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光刻技术工艺及应用

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光学光刻技术有哪些分类 光刻技术的原理

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关,而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:1524

半导体制造工艺光刻工艺详解

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2023-08-24 10:38:54690

什么是光刻工艺光刻的基本原理

光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:53438

光刻技术概述及其分类

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2023-08-07 17:52:53581

次时代EUV光刻已箭在弦上!

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绕开EUV光刻,下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围

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2023-07-16 01:50:152565

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2023-06-26 17:00:19446

ASML光刻机发展历程 光刻机核心系统设计流程

光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要用于封装测试,实现高性能的先进封装,技术难度相对较小。
2023-06-15 11:14:532495

芯片制造之光刻工艺详细流程图

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2023-06-09 10:49:203467

EUV光刻技术优势及挑战

EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟,预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041286

采用光刻胶牺牲层技术改善薄膜电路制备工艺

改善之后的工艺与之前最大的区别在于使用光刻胶充当溅射的掩膜,在电镀之前将电路图形高精度的制备出来,不再进行湿法刻蚀,避免了侧腐蚀对线条精度和膜基结合力的影响,同时,基板只浸入丙酮中一次以去除光刻胶,避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:35700

浅谈光刻技术

在整个芯片制造过程中,几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术光刻技术也是制造芯片最关键的技术,占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:03697

光刻技术的种类介绍

根据维基百科的定义,光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
2023-04-25 11:11:33922

什么是光刻技术

光刻技术简单来讲,就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程,是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术,CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。
2023-04-25 11:02:321324

不只需要光刻机:芯片制造的五大关键工艺

光刻机”是芯片制造中的关键设备,并且随着芯片技术演进,晶体管特征尺寸越来越小,需要用到的光刻机就越尖端。因为光刻技术的差距,以及光刻机故事的不断被渲染, “光刻技术”仿佛成为了半导体技术的唯一重要技术
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纳米压印光刻,能让国产绕过ASML吗?

日本最寄望于纳米压印光刻技术,并试图靠它再次逆袭,日经新闻网也称,对比EUV光刻工艺,使用纳米压印光刻工艺制造芯片,能够降低将近四成制造成本和九成电量,铠侠 (KIOXIA)、佳能和大日本印刷等公司则规划在2025年将该技术实用化。
2023-03-22 10:20:391347

剖析光刻机的种类与原理

用于集成电路制造的光刻机有两种:半导体光刻机和光学(光刻光刻机。下面将分别介绍这两种光刻机的相关知识。半导体光刻机是根据芯片制造的工艺和设备来划分的,可以分为:193纳米湿法光刻、 DUV、 ArF+ ALD等技术路线,以及传统的干法光刻技术路线。
2023-03-03 11:36:546651

X射线光刻(X-ray lithography)技术是什么意思

X射线光刻(X-ray lithography)技术是电子工业中用于选择性去除一部分薄膜的工艺。使用X射线将几何图形转移光敏光刻胶上。然后进行一系列化学处理,将产生的图案雕刻到光刻胶下方的材料中。
2022-12-28 09:20:263251

光刻机的工作原理以及关键技术

导读:光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻技术光刻机的工作原理: 利用光刻
2022-12-23 13:34:546622

光刻的分类和工艺流程

该工序使用涂胶装置(涂胶机)。为了去除光刻胶中含有的溶剂,在70 ~ 90°C的温度下进行前烘(Pre -Bake)。在曝光装置上“绘制”掩膜图形。接下来进行显影,只留下必要的光刻胶。之后,为了完全
2022-12-09 10:23:543856

半导体光刻技术的起源与发展

光刻是半导体工业的核心技术。自1960年Fairchild Semiconductor的罗伯特·诺伊斯发明单片集成电路以来,光刻一直是主要的光刻技术
2022-11-14 11:36:461920

计算光刻技术的发展

计算光刻 (Computational Lithography)技术是指利用计算机辅助技术来增强光刻工艺中图形转移保真度的一种方法,它是分辦率增强技术(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:221935

#硬声创作季 微电子工艺光刻83.2--光刻

IC设计工艺光刻
Mr_haohao发布于 2022-10-21 02:03:43

深度解析EUV光刻工艺技术

光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词,也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么,让我们仔细看看光刻技术
2022-10-18 12:54:052736

光刻工艺的基本步骤

传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的,普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭(见下表)。这是因为 193nm 的光刻依靠浸没式和多重曝光技术的支撑,可以满足从 0.13um至7nm 共9个技术节点的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2912687

沉浸式光刻技术是什么 原理是什么

沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中,其镜头与光刻胶之间的介质是空气,而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上,浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率,其缩短的倍率即为液体介质的折射率。
2022-10-13 16:51:382506

半导体光刻工艺过程(2)

尽管存在从流变学角度描述旋涂工艺的理论,但实际上光刻胶厚度和均匀性随工艺参数的变化必须通过实验来确定。光刻胶旋转速度曲线(图 1-3)是设置旋转速度以获得所需抗蚀剂厚度的重要工具。最终抗蚀剂厚度在旋转速度的平方根上变化,大致与液体光致抗蚀剂的粘度成正比。
2022-08-25 17:12:54794

光刻工艺中使用的曝光技术

根据所使用的辐射,有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻光刻和离子束光刻。在光学光刻技术中,有部分不透明和部分不透明的图案掩模(光片)半透明区域被使用。紫外线辐射或气体激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例减少。
2022-07-27 16:54:532708

duv光刻机和euv光刻机区别是什么

目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1075655

euv光刻机可以干什么 光刻工艺原理

光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03:076696

半导体等精密电子器件制造的核心流程:光刻工艺

光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一,是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成,是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应,经曝光、显影等光刻工艺,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2022-06-21 09:30:0914135

Silvaco TCAD工艺技术参数及其说明

•OPTOLITH模块可对成像(imaging),光刻胶曝光(exposure),光刻胶烘烤(bake)和光刻胶显影(development)等工艺进行精确定义
2022-03-15 14:16:473322

半导体光刻是什么

平版印刷术被定义为“一种从已经准备好的平坦表面(如光滑的石头或金属板)印刷的方法,以便油墨仅粘附在将要印刷的设计上”。在半导体器件制造中,石头是硅片,而墨水是沉积、光刻和蚀刻工艺的综合效果,从而产生
2022-03-14 15:20:531611

光刻胶剥离工艺—《华林科纳-半导体工艺

摘要 新的全湿剥离工艺在去除高度注入的光刻胶时不需要干等离子体灰化工艺,同时保持低缺陷水平和至少相当于记录工艺的高产量性能。灰化步骤的消除减少了不希望的基板损坏和材料损失,改善了周期时间,释放
2022-03-01 14:39:431215

光刻机是干什么用的 光刻机厂商有哪些

光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备,总得来说光刻机是用来制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0028839

印刷电子制造中的厚膜光刻技术

“厚膜光刻工艺是一种通过厚膜金属化技术(简称“厚膜技术”)与光刻技术相结合,达到高精度、低成本、高效率、高灵活性,并已开始成熟商用化的新型微纳量产制造技术
2022-01-17 16:51:091218

光刻机制作芯片过程

光刻机制作芯片过程非常复杂,而光刻机是制造芯片最重要的设备之一,由于先进光刻机的技术封锁,中国芯片厂商的芯片制作工艺目前比较落后,也没有优秀的国产光刻机来掌握到最先进的光刻技术
2021-12-30 11:23:2110681

有关半导体工艺的问题

circuit technique )(百度百科)电子集成技术工艺方法分为以硅平面工艺为基础的单片集成电路、以薄膜技术为基础的薄膜集成电路和以丝网印刷技术为基础的厚膜集成电路。 半导体工艺是集成电路工艺
2009-09-16 11:51:34

关于光刻的原理、光刻设备等知识点集合

的、颗粒的、会影响光刻胶的厚度。 涂胶:根据工艺要求,目前常用的两种涂胶工艺,一个就是旋转涂覆、一个就是喷涂。根据工艺要求和光刻胶的性能、可以有不同厚度的光刻胶。 前烘:就比较讲究了,因为这东西肉眼看不见变化。只有最后
2021-10-13 10:59:423595

集成电路制造的光刻与刻蚀工艺

光刻是集成电路工艺中的关键性技术。在硅片表面涂上光刻胶薄层,经过光照、显影,在光刻胶上留下掩模版的图形。
2021-04-09 14:27:1963

集成电路的发展与其制造工艺─——光刻技术

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2020-12-14 15:06:446163

芯片光刻技术的基本原理及主要步骤

几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。 光刻技术的基本原理 光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂(或称光刻胶)感
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PCBA开发的开发受到光刻工艺的影响

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作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻光刻机(Mask
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根据所用光源改进和工艺创新,光刻机经历了 5 代产品发展,每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。在技术节点的更新上,光刻机经历了两次重大变革,在历次变革中,ASML 都能抢占先机,最终奠定龙头地位。
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光刻技术的原理详细说明

光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻技术光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中,光刻技术的增长,直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-12-21 09:58:4019373

一文读懂光刻机的工作原理

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深度探究光刻技术的原理和EUV光刻技术前景

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