MCU批量生产下载程序的几种常见方法
2023-10-24 17:22:46
31 
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:1524 
线路板的光刻技术
2023-09-21 10:20:34202 
1.电机启动的五种常见方式 ①.星三角降压启动：正常运行为三角形接法的电动机，在启动时将定子绕组接成星形，可以降低启动电流。
2023-09-14 11:28:40235 
COD即化学需氧量，是指水中的还原性物质在强氧化剂的作用下，发生氧化还原反应时消耗氧的量。测定COD的主要方法有重铬酸钾法、高锰酸钾法、库仑法、催化快速法、节能加热法、比色法和紫外吸收法。 重铬酸钾
2023-09-12 09:10:19471 
方法其实有很多，但基本原理都是在指定存储区域（Flash）中写入软件版本信息，这里讲述其中一种比较常见的方法。
2023-09-11 09:32:1189 
光刻是一种图像复制技术，是集成电路工艺中至关重要的一项工艺。简单地说，光刻类似照相复制方法，即将掩膜版上的图形精确地复制到涂在硅片表面的光刻胶或其他掩蔽膜上面，然后在光刻胶或其他掩蔽膜的保护下对硅片进行离子注入、刻蚀、金属蒸镀等。
2023-08-07 17:52:53581 
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
在本文中，我将介绍处理空闲总线条件的两种常见方法，以便保证总线上的逻辑状态。
2023-07-04 11:30:16666 
中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授
2023-06-30 10:06:02131 
中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授
2023-06-29 10:02:17161 
市面上很多基于单片机的产品都具有在线或离线升级功能，为了防止升级过程出现意外，一般我们都会对Flash程序数据进行校验，常见的就是添加 CRC 校验信息。
2023-05-19 10:49:191077 
SIP是一种源于互联网的IP语音会话控制协议，具有灵活、易于实现、便于扩展等特点，最常见的用途之一是互联网通信。由于SIP比传统的电话系统便宜得多，因此该技术为连接到公用电话交换网（PSTN）提供了很好的替代方案。
2023-05-19 10:42:03356 EUV光刻技术仍被认为是实现半导体行业持续创新的关键途径。随着技术的不断发展和成熟，预计EUV光刻将在未来继续推动芯片制程的进步。
2023-05-18 15:49:041286 
在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:03697 光刻技术简单来讲，就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程，是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术，CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。
2023-04-25 11:02:321324 
光刻技术是将掩模中的几何形状的图案转移到覆盖在半导体晶片表面的薄层辐射敏感材料（称为抗蚀剂）上的过程
2023-04-25 09:55:13691 
箱式变压器是工业、矿山、建筑等各个领域中常见的基础设施，作为电力系统中不可缺少的设备之一，需要定期进行保养与维护，以确保其正常、安全、稳定地运行。以下是箱式变压器保养的常见方法：
2023-04-19 14:45:51737 逆变器的维护对于不同的元器件有不同的维护方法，所以维护时需要不同的维护工具，只能掌握一些电子线路上的基本技能。然而，在部件修复之前，检测故障点是一个非常复杂的过程。
2023-03-24 14:11:166836 GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这对于半导体制造而言极大的提升了效率。甚至可以说
2023-03-23 18:55:377287 
用于集成电路制造的光刻机有两种：半导体光刻机和光学（光刻）光刻机。下面将分别介绍这两种光刻机的相关知识。半导体光刻机是根据芯片制造的工艺和设备来划分的，可以分为：193纳米湿法光刻、 DUV、 ArF+ ALD等技术路线，以及传统的干法光刻等技术路线。
2023-03-03 11:36:546651 光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上，然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。其中光刻系统被称为光刻机，带有图形的石英板称为掩膜，光敏记录材料被称为光刻胶或抗蚀剂。
2023-02-08 14:58:333240 随着表面贴装技术的引人，电路板的封装密度飞速增加。因此，即使对于密度不高、一般数量的电路板，电路板的自动检测不但是基本的，而且也是经济的。在复杂的电路板检测中，两种常见的方法是针床测试法和双探针或飞
2023-02-02 18:31:061477 导读：光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。光刻是制造芯片的最关键技术，在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。 光刻机的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:546622 前烘就是在一定温度下，使胶膜里的溶剂缓慢地挥发出来，使胶膜干燥，并增加其粘附性和耐磨性。
2022-12-16 11:55:181793 对于光刻机难道我们真就毫无还手之力了？其实也不见得，华为最新的专利端上来了，看看这道硬菜。日前，华为一项名为“反射镜、光刻装置及其控制方法”的新专利公开，专利申请
2022-11-21 15:10:072470 
光刻是半导体工业的核心技术。自1960年Fairchild Semiconductor的罗伯特·诺伊斯发明单片集成电路以来，光刻一直是主要的光刻技术。
2022-11-14 11:36:461920 计算光刻 (Computational Lithography)技术是指利用计算机辅助技术来增强光刻工艺中图形转移保真度的一种方法，它是分辦率增强技术(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:221935 产生量子纠缠的设备通常体积庞大，且每次只能产生一对纠缠光子。现在，科学家们发明了一种厚度约为一便士三分之一的装置，它不仅可以成对产生复杂的纠缠光子网，还可以将多对纠缠光子连在一起。本发明不仅可以大大简化量子技术所需的设置，而且有助于支持更复杂的量子应用。
2022-10-18 16:52:023233 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:052736 传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的，普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭（见下表）。这是因为 193nm 的光刻依靠浸没式和多重曝光技术的支撑，可以满足从 0.13um至7nm 共9个技术节点的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2912687 沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中，其镜头与光刻胶之间的介质是空气，而所谓浸入式技术是将空气介质换成液体。实际上，浸入式技术利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率。
2022-10-13 16:51:382506 光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:214726 PCBA工厂确保采购物料原装的常见方法是先核验供应商的资质，然后让供应商提供欲采购物料的原厂授权证明。在收到物料后让仓管仔细检查核对，避免收到氧化料、老料、型号参数不对的物料。
2022-08-20 12:09:59698 根据所使用的辐射，有不同类型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、电子束光刻、x射线光刻、光刻和离子束光刻。在光学光刻技术中，有部分不透明和部分不透明的图案掩模(光片)半透明区域被使用。紫外线辐射或气体激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例减少。
2022-07-27 16:54:532708 
从 2D 扩展到异构集成和 3D 封装对于提高半导体器件性能变得越来越重要。近年来，先进封装技术的复杂性和可变性都在增加，以支持更广泛的设备和应用。在本文中，我们研究了传统光刻方法在先进封装中的局限性，并评估了一种用于后端光刻的新型无掩模曝光。
2022-07-26 10:42:12887 压印光刻是许多新兴应用的关键技术，例如微光学、增强现实、MEMS和光电传感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:071054 
与此同时，在ASML看来，下一代高NA EUV光刻机为光刻胶再度带来了挑战，更少的随机效应、更高的分辨率和更薄的厚度。首先传统的正胶和负胶肯定是没法用了，DUV光刻机上常用的化学放大光刻胶（CAR）也开始在5nm之后的分辨率和敏感度上出现瓶颈
2022-07-22 10:40:081783 PCB检测用以提高产品生产良率的几种检查方法
2022-07-15 14:15:314142 euv光刻机原理是什么 芯片生产的工具就是紫外光刻机，是大规模集成电路生产的核心设备，对芯片技术有着决定性的影响。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻机生产。那么euv光刻机原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1014121 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1075655 3C周边配件常见方案简述，可提供部分设计资料，也可以帮忙审核部分资源等。
2022-05-05 14:05:481520 
本发明涉及一种去除光刻胶的方法，更详细地说，是一种半导体制造用光刻胶去除方法，该方法适合于在半导体装置的制造过程中进行吹扫以去除光刻胶。在半导体装置的制造工艺中，将残留在晶片上的光刻胶，在H2O
2022-04-13 13:56:42712 
平版印刷术被定义为“一种从已经准备好的平坦表面(如光滑的石头或金属板)印刷的方法，以便油墨仅粘附在将要印刷的设计上”。在半导体器件制造中，石头是硅片，而墨水是沉积、光刻和蚀刻工艺的综合效果，从而产生
2022-03-14 15:20:531611 
软件代码有bug，可以通过人工查找，也可以通过编译发现，同时也可以通过代码静态分析工具找到错误或警告。
2022-03-10 17:55:132230 Futurrex,成立于1985年，位总部设在美国新泽西州，富兰克林市。 公司业务范围覆盖北美、亚太以及欧洲。Futurrex在开发最高端产品方面已经有很长的历史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
电子发烧友网为你提供电平转换常见方法的汇总比较资料下载的电子资料下载，更有其他相关的电路图、源代码、课件教程、中文资料、英文资料、参考设计、用户指南、解决方案等资料，希望可以帮助到广大的电子工程师们。
2021-04-09 08:44:21
9 5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别？ EUV光刻机产能如何？ 大飞_6g（听友） 请问谢博士，EUV光刻机的产能是怎样的？比如用最先进的光刻机，满负荷生产手机芯片麒麟990，每天能产多少片？中芯国际有多少台投入生产的光刻机？是1台、5台还是10台呢？谢谢 谢志
2021-03-14 09:46:3023048 随着表面贴装技术的引人，电路板的封装密度飞速增加。因此，即使对于密度不高、一般数量的电路板，电路板的自动检测不但是基本的，而且也是经济的。在复杂的电路板检测中，两种常见的方法是针床测试法和双探针或飞针测试法。
2020-12-17 15:48:0014 是如何一步一步变成了芯片制造的卡脖子技术？本文试图一探究竟。 光刻技术是利用光学和化学反应的原理，以及利用化学和物理的刻蚀方法，把电路图形制作到半导体基片、或者下一层介质材料之上，经过有序的多次光刻工序叠加，
2020-12-04 15:45:284938 近两年来，芯片制造成为了半导体行业发展的焦点。芯片制造离不开光刻机，而光刻技术则是光刻机发展的重要推动力。在过去数十载的发展中，光刻技术也衍生了多个分支，除了光刻机外，还包括光源、光学元件、光刻胶等材料设备，也形成了极高的技术壁垒和错综复杂的产业版图。
2020-11-27 16:03:3618314 作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。 光刻机 光刻机（Mask
2020-08-28 14:39:0411220 
光刻是指利用光学复制的方法把图形印制在光敏记录材料上，然后通过刻蚀的方法将图形转移到晶圆片上来制作电子电路的技术。
2020-08-13 15:09:2217158 
光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-12-21 09:58:4019373 LED电子显示屏很重要的组成部分就有LED单元板，如果单元板有问题，会直接影响LED显示屏的整体质量！所以，如何辨别LED单元板的好坏是LED显示屏商家关心的问题，下面整理了一些检测LED单元板的常见方法。
2019-05-04 17:31:003048 光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-03-03 10:00:313864 光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
2019-03-02 09:41:2910877 光刻是集成电路最重要的加工工艺，他的作用，如同金工车间中车床的作用。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
2019-02-25 10:07:535619 光刻技术是包含光刻机、掩模、光刻材料等一系列技术，涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究方向。目前科学家正在探索更短波长的F2激光（波长为157纳米）光刻技术。由于大量的光吸收，获得用于光刻系统
2019-01-02 16:32:2322173 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得
2018-06-27 15:43:5011578 光刻技术是集成电路最重要的加工工艺。在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻技术。光刻也是制造芯片的最关键技术，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003010 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得
2018-04-17 16:07:4133297 本文提到MEMS技术中所应有的光刻技术，帮助读者了解光刻技术的原理，应用。
2016-04-28 11:35:3210 光耦隔离的4种常见方法对比
2012-05-31 11:06:35130218 
随着芯片集成度的不断提高、器件尺寸的不断缩小，光刻技术和光刻设备发生着显著变化。通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上
2011-10-31 16:38:1769 简单的说用一定波长的波刻蚀材料就是光刻技术,集成电路制造中利用光学- 化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形
2011-09-05 11:25:085199 摆脱光刻技术的沮丧看来遥遥无期。今天的193nm浸入式光刻技术仍然远远领先。业界一度认为193nm浸入式光刻会在32nm遭遇极限
2011-03-21 10:00:332363 
光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21127
电子发烧友App
工商网监
评论