电子束曝光机与普通光学曝光机区别

　　电子束曝光机

　　电子束曝光机是一种用于数学领域的分析仪器，于2007年01月01日启用。

　　电子束曝光机是一台加工设备，其加工目的是在电子束感光胶上制备出纳米级的结构。该设备电子的加速电压达到100KV，扫描速度12MHz，具有10个承片台；因此其具有加工精度高，速度快，自动化程度高等特点，从而具有比较高的工作效率。加工样品不需要掩膜版制备，使得图形能够灵活多变，非常适用于科研探索。

　　电子束曝光机与普通光学曝光机区别

　　同普通光学曝光机一样，电子束曝光机也要在有机聚合物（抗蚀剂）薄膜上制作掩模图形。这种有机聚合物一般为液态，用旋转涂覆（甩胶）或喷淋等方法在基片上形成均匀的薄膜层，经培烘成为固体薄膜。由于薄膜对电子束敏感，瘦电子束辐射后，其物理性能和化学性能发生变化，在一定的显影剂中将变成良溶（正性电子抗蚀剂）的或非良溶（负性电子抗蚀剂）的。

　　因此，在基片上的薄膜，有的溶掉，有的不溶而保留下来形成精细的掩模图形。有了这层图形，就可以对基片有选择的进行加工，即在基片上的某些区域改变基片材料的性能，如扩散掺杂、离子注入；或者将基片的某些区域减薄，如化学腐蚀、离子刻蚀；或者对基片的某些区域用另外的材料来加厚，如蒸镀或溅射淀积金属层等。

　　与普通光学曝光机相比，电子束曝光机的分辨率不受光波衍射效应的限制，至少要比普通光学曝光机高一个数量级。电子束曝光的搞分辨率，提高了器件性能，如频率、功耗、功率密度等，从而提高了器件可靠性；并且为制作特种器件，如单片微波电路、集成光路、声表面波器件、磁泡存储器、约瑟夫逊器件等提供了技术基础。

　　用电子束曝光机制造光学掩模版也有其优越性。按普通光学制版的程序是：首先刻红模，第一次缩小照像，制中间版，再分布重复照像，制掩模版。两次缩小制成的掩模版，其缺陷比电子束曝光直接一次制版的缺陷要多。另外，普通光学制版聪设计到制成掩模的周期长，修改困难；而电子束曝光制版周期短，且易修改。目前在微电子工业中和实验室中使用的掩模版，除了极少数由激光图形发生器制作外，绝大部分是由电子束曝光制作的。
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