 06:21:55
1. SiC材料的物性和特征SiC(碳化硅)是一种由Si(硅)和C(碳)构成的化合物半导体材料。不仅绝缘击穿场强是Si的10倍,带隙是Si的3倍,而且在器件制作时可以在较宽范围内控制必要的p型、n型
2019-07-23 04:20:21
)工作频率的高频化,使周边器件小型化(例:电抗器或电容等的小型化)主要应用于工业机器的电源或光伏发电的功率调节器等。2. 电路构成现在量产中的SiC功率模块是一种以一个模块构成半桥电路的2in1类型
2019-05-06 09:15:52
具有成本效益的大功率高温半导体器件是应用于微电子技术的基本元件。SiC是宽带隙半导体材料,与Si相比,它在应用中具有诸多优势。由于具有较宽的带隙,SiC器件的工作温度可高达600℃,而Si器件
2018-09-11 16:12:04
前面对SiC的物理特性和SiC功率元器件的特征进行了介绍。SiC功率元器件具有优于Si功率元器件的更高耐压、更低导通电阻、可更高速工作,且可在更高温条件下工作。接下来将针对SiC的开发背景和具体优点
2018-11-29 14:35:23
`IGN0450M250是一款高功率GaN-on-SiC RF功率晶体管,旨在满足P波段雷达系统的独特需求。它在整个420-450 MHz频率范围内运行。 在100毫秒以下,10%占空比脉冲条件
2021-04-01 10:35:32
Qorvo 的 T2G6001528-Q3 是 15 W (P3dB) 宽带无与伦比的分立式 GaN on SiC HEMT,可在直流至 6 GHz 和 28V 电源轨范围内运行。该器件采用行业标准
2021-08-04 11:50:58
方形,通过两个晶格常数(图中标记为a 和c)来表征。GaN 晶体结构在半导体领域,GaN 通常是高温下(约为1,100°C)在异质基板(射频应用中为碳化硅[SiC],电源电子应用中为硅[Si])上通过
2019-08-01 07:24:28
引言:前段时间,Tesla Model3的拆解分析在行业内确实很火,现在我们结合最新的市场进展,针对其中使用的碳化硅SiC器件,来了解一下SiC器件的未来需求。我们从前一段时间的报道了解到:目前
2021-09-15 07:42:00
元件来适应略微增加的开关频率,但由于无功能量循环而增加传导损耗[2]。因此,开关模式电源一直是向更高效率和高功率密度设计演进的关键驱动力。 基于 SiC 和 GaN 的功率半导体器件 碳化硅
2023-02-21 16:01:16
传统的硅组件、碳化硅(Sic)和氮化镓(GaN)伴随着第三代半导体电力电子器件的诞生,以碳化硅(Sic)和氮化镓(GaN)为代表的新型半导体材料走入了我们的视野。SiC和GaN电力电子器件由于本身
2021-09-23 15:02:11
在过去的十多年里,行业专家和分析人士一直在预测,基于氮化镓(GaN)功率开关器件的黄金时期即将到来。与应用广泛的MOSFET硅功率器件相比,基于GaN的功率器件具有更高的效率和更强的功耗处理能力
2019-06-21 08:27:30
`由电气观察主办的“宽禁带半导体(SiC、GaN)电力电子技术应用交流会”将于7月16日在浙江大学玉泉校区举办。宽禁带半导体电力电子技术的应用、宽禁带半导体电力电子器件的封装、宽禁带电力电子技术
2017-07-11 14:06:55
您好,有人能告诉我如何在原理图窗口中添加GaN器件,因为当我在ADS的原理图窗口中搜索它时,它只显示GaAs,JFET和BJT器件。我想做一个功率放大器模拟,我需要一个GaN器件。请提出你的建议
2019-01-17 15:55:31
`①未来发展导向之Sic功率元器件“功率元器件”或“功率半导体”已逐渐步入大众生活,以大功率低损耗为目的二极管和晶体管等分立(分立半导体)元器件备受瞩目。在科技发展道路上的,“小型化”和“节能化
2017-07-22 14:12:43
高效率和高密度的功率转换。如表所示,与Si和SiC相比,具有相似RDS(on)的GaN功率晶体管在LLC关键参数方面具有很大的优势。Co(tr)、Qgd、toff和Qg的值越低,LLC转换器在效率
2023-02-27 09:37:29
SiC-MOSFET 是碳化硅电力电子器件研究中最受关注的器件。成果比较突出的就是美国的Cree公司和日本的ROHM公司。在国内虽有几家在持续投入,但还处于开发阶段, 且技术尚不完全成熟。从国内
2019-09-17 09:05:05
1. 器件结构和特征SiC能够以高频器件结构的SBD(肖特基势垒二极管)结构得到600V以上的高耐压二极管(Si的SBD最高耐压为200V左右)。因此,如果用SiC-SBD替换现在主流产品快速PN结
2019-05-07 06:21:51
、InP化合物半导体材料之后的第三代半导体材料。 在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用方面有着广阔的前景。SiC功率器件在C波段以上受频率的限制,也使其使用受到一定的限制;GaN功率管因其
2017-06-16 10:37:22
请问一下SiC和GaN具有的优势主要有哪些?
2021-08-03 07:34:15
本文介绍了适用于5G毫米波频段等应用的新兴SiC基GaN半导体技术。通过两个例子展示了采用这种GaN工艺设计的MMIC的性能:Ka频段(29.5至36GHz)10W的PA和面向5G应用的24至
2020-12-21 07:09:34
副边发生故障后复位。对于更紧凑的纯SiC/GaN应用,新型隔离式栅极驱动器ADuM4121是解决方案。该驱动器同样基于ADI公司的iCoupler数字隔离技术,其传播延迟在同类器件中最低 (38 ns
2018-10-22 17:01:41
据权威媒体分析,SiC和GaN器件将大举进入电力电子市场,预计到2020年,SiC和GaN功率器件将分别获得14%和8%市场份额。未来电力电子元器件市场发展将更多地集中到SiC和GaN的技术创新上。
2013-09-18 10:13:112464 安华高科技公司(Avago Technologies)推出了四款光电耦合器新产品,主要用于使用 SiC(碳化硅)和 GaN(氮化镓)制造的功率半导体器件等的门极驱动。新产品的最大特点是最大传播延迟
2017-09-12 16:07:001 随着以SiC和GaN为代表的宽禁带半导体材料(即第三代半导体材料)设备、制造工艺与器件物理的迅速发展,SiC和GaN基的电力电子器件逐渐成为功率半导体器件的重要发展方向。
2017-10-17 17:23:191633 1.GaN 功率管的发展微波功率器件近年来已经从硅双极型晶体管、场效应管以及在移动通信领域被广泛应用的LDMOS 管向以碳化硅(SiC)、氮镓(GaN) 为代表的宽禁带功率管过渡。SiC、GaN材料
2017-11-09 11:54:529 使用SiC的新功率元器件技术
2018-06-26 17:56:005775 SiC(碳化硅)是一种由Si(硅)和C(碳)构成的化合物半导体材料。SiC临界击穿场强是Si的10倍,带隙是Si的3倍,热导率是Si的3倍,所以被认为是一种超越Si极限的功率器件材料。SiC中存在
2018-07-15 11:05:419257 基于碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等材料的新型功率开关技术的出现促使性能大幅提升,超越了基于MOSFET和IGBT技术的传统系统。
2018-10-04 09:03:004753 基于碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)等材料的新型功率开关技术的出现促使性能大幅提升,超越了基于MOSFET和IGBT技术的传统系统。
2019-01-05 09:01:093767 很多工程师提问关于氮化镓(GaN)及碳化硅(SiC)的异同。GaN和SiC都是宽带隙半导体,因此可以在更小、更快的器件中处理比硅更多的功率。GaN的一个额外优点是可以在器件表面产生二维电子气(2DEG)。
2019-03-14 17:05:395887 新一代逆變器採用GaN和SiC等先進開關技術。寬帶隙功率開關,具有更出色的功效、更高的功率密度、更小巧的外形和更輕的重量,通過提高開關頻率來實現。
2019-07-25 06:05:001892 对led芯片产业有所了解的朋友应该知道,GaN和SiC这些化合物半导体曾经被推广到led芯片当作衬底,而Cree作为当中的领头羊,在这些领域都有很深入的研究和积累。虽然led市场吸引力不再,但这些技术在功率电子和射频领域看到了很大的成长空间。
2019-05-07 16:04:316990 碳化硅(SiC)是最成熟的WBG宽带隙半导体材料, 它已经广泛用于制造开关器件,例如MOSFET和晶闸管。氮化镓(GaN)具有作为功率器件半导体的潜力,并且在射频应用中是对硅的重大改进。
2020-04-30 14:35:3111723 作为半导体材料“霸主“的Si,其性能似乎已经发展到了一个极限,而此时以SiC和GaN为主的宽禁带半导体经过一段时间的积累也正在变得很普及。所以,出现了以Si基器件为主导,SiC和GaN为"游击"形式存在的局面。
2020-08-27 16:26:0010156 汽车日渐走向智能化、联网化与电动化的趋势,加上5G商用在即,这些将带动第三代半导体材料碳化硅(SiC)与氮化镓(GaN)的发展。根据拓墣产业研究院估计,2018年全球SiC基板产值将达1.8亿美元
2023-02-02 16:19:59968 随着半导体材料步入第三代半导体时代,行业巨头在SiC/GaN器件和模块上早已布局多年。 事实上,从特性上来讲,SiC和GaN的优势是互补的,应用覆盖了电动汽车(EV)、新能源、光伏逆变器、智能电器
2020-11-09 10:56:042636 ,特别适用于5G射频和高压功率器件。 据集邦咨询(TrendForce)指出,因疫情趋缓所带动5G基站射频前端、手机充电器及车用能源等需求逐步提升,预期2021年GaN通讯及功率器件营收分别为6.8亿和6100万美元,年增30.8%及90.6%,SiC器件功率领域营收
2021-05-03 16:18:0010174 日前,SiC & GaN功率器件设计和方案商派恩杰官方正式宣告与德国Foxy Power合作组建欧洲&北美销售团队。
2021-09-09 09:39:171065 氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)功率晶体管这两种化合物半导体器件已作为方案出现。这些器件与长使用寿命的硅功率横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS) MOSFET和超级结MOSFET竞争。
2022-04-01 11:05:193412 半导体的关键特性是能带隙,能带动电子进入导通状态所需的能量。宽带隙(WBG)可以实现更高功率,更高开关速度的晶体管,WBG器件包括氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC),以及其他半导体。
2022-04-16 17:13:015712 /dt也就越大。影响dv/dt和di/dt的主要因素是器件材料,其次是器件的电压、电流、温度以及驱动特性。为了加深大家对高速功率半导体器件的理解,今天我们以SiC和GaN为例来聊一下这个话题,看看高速功率器件的dv/dt和di/dt到底有多大?
2022-04-22 11:29:482477 宽带隙半导体具有许多特性,这些特性使其对高功率、高温器件应用具有吸引力。本文综述了三种重要材料的湿法腐蚀,即ZnO、GaN和SiC。虽然ZnO在包括HNO3/HCl和HF/HNO3的许多酸性溶液
2022-07-06 16:00:211642 GaN 行业旨在证明 GaN 解决方案的 预期寿命至少与硅 MOSFET 相同,理想情况下,寿命更长。该行业和 JEDEC JC-70 委员会正在努力为 GaN 和 SiC 器件定义一系列测试、条件
2022-07-27 08:02:531039 和 SiC”,从当天的主题演讲中汲取灵感,包括新产品开发、技术挑战和晶圆制造。 由于尺寸、重量和成本的节省以及更高的效率,GaN 和 SiC 功率器件正在大力推动超越快速充电器和可再生能源,进入
2022-07-29 18:06:26391 ,这意味着镓和晶格中的氮原子比硅之间的多,”Lidow 说。“它与 SiC 非常相似,两者的带隙都约为 3.26,”Lidow 说。
2022-08-03 08:04:292748 由氮化镓 (GaN) 和碳化硅 (SiC)。基于 GaN 和 SiC 的器件可以提供最新一代电源应用所需的高性能。然而,它们极高的功率密度应该得到适当的管理,这使得创新的热管理技术成为一个需要考虑的关键方面。
2022-08-03 08:04:57996 该 氮化镓产业 的目的是证明氮化镓的解决方案至少有相同的预期寿命为硅MOSFET,理想,美好的生活。该行业和 JEDEC JC-70 委员会正在努力为 GaN 和 SiC 器件定义一系列测试、条件
2022-08-05 08:05:03898 (SiC) 的采用,电力电子技术走上了一条非凡的道路。Yole Développement (Yole) 估计了这些宽带隙材料的总体情况。虽然硅仍然占据市场主导地位,但 GaN 和 SiC 器件的出现一直在引领技术走向新的高效成果。 在技术基础上,碳化硅技术侧重于在更大直径和功率
2022-08-08 15:19:37658 镓 (GaN) 等技术所需的最高开关速度和系统尺寸限制而设计。架构的演进满足了新的效率水平和时序性能的稳定性,从而减少了电压失真。本文以罗姆半导体的基于 SiC 技术的功率器件为参考点。
2022-08-10 15:22:11813 。在接受《半导体工程》采访时,Veliadis详细介绍了SiC制造工艺和Si工艺的差异的一些要点。 Etch蚀刻工艺。SiC在化学溶剂中呈现惰性,只有干法蚀刻可行。掩膜材料、掩膜蚀刻的选择、混合气体
2022-08-19 16:53:301022 DL-ISO 高压光隔离探头具有 1 GHz 带宽、2500 V 差分输入范围和 60 kV 共模电压范围,提供非常高的测量精度和丰富的连接方式,是GaN 和 SiC 器件测试的理想探头。
2022-11-03 17:47:061121 电动汽车中的 GaN 还处于早期阶段。许多功率 GaN 厂商已经开发并通过汽车认证 650 V GaN 器件,用于 EV/HEV 中的车载充电器和 DC/DC 转换,并且已经与汽车企业建立了无数合作伙伴关系。
2023-01-06 11:11:34459 云计算、虚拟宇宙的大型数据中心以及新型智能手机等各种小型电子设备将继续投资。SiC 和 GaN 都可以提供更小的尺寸和更低的热/功耗,但它们成为标准技术还需要一些时间。
2023-01-11 14:23:18348 碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)被称为“宽带隙半导体”(WBG)。在带隙宽度中,硅为1.1eV,SiC为3.3eV,GaN为3.4eV,因此宽带隙半导体具有更高的击穿电压,在某些应用中可以达到1200-1700V。
2023-02-05 14:13:341220 随着硅接近其物理极限,电子制造商正在转向非常规半导体材料,特别是宽带隙(WBG)半导体,如碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)。由于宽带隙材料具有相对较宽的带隙(与常用的硅相比),宽带隙器件可以在高压、高温和高频下工作。宽带隙器件可以提高能效并延长电池寿命,这有助于推动宽带隙半导体的市场。
2023-02-05 14:25:15676 本文介绍了使用多个电流探头研究SiC和GaN功率半导体器件的电极间电容。它分为四部分:双电流探头法原理、测量结果、三电流探头法原理和测量结果。
2023-02-19 17:06:18350 GaN与SiC 冰火两重天。GaN受消费类市场疲软的影响,市场增长微乎其微。SiC在光伏新能源、电动汽车以及储能、充电桩等行业取得了快速发展。
2023-02-24 14:25:42941 GaN和SiC器件比它们正在替代的硅元件性能更好、效率更高。全世界有数以亿计的此类设备,其中许多每天运行数小时,因此节省的能源将是巨大的。
2023-03-29 14:21:05296 由于 GaN 具有更小的晶体管、更短的电流路径、超低的电阻和电容等优势,GaN 充电器的运行速度,比传统硅器件要快 100 倍。GaN 在电力电子领域主要优势在于高效率、低损耗与高频率,GaN 材料的这一特性令其在充电器行业大放异彩。
2023-04-25 15:08:212337 最重要的器件之一,在功率器件和射频器件领域拥有广泛的应用前景。HEMT器件通常是在硅(Si)、蓝宝石(Al2O3)、碳化硅(SiC)等异质衬底上通过金属有机气象外延(MOCVD)进行外延制备。由于异质
2023-06-14 14:00:551653 SiC和GaN被称为“宽带隙半导体”(WBG),因为将这些材料的电子从价带炸毁到导带所需的能量:而在硅的情况下,该能量为1.1eV,SiC(碳化硅)为3.3eV,GaN(氮化镓)为3.4eV。这导致了更高的适用击穿电压,在某些应用中可以达到1200-1700V。
2023-08-09 10:23:39431 一、什么是SiC半导体?1.SiC材料的物性和特征SiC(碳化硅)是一种由Si(硅)和C(碳)构成的化合物半导体材料。不仅绝缘击穿场强是Si的10倍,带隙是Si的3倍,而且在器件制作时可以在较宽
2023-08-21 17:14:581144 长电科技在功率器件封装领域积累了数十年的技术经验,具备全面的功率产品封装外形,覆盖IGBT、SiC、GaN等热门产品的封装和测试。
2023-10-07 17:41:32398 SiC 和 GaN 被称为“宽带隙半导体”(WBG)。由于使用的生产工艺,WBG 设备显示出以下优点:
2023-10-09 14:24:361332 SiC与GaN的兴起与未来
2023-01-13 09:06:226 了解SiC器件的命名规则
2023-11-27 17:14:49357
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