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电子发烧友网>EMC/EMI设计>今日看点丨ASML今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应

今日看点丨ASML今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应

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2022-12-12 16:55:05806

ASML和IMEC宣布共同开发high-NA EUV光刻试验线

据悉,签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款0.55 na euv (twinscan exe:5200)、最新款0.33 na euv
2023-06-30 09:29:06351

ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV ***;苹果与Arm签署新的芯片技术长期协议,延续至2040年以后

供应商出现了一些阻碍,但公司仍会按照此前设定的计划,在今年年底之前交付 High NA EUV 机器。 ASML 表示一台高数值孔径 EUV 光刻(High-NA EUV)设备的体积和卡车相当,每台
2023-09-06 16:50:06768

生产2纳米的利器!成本高达3亿欧元,High-NA EUV***年底交付

ASML是欧洲最大半导体设备商,主导全球光刻机设备市场,光刻机是半导体制造关键步骤,但高数值孔径(High NAEUV,Peter Wennink指有些供应商提高产能及提供适当技术遇到困难,导致延误。但即便如此,第一批产品仍会在年底推出。
2023-09-08 16:54:10782

三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台

EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASMLEUV光刻机,包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前,AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56456

IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设 High-NA EUV 研发中心

Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。 根据声明,负责协调该设施建设的非营利性机构 NY Creates 将利用 10 亿美元州政府资金
2023-12-14 08:44:18312

三星清空ASML股份,11年盈利超16倍

根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月,英特尔入股ASML获得15%股权,并出资10亿美元支持研发。
2024-02-23 17:27:59667

英特尔:预计2027年末10A节点投产,投资千亿美元扩大晶圆制造

 根据先前记载,10A将会是英特尔继使用High-NA EUV光刻技术的首批主要节点之后的第二例,预计可呈现出超过10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22215

Intel和ASML宣布全球第一台High-NA光刻机“首光”

荷兰ASML是世界上最先进的光刻设备制造商,最近该公司启动了第一台high-NA(numerical aperture,数值孔径)设备,以确保其正常工作。Intel也加入了这一行列,因为它是世界上第一家订购该设备的代工厂。
2024-04-08 10:12:14467

英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装

英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
2024-04-22 15:52:56451

台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键

今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1.7亿欧元(约合13.19亿元人民币)。
2024-05-15 14:42:38281

台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产

据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NAEUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
2024-05-17 17:21:47382

Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机

在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
2024-05-27 14:37:22265

ASML创下新的EUV芯片制造密度记录,提出Hyper-NA的激进方案

ASML在imec的ITF World 2024大会上宣布,其首台High-NA(高数值孔径)设备已经打破了之前创下的记录,再次刷新了芯片制造密度的标准。
2024-05-30 11:25:50304

押注2nm!英特尔26亿抢单下一代 EUV光刻机,台积电三星决战2025!

了。   芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。   针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:004773

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