1. ASML今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV
根据报道,芯片制造设备商ASML今年将向台积电、英特尔、三星交付最新的高数值孔径极紫外光刻机(High-NA EUV)。根据ASML发言人透露,该公司财务长Roger Dassen 在最近一次的电话会议上向分析师说,公司最大的三个客户──台积电、英特尔、三星──都将在今年年底前拿到High -NA EUV。
报道指出,英特尔已经订购最新的High-NA EUV,并将在12月底把这台机器运送奥勒冈州的工厂。不过目前还不清楚台积电何时会收到这台ASML的最新设备,台积电一位代表仅表示双方密切合作,拒绝进一步置评。ASML的这台最新机器可以用只有8nm厚的线来印压半导体──较上一代机器还要小1.7倍──将用来生产替人工智能(AI) 应用和先进消费电子产品的芯片。
2. 英特尔110亿美元将爱尔兰晶圆厂49%股份出售给Apollo
英特尔同意以110亿美元的价格将爱尔兰晶圆厂合资企业的49%股份出售给阿波罗全球管理公司(Apollo Global Management),以为其工厂网络的大规模扩张带来更多外部资金。该交易预计在第二季度完成,将使英特尔能够将其在该项目上的部分投资重新部署到业务的其他部分。
英特尔CEO帕特·基辛格正在推行一项雄心勃勃且昂贵的计划,以使英特尔重返半导体行业的顶峰。他正在投入巨资重振陷入困境的产品阵容,并向世界各地的工厂投入资金,旨在重振制造业并吸引外部外包制造客户。英特尔首席财务官David Zinsner表示:“此次交易使我们能够以优惠的条件与一家成熟的金融合作伙伴分享我们的投资。”
3. 业界:DDR5价格在年底前还有10%~20%上涨空间
据中国台湾业界消息,主要存储芯片制造商已为2024年DDR5芯片分配产能,这表明价格不太可能下降,预计DDR5价格在今年年底前还有10%~20%上涨空间。消息人士表示,存储芯片原厂仍在进行DDR4芯片去库存,但鉴于下半年是传统旺季,预计价格会上涨。
十铨科技对2024年下半年DDR5内存销售持乐观态度,预计DDR5产品占销售额的总比重将从60%攀升至70%。十铨科技总裁表示,如果按照以前行业状况,内存价格早已开始下跌,然而内存原厂已不再关注市场需求,尤其是通用内存的需求在第二季度末开始复苏。
4. 理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应车祸前驾驶员已手动接管
6月 5 日消息,小吴驾驶理想 L9 在杭州机场高速上行驶,称当时开启 LCC(车道居中保持),结果车子自己往右打方向,最后发生事故,怀疑是车辆识别失误。
该事件相关话题登上微博热搜,对此理想产品经理 @哲伦班长在微博回应,称已与车主取得联系并做了相应解释。在事故中驾驶员先通过方向盘手动接管了 LCC,随后车辆偏离车道,在手动接管后车辆会以驾驶员的手动控制作为最高优先级执行。
5. 本田 1—5 月在华销量 346940 辆同比下降 16.7%,2035 年在中国实现全部电动化
本田中国 6 月 5 日公布,2024 年 5 月本田在中国的终端汽车累计销量为 66202 辆;1—5 月本田在中国的终端汽车累计销量为 346940 辆,同比下降 16.7%。
本田自 2020 年达到在华销量高峰 162.7 万辆之后开始下滑,随后连续三年未能止跌。今年 3 月份本田在华新车销量大幅下滑了 26.3%,创下了自 2023 年 7 月以来的最大同比降幅纪录。据日本媒体报道,本田已经计划将中国的汽车产能缩减 20%。本田中国日前已经宣布了更长期的新能源转型规划。2027 年之后,本田在华不再投放新的燃油车型;预计到 2035 年,本田在中国销售的所有车型将实现全部电动化,这一全电动化目标比本田在全球预期实现的时间提前了 5 年。
6. 日本政府突击检查雅马哈发动机总部,车辆性能测试存在造假行为
据报道称,继对丰田汽车进行检查后,日本国土交通省开始对位于静冈县磐田市的雅马哈发动机总部进行检查。雅马哈发动机公司被发现在不适当的条件下对一款在产车型进行了噪音测试,并存在其他违规行为。过去生产的两款车型在提交喇叭测试文件时,填写了另一款车的车辆识别码,其中一款在产车型已停止出货。
截至 5 月底,丰田汽车、马自达、雅马哈发动机、本田技研工业和铃木共 5 家公司在车辆性能测试等方面存在造假行为,日本国土交通省将根据道路运送车辆法对这 5 家公司进行调查。
今日看点丨ASML今年将向台积电、三星和英特尔交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司机质疑 LCC,产品经理回应
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ASML预计今年将出货交付40台EUV光刻机 单价14亿元!
在四季度财报会议上,荷兰ASML(阿斯麦)表示,预计今年将出货交付40台EUV光刻机,比去年多9台。 CEO Peter Wennink估算今年EUV光刻机系统的销售收入在58亿欧元左右。四季度
2021-01-21 15:30:22
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ASML正致力于新一代High-NA光刻机制造,每台预计售价4亿美元
了High-NA光刻技术,High-NA指的是高数值孔径,据了解,这种High-NA光刻技术能降低66%的尺寸,也就意味着芯片制程能够进一步得到升级,芯片也将获得更高的性能,2nm之后的技术都得用这种技术来实现。High-NA光刻技术被认为是延续摩尔定律的关键。 不
2022-05-22 14:40:59
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理想L9最新消息:6月21日发布,8月开始交付!
近日,理想汽车创始人、董事长兼CEO李想发布了一条关于理想L9重要信息的微博。 该条微博提到了以下几点: 1、理想L9将于6月21日正式发布,由于理想L9有着过多的创新技术和产品体验,因此理想官方
2022-06-06 14:35:04
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台积电将于2024年引进ASML最新EUV光刻机,主要用于相关研究
日前,在台积电召开的会议上,有一名高管称台积电将于2024年引进ASML正在研发的最新的High-NA EUV光刻机。 会议中,该高管称:为了满足客户所需的相关基础设施的开发等,台积电将于2024
2022-06-17 16:33:27
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ASML的High-NA光刻机居然只卖出5台,大多芯片厂商不为所动
2nm制程的量产。 目前市面上最先进的是EUV光刻机,而其能够支持制造的先进制程工艺最高为3nm,也就是说,再往后的2nm等工艺就要用更加先进的光刻机来完成。 ASML为此正在研发一种特别的EUV光刻机——High-NA EUV光刻机。这种光刻机所采用的技术能够
2022-06-22 14:44:16
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2纳米即将进入下世代的埃米(angstorm)时代布局
英特尔今年初宣布已率先向 ASML 购买业界首台 High-NA 量产型 EUV 设备 EXE:5200,其为首款具备 High-NA 的 EUV 大量生产系统,每小时晶圆曝光产能超过 200 片,英特尔并宣布将于 2025 年开始以 High-NA EUV 进行生产。
2022-06-22 15:15:10
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三星斥资买新一代光刻机 中芯光刻机最新消息
三星电子和ASML就引进今年生产的EUV光刻机和明年推出高数值孔径极紫外光High-NA EUV光刻机达成采购协议。
2022-07-05 15:26:15
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ASML下一代EUV光刻机High-NA来了!
对于3nm后的节点,ASML及其合作伙伴正在研究一种全新的EUV工具——Twinscan EXE:5000系列,具有0.55 NA(High-NA)透镜,能够达到8nm分辨率,可以避免3nm及以上的多图案。
2022-08-17 15:44:04
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理想L9连续三月夺冠,理想L8交付首月跻身亚军
L8将迎来大规模交付。 理想L系车型上市后,凭借强大的产品力成为家庭用车一步到位的选择。让我们来看看理想L9和理想L8的哪些产品点打动了如此众多的家庭用户。 01 城市用电,长途发电,露营放电 理想L9与理想L8,可油可电,CLTC综合续航1315公里,具备内外双供电
2022-12-12 16:55:05
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ASML和IMEC宣布共同开发high-NA EUV光刻试验线
据悉,签署的谅解备忘录包括在比利时鲁汶设置imec测试线及asml的所有尖端光标及测量设备的服务。最新款0.55 na euv (twinscan exe:5200)、最新款0.33 na euv
2023-06-30 09:29:06
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ASML CEO 承诺年底前交付首台 High-NA EUV ***;苹果与Arm签署新的芯片技术长期协议,延续至2040年以后
供应商出现了一些阻碍,但公司仍会按照此前设定的计划,在今年年底之前交付 High NA EUV 机器。 ASML 表示一台高数值孔径 EUV 光刻(High-NA EUV)设备的体积和卡车相当,每台
2023-09-06 16:50:06
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生产2纳米的利器!成本高达3亿欧元,High-NA EUV***年底交付 !
ASML是欧洲最大半导体设备商,主导全球光刻机设备市场,光刻机是半导体制造关键步骤,但高数值孔径(High NA)EUV,Peter Wennink指有些供应商提高产能及提供适当技术遇到困难,导致延误。但即便如此,第一批产品仍会在年底推出。
2023-09-08 16:54:10
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三星希望进口更多ASML EUV***,5年内新增50台
EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分,占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂,因此ASML每年只能制造约60台,而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机,包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前,AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56
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IBM、美光、应用材料、东京电子宣布合作建设 High-NA EUV 研发中心
Albany NanoTech Complex 建设下一代 High-NA EUV 半导体研发中心。 根据声明,负责协调该设施建设的非营利性机构 NY Creates 将利用 10 亿美元州政府资金
2023-12-14 08:44:18
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三星清空ASML股份,11年盈利超16倍
根据资料显示,在2012年,为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用,并获得EUV光刻机的优先供应,在2012年,英特尔、台积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月,英特尔入股ASML获得15%股权,并出资10亿美元支持研发。
2024-02-23 17:27:59
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英特尔:预计2027年末10A节点投产,投资千亿美元扩大晶圆制造
根据先前记载,10A将会是英特尔继使用High-NA EUV光刻技术的首批主要节点之后的第二例,预计可呈现出超过10%的每瓦性能改善。
2024-02-28 16:00:22
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Intel和ASML宣布全球第一台High-NA光刻机“首光”
荷兰ASML是世界上最先进的光刻设备制造商,最近该公司启动了第一台high-NA(numerical aperture,数值孔径)设备,以确保其正常工作。Intel也加入了这一行列,因为它是世界上第一家订购该设备的代工厂。
2024-04-08 10:12:14
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英特尔突破技术壁垒:首台商用High NA EUV光刻机成功组装
英特尔的研发团队正致力于对这台先进的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻机进行细致的校准工作,以确保其能够顺利融入未来的生产线。
2024-04-22 15:52:56
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台积电张晓强:ASML High-NA EUV成本效益是关键
据今年2月份报道,荷兰半导体制造设备巨头ASML公布了High-NA Twinscan EXE光刻机的售价,高达3.5亿欧元(约合27.16亿元人民币)。而现有EUV光刻机的价格则为1.7亿欧元(约合13.19亿元人民币)。
2024-05-15 14:42:38
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台积电A16制程采用EUV光刻机,2026年下半年量产
据台湾业内人士透露,台积电并未为A16制程配备高数值孔径(High-NA)EUV光刻机,而选择利用现有的EUV光刻机进行生产。相较之下,英特尔和三星则计划在此阶段使用最新的High-NA EUV光刻机。
2024-05-17 17:21:47
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Rapidus对首代工艺中0.33NA EUV解决方案表示满意,未采用高NA EUV光刻机
在全球四大先进制程代工巨头(包括台积电、三星电子、英特尔以及Rapidus)中,只有英特尔明确表示将使用High NA EUV光刻机进行大规模生产。
2024-05-27 14:37:22
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ASML创下新的EUV芯片制造密度记录,提出Hyper-NA的激进方案
ASML在imec的ITF World 2024大会上宣布,其首台High-NA(高数值孔径)设备已经打破了之前创下的记录,再次刷新了芯片制造密度的标准。
2024-05-30 11:25:50
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押注2nm!英特尔26亿抢单下一代 EUV光刻机,台积电三星决战2025!
了。 芯片制造离不开光刻机,特别是在先进制程上,EUV光刻机由来自荷兰的ASML所垄断。同时,尽管目前市面上,EUV光刻机客户仅有三家,但需求不断增加的情况底下,EUV光刻机依然供不应求。 针对后3nm时代的芯片制造工艺,High-NA(高数值孔径)EUV光刻机
2022-06-29 08:32:00
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