已经完成，现在可以为客户提供样品。通过在其基于极紫外（EUV）的工艺产品中添加另一个尖端节点，三星再次证明了其在先进晶圆代工市场的领导地位。 与7nm相比，三星的5nm FinFET工艺技术将逻辑区域效率提高了25％，功耗降低了20％，性能提高了10％，从而使其能够拥有更多创
2019-04-18 15:48:47
6010 ，台积电目前的7nm已经广泛应用在各大半导体企业的芯片当中，如麒麟980、苹果A12等。台积电方面也表示，7nm是其产能提升最快的一代工艺。 目前公开的信息显示，台积电7nm工艺共有两代，第一代在2018年4月份大规模投产，第二代，将EUV（极紫外光）技术引入进7nm的商业生产当
2020-08-23 08:23:005211 推动科技进步的半导体技术真的会停滞不前吗？这也不太可能，7nm工艺节点将开始应用EUV光刻工艺，研发EUV光刻机的ASML表示EUV工艺将会支持未来15年，部分客户已经在讨论2030年的1.5nm工艺路线图了。
2017-01-22 11:45:423424 传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的，普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭（见下表）。这是因为 193nm 的光刻依靠浸没式和多重曝光技术的支撑，可以满足从 0.13um至7nm 共9个技术节点的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995 10月10日晚间消息，著名半导体制造公司台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在六个月后开始试产！
2018-10-11 11:45:233704 中芯国际的7nm工艺发展跟台积电的路线差不多，7nm节点一共发展了三种工艺，分别是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7＋，前两代工艺也没用EUV光刻机，只有N7＋工艺上才开始用EUV工艺，不过光罩层数也比较少，5nm节点寸是充分利用EUV光刻工艺的，达到了14层EUV光罩。
2020-02-28 09:49:163525 翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22:23
Tock步伐，工艺进步至7nm，首款产品为面向数据中心的GPU。在7nm工艺方面，英特尔提出，光刻技术将成为7nm乃至更新工艺制程的挑战。英特尔计划在进入7nm后才使用EUV光刻（意味着目前的10nm产品
2020-07-07 11:38:14
7nm新工艺的加持：RX 5500 XT可轻轻松松突破2GHz
2021-06-26 07:05:34
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24:44
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在7nm这个节点引入极紫外光（EUV
2020-07-07 14:22:55
。但从技术层面来看，开始领先于AMD的英特尔慢慢被后来者居上，AMD也使劲全力向顶层技术发起总攻，如10nm、7nm工艺。在AMD漫长的奋斗下，英特尔稍显疲态。有分析师预测，随着英特尔缓慢的研发步伐
2018-09-29 17:42:03
设计差异性并更快地推出他们的最终产品。”Fusion Design Platform提供基于7nm极紫外单次曝光的优化，支持过孔支柱和连排打孔，以实现最大的设计可布线性和利用率，以及最少的电压降和电迁移
2020-10-22 09:40:08
`请问PCB蚀刻工艺质量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31:05
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15:43
Smith表示，“很高兴首次在中国与大家分享英特尔制程工艺路线图中的多项重要进展，展现了我们持续推动摩尔定律向前发展所获得的丰硕成果。”英特尔公司全球副总裁兼中国区总裁杨旭英特尔公司全球副总裁兼中国区总裁杨
2017-09-22 11:08:53
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工艺。所谓的XXnm指的是集成电路的MOSFET晶体管栅极
2021-07-29 07:19:33
45-50台的交付量。这其中很大一部分都供给了台积电，用于扩充5nm，以及7nm产能。中微半导体除光刻机之外，蚀刻机也是5nm制程工艺不可缺少的，目前，全球高端刻蚀机玩家仅剩下应用材料、Lam
2020-03-09 10:13:54
们的投入中，80%的开支会用于先进产能扩增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外光刻机，一台设备的单价就可以达到1.2亿美元，可见半导体
2020-02-27 10:42:16
快照】：极紫外(EUV)光刻技术一直被认为是光学光刻技术之后最有前途的光刻技术之一,国际上对EUV光刻技术已开展了广泛的研究[1-4]。在EUV光刻技术中,EUV光源是其面临的首要技术难题。实现EUV
2010-04-22 11:41:29
10nm、7nm等到底是指什么？芯片工艺从目前的7nm升级到3nm后，到底有多大提升呢？
2021-06-18 06:43:04
坛上，其总经理兼联合CEO刘德音表示，他们早已制造出7nm的SRAM，并确认10nm将在2016年初试产，7nm则预期在2017年Q1开试。报道称，台积电非常高兴，因为终于超过英特尔了。他们还趁热预告
2016-01-25 09:38:11
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36:46
目前的GS464V升级到LA664，因此单核性能有较大提升，达到市场上主流设计。至于未来的工艺，龙芯表示目前公司针对7nm的工艺制程对不同厂家的工艺平台做评估，不过他们没有透露什么时候跟进7nm工艺
2023-03-13 09:52:27
Intel 22nm光刻工艺背后的故事
去年九月底的旧金山秋季IDF 2009论坛上，Intel第一次向世人展示了22nm工艺晶圆，并宣布将在2011年下半年发布相关产品。
2010-03-24 08:52:581085 光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻来完成的,也就是说,首先在硅片上旋转涂覆光刻胶,再将 其曝露于某种光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 的34%，而且良率很好，而三星展示的7nm SRAM芯片只有8Mb，更多的是研究性质，他们要等EUV光刻工艺成熟。 在ISSCC国际固态电路会议上，各
2017-02-11 02:21:11277 
本周在火奴鲁鲁举行的VLSI（超大规模集成电路）研讨会上，三星首次分享了基于EUV技术的7nm工艺细节。
2018-06-22 15:16:00967 前些天，新闻曝光的中芯国际花了1．2亿美元从荷兰ASML买来一台EUV极紫外光刻机，未来可用于生产7nm工艺芯片，而根据最新消息称，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，国产SSD固态硬盘将迎来重大突破。
2018-06-29 11:24:008478 三星官网发布新闻稿，三星、高通宣布扩大晶圆代工业务合作，包含高通下一代5G移动芯片，将采用三星7纳米LPP（Low-Power Plus）极紫外光（EUV）制程。 新闻稿指出，通过7纳米LPP
2018-02-23 07:31:561279 纳米电子与数字技术研发创新中心 IMEC 与美国楷登电子( Cadence) 公司联合宣布，得益于双方的长期深入合作，业界首款 3nm 测试芯片成功流片。该项目采用极紫外光刻(EUV)技术。
2018-03-19 15:08:308347 。 GlobalFoundries、英特尔、三星和台积电希望将EUV光刻技术加入到7nm和5nm生产中。但就像以前一样，EUV由几部分组件组成，在芯片制造商能够引入之前，它们必须整合在一起。
2018-03-31 11:52:005861 率先引入EUV极紫外光刻设备，去年向光刻巨头ASML一口气买了10台EUV设备，要知道ASML去年一年的产能不过才12台而已，其他厂商买不到设备，必然会影响产能。
2018-04-07 00:30:008927 、台积电近年来在新工艺方面竞争激烈，为抢夺订单打得火热。7nm工艺上，三星计划全球第一家导入EUV极紫外光刻，原本被寄予厚望，但是新技术在研发、调校和设备上都需要花费更长时间，进展不顺。
2018-06-08 13:35:004418 非关键层面上首次尝试使用EVU极紫外光刻系统，工艺节点从CLN7FF升级为CLN7FF+，号称晶体管密度可因此增加20%，而在同样密度和频率下功耗可降低10%。 台积电5nm(CLN5)将继续使用荷兰
2018-05-15 14:35:133793 
5nm、4nm、3nm工艺，直逼 这两年，三星电子、台积电在半导体工艺上一路狂奔，虽然有技术之争但把曾经的领导者Intel远远甩在身后已经是不争的事实。
2018-06-08 07:12:003708 问题，工艺延期、产品路线图不给力等等，不过AMD的追赶也是个重要因素。在半导体芯片市场上，英特尔以往最大的筹码就是制程工艺领先对手两三年，但是今年一切变了，英特尔10nm难产，还在使用14nm工艺，AMD的7nm芯片今年就会出货，制程工艺赶超英特尔不是梦。
2018-06-27 16:29:00548 今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺，第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺，二代7nm才会上EUV光刻工艺，预计明年量产。那么存储芯片行业何时会用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 另外，7nm EUV的好处还在于，比多重曝光的步骤要少，也就是相同时间内的产量将提升。当然，这里说的是最理想的情况， 比如更好的EUV薄膜以减少光罩的污染、自修正机制过关堪用等。三星称，7nm EUV若最终成行，将被证明是成本更优的方案。
2018-06-22 15:53:453469 随着技术的发展，今年台积电、三星及Globalfoundries等公司都会量产7nm工艺，下一代将在2020年进入5nm工艺，2022年进入3nm工艺。目前第一代7nm工艺将使用传统的DUV光刻工艺，预计到5nm工艺将会上EUV光刻工艺。
2018-08-20 17:41:491149 10月10日晚间消息，著名半导体制造公司台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在六个月后开始试产！
2018-10-11 08:44:334918 今年4月开始，台积电第一代7nm工艺(CLN7FF/N7)投入量产，苹果A12、华为麒麟980、高通“骁龙855”、AMD下代锐龙/霄龙等处理器都正在或将会使用它制造，但仍在使用传统的深紫外光刻(DUV)技术。
2018-10-17 15:44:564730 随着三星宣布7nm EUV工艺的量产，2018年EUV光刻工艺终于商业化了，这是EUV工艺研发三十年来的一个里程碑。不过EUV工艺要想大规模量产还有很多技术挑战，目前的光源功率以及晶圆产能输出还没有
2018-10-30 16:28:403376 现在的EUV光刻机使用的是波长13.5nm的极紫外光，而普通的DUV光刻机使用的是193nm的深紫外光，所以升级到EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平，实现7nm及以下工艺。
2018-11-01 09:44:264268 作为全球头号代工厂，台积电的新工艺正在一路狂奔，7nm EUV极紫外光刻工艺已经完成首次流片，5nm工艺也将在2019年4月开始试产。
2018-12-19 15:01:021550 GlobalFoundries、联电等国际代工巨头已经纷纷放弃10/7/5nm等更先进工艺，中芯国际承载着无数人的希望还在努力奋进，去年年中就向荷兰ASML(阿斯麦)订购了一台EUV极紫外光刻机，单价1.2亿美元，今年初交付，未来将用于7nm工艺。
2019-02-27 15:48:066183 台积电指出，5nm制程将会完全采用极紫外光(EUV)微影技术，因此可带来EUV技术提供的制程简化效益。5nm制程能够提供全新等级的效能及功耗解决方案，支援下一代的高端移动及高效能运算需求的产品。目前，其他晶元厂的7nm工艺尚举步维艰，在5nm时代台积电再次领先。
2019-04-04 16:05:571660 目前华为最新的麒麟980处理器与苹果的A12处理器均采用了台积电的7nm工艺，这也是市面上少数采用7nm工艺的厂商之一。另外此前据外媒报道，华为今年下半年将推出采用7nm+EUV（极紫外光刻工艺）工艺的麒麟985芯片。
2019-05-07 18:26:023960 彭博报道称，台积电已于4月份就开始了苹果A13芯片的早期测试生产阶段，并且计划在本月进行量产。预计A13芯片将采用台积电的第二代7nm工艺，并且率先采用EUV光刻技术。
2019-05-13 16:39:514527 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡，也领先Intel、三星一大步。
2019-05-28 11:20:413233 台积电官方宣布，已经开始批量生产7nm N7+工艺，这是台积电第一次、也是行业第一次量产EUV极紫外光刻技术，意义非凡。
2019-05-28 16:18:243401 通过使用三星7nm EUV工艺代替台积电的7nm工艺，Nvidia可能能够获得更多供应。
2019-06-10 09:06:126225 7nm+ EUV节点之后，台积电5nm工艺将更深入地应用EUV极紫外光刻技术，综合表现全面提升，官方宣称相比第一代7nm EDV工艺可以带来最多80%的晶体管密度提升，15%左右的性能提升或者30%左右的功耗降低。
2019-09-26 14:49:114797 日前，高通发布了新一代旗舰平台骁龙865、主流平台骁龙765/765G，分别采用台积电7nm、三星8nm工艺制造。那么，高通为何在两个平台上使用两种工艺？骁龙865为何没用最新的7nm EUV？5nm方面高通有何规划？
2019-12-09 17:23:236488 7nm是Intel下一代工艺的重要节点，而且是高性能工艺，其地位堪比现在的14nm工艺，而且它还是Intel首次使用EUV光刻的制程工艺，意义重大。
2019-10-12 14:44:542701 英特尔预计其制造工艺节点技术将保持2年一飞跃的节奏，从2019年的10纳米工艺开始，到2021年转向7纳米EUV（极紫外光刻），然后在2023年采用5纳米，2025年3纳米，2027年2纳米，最终到2029年的1.4纳米。
2019-12-11 10:31:203165 截至目前，华为麒麟990 5G是唯一应用了EUV极紫外光刻的商用芯片，台积电7nm EUV工艺制造，而高通刚发布的骁龙765/骁龙765G则使用了三星的7nm EUV工艺。
2019-12-18 09:20:0315995 由于在7nm节点激进地采用了EUV工艺，三星的7nm工艺量产时间比台积电要晚了一年，目前采用高通的骁龙765系列芯片使用三星7nm EUV工艺量产。在这之后，三星已经加快了新工艺的进度，日前6nm工艺也已经量产出货，今年还会完成3nm GAE工艺的开发。
2020-01-06 16:13:073254 由于在7nm节点激进地采用了EUV工艺，三星的7nm工艺量产时间比台积电要晚了一年，目前采用高通的骁龙765系列芯片使用三星7nm EUV工艺量产。
2020-01-06 16:31:033215 三星宣布，位于韩国京畿道华城市的V1工厂已经开始量产7nm 7LPP、6nm 6LPP工艺，这也是全球第一座专门为EUV极紫外光刻工艺打造的代工厂。
2020-02-21 16:19:052214 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13
2020-02-29 11:42:4529307 在工艺制程方面，台积电的进度明显要快于英特尔。其实在2017年的时候，英特尔就指出台积电7nm并非真实的7nm。而且英特尔呼吁行业应该统一命名标准，防止命名混乱。英特尔更希望以晶体管密度作为衡量标准。
2020-03-01 08:13:003014 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 10:50:591943 据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39:545045 台积电5nm制造工艺基于ULV，也就是紫外线光刻技术实现，之前的7nm EUV工艺同样也是基于这项技术。那么制程的缩小又意味着什么？相比于7nm工艺，5nm工艺可以进一步提升芯片的晶体管密度，提升性能并降低功耗，可广泛用于PC、智能手机等设备的元器件中。
2020-03-12 14:10:442569 对于芯片制造厂商来说，光刻机的重要性不言而喻，尤其是目前芯片制造工艺已经提升至5nm和3nm之后，极紫外光刻机就显得更为重要。而ASML作为全球唯一有能力制造极紫外光刻机的厂商，他的一举一动，牵动着所有相关产业上下游厂商的心。
2020-04-15 15:44:364093 CFan曾在《芯希望来自新工艺！EUV和GAAFET技术是个什么鬼？》一文中解读过EUV（极紫外光刻），它原本是用于生产7nm或更先进制程工艺的技术，特别是在5nm3nm这个关键制程节点上，没有
2020-09-01 14:00:292234 工艺制程走入10nm以下后，台积电的优势开始显现出来。在7nm节点，台积电优先确保产能，以DUV（深紫外光刻）打头阵，结果进度领先三星的7nm EUV，吃掉大量订单，奠定了巨大优势。
2020-09-02 15:58:441967 工艺制程走入10nm以下后，台积电的优势开始显现出来。在7nm节点，台积电优先确保产能，以DUV（深紫外光刻）打头阵，结果进度领先三星的7nm EUV，吃掉大量订单，奠定了巨大优势。
2020-09-02 16:00:292684 关于芯片工艺，Intel前几天还回应称友商的7nm工艺是数字游戏，Intel被大家误会了。不过今年Intel推出了新一代的10nm工艺，命名为10nm SuperFin工艺，简称10nm SF，号称是有史以来节点内工艺性能提升最大的一次，没换代就提升15%性能，比其他家的7nm还要强。
2020-09-27 10:35:063537 
台积电是第一家将EUV（极紫外）光刻工艺商用到晶圆代工的企业，目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 10月26日消息，据国外媒体报道，在芯片制程工艺方面，英特尔在近几年已经落后于台积电和三星，台积电的5nm工艺在今年一季度就已大规模投产，三季度带来了近10亿美元的营收，三星电子也已在利用5nm工艺为相关客户代工芯片，而英特尔的7nm还尚未投产，在研发上还遇到了困难。
2020-10-26 14:56:241320 EUV工艺的，这是台积电三种7nm工艺版本之一，与其他两种工艺相比，它会使用EUV光刻机，光刻处理效率更高。 在Zen3是否会上EUV工艺的问题上，AMD官方的态度一直很模糊，只强调是改良版的7nm工艺，官方路线图中直接去掉了EUV的痕迹。 不过台湾媒体日前提到，AMD的Zen3这次使用的7nm工
2020-10-26 17:49:532077 ASML公司的EUV光刻机全球独一份，现在主要是用在7nm及以下的逻辑工艺上，台积电、三星用它生产CPU、GPU等芯片。马上内存芯片也要跟进了，SK海力士宣布明年底量产EUV工艺内存。
2020-10-30 10:54:211646 11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 制造工艺EUV（极紫外光刻）。Exynos 1080 所采用的 5nm EUV 工艺与 8nm LPP（成熟低功耗）相比，性能提升 14%，功耗降低 30%；与 7nm DUV（深紫外光刻）相比，
2020-11-12 16:48:291670 在5nm、6nm工艺大规模投产、第二代5nm工艺即将投产的情况下，芯片代工商台积电对极紫外光刻机的需求也明显增加。而外媒最新援引产业链消息人士的透露报道称，台积电已向阿斯麦下达了2021的极紫外光刻
2020-11-17 17:20:141640 自从芯片工艺进入到7nm工艺时代以后，需要用到一台顶尖的EUV光刻机设备，才可以制造7nm EUV、5nm等先进制程工艺的芯片产品，但就在近日，又有外媒豪言：这种顶尖的EUV极紫外光刻机，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 更多诀窍，领先对手1到2年。 据悉，三星的1z nm DRAM第三代内存已经用上了一层EUV，第四代1a nm将增加到4层。EUV光刻机的参与可以减少多重曝光工艺，提供工艺精度，从而可以减少生产时间、降低成本，并提高性能。 尽管SK海力士、美光等也在尝试EUV，但层数过少对
2020-12-04 18:26:542201 这届CES中英特尔的表现最为抢眼，不仅发布了多款新品，而且更是在近期接连发布重大消息。比如英特尔现任CEO司睿博将在2月份辞职，VMWare公司CEO Pat Gelsinger将回归Intel。此外，英特尔也宣称公司在7nm工艺上获得重大进展，股价应声大涨。
2021-01-14 11:17:011608 会不断增加，而全球目前唯一能生产极紫外光刻机厂商的阿斯麦，也就大量供应极紫外光刻机。 英文媒体在最新的报道中表示，在芯片制程工艺方面走在行业前列的台积电，在今年预计可获得 18 台极紫外光刻机，三星和英特尔也将继续购买这一类
2021-01-25 17:10:181352 ，对极紫外光刻机的需求会不断增加，而全球目前唯一能生产极紫外光刻机厂商的阿斯麦，也就大量供应极紫外光刻机。 英文媒体在最新的报道中表示，在芯片制程工艺方面走在行业前列的台积电，在今年预计可获得 18 台极紫外光刻机，三星和英特尔也将
2021-01-25 17:21:543321 对于台积电来说，他们今年依然会狂购极紫外光刻，用最先进的工艺来确保自己处于竞争的最有力地位。
2021-01-26 11:21:511137 2600万片晶圆采用EUV系统进行光刻。随着半导体技术的发展，光刻的精度不断提高，2021年先进工艺将进入5nm/3nm节点，极紫外光刻成为必修课，EUV也成为半导体龙头厂商竞相争夺采购的焦点。未来，极紫外光刻技术将如何发展？产业格局如何演变？我国发展半导体产业应如何解决光刻技术的难题？
2021-02-01 09:30:232588 2月25日消息，据国外媒体报道，芯片制程工艺提升至5nm的台积电和三星，已从阿斯麦购买了大量的极紫外光刻机，并且还在大量购买。
2021-02-26 09:22:011530 近日，有外媒称英特尔最新Meteor Lake的GPU核心可能会交由台积电公司代工，并且用上台积电的3nm工艺，加入了EUV光刻技术。英特尔Meteor Lake处理器预计将于明年正式亮相。
2021-11-24 16:07:161708 台积电和三星从7nm工艺节点就开始应用EUV光刻层了，并且在随后的工艺迭代中，逐步增加半导体制造过程中的EUV光刻层数。
2022-05-13 14:43:202077 
1、IBM的2nm芯片，所有关键功能都是使用EUV光刻机进行刻蚀。而7nm芯片只有在芯片生产的中间和后端环节使用EUV光刻机，意味着2nm工艺对EUV光刻机拥有更高的依赖性。
2022-07-05 17:26:497169 EUV光刻机是在2018年开始出现，并在2019年开始大量交付，而台积电也是在2019年推出了7nm EUV工艺。
2022-07-07 09:48:444523 目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 光刻是半导体工艺中最关键的步骤之一。EUV是当今半导体行业最热门的关键词，也是光刻技术。为了更好地理解 EUV 是什么，让我们仔细看看光刻技术。
2022-10-18 12:54:053180 光刻机誉为“现代半导体行业皇冠上的明珠”，是一种高度复杂的设备。光刻机是通过紫外光作为“画笔”，把预先设计好的芯片电路路线书写在硅晶圆旋涂的光刻胶上，光刻工艺直接决定了芯片中晶体管的尺寸和性能，是芯片生产中最为关键的过程。
2022-10-27 09:39:024118 半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38:541223 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工艺
2023-11-23 18:13:02579 
电子发烧友网报道（文/梁浩斌）近期，2nm工艺被几大晶圆代工厂推到了风口浪尖处，台积电、英特尔、三星都在推进2nm的计划，而距离他们2025年的量产计划还有三年时间，装备大战就已经提前展开
2022-06-29 08:32:004635
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