已知:E1和E2铜线直径为0.1mm,实际外径为0.12mm;NP铜线直径为0.12mm,实际外径为0.14mm;NS铜线直径为0.4mm,实际外径为0.6mm;TAPE采用0.025mm厚的麦拉胶纸。
A.
NV若采用铜线直径为0.2mm,实际外径为0.22mm
线包单边厚度为:E1+TAPE+NP+TAPE+E2+TAPE+NS+TAPE+NV+TAPE
=0.12+0.025+0.14*4+0.025+0.12+0.025+0.6+0.025+0.22+0.025*2=1.77mm.
B.
NV若采用铜线直径为0.1mm双线并饶,实际外径为0.12mm
线包单边厚度为:E1+TAPE+NP+TAPE+E2+TAPE+NS+TAPE+NV+TAPE
=0.12+0.025+0.14*4+0.025+0.12+0.025+0.6+0.025+0.12+0.025*2=1.67mm.
测量或查EFD15的BOBBIN的单边槽深为2.0mm,
所以以上2种方式绕制的变压器都可行。
2. EPC13的变压器设计
依然沿用以上设计方法,
测量或查BOBBIN资料可得EPC13 BOBBIN幅宽为6.8mm,
次级匝数为:6.8/0.6=11.3Ts,取11Ts.
初级匝数为:11*16.5=181.5Ts,取182Ts.
反馈匝数为:15/(5+1)*11=27.5Ts,取28Ts.
继续,EPC13的绕线方式同EFD15,再这里就不再重复了。
以上变压器设计出的各项差数是以控制漏感为出发点的,各项参数(肖特基的VF,MOS管的电压应力余量……)都是零界或限值,实际设计中会因次级绕线同名端对应输出PIN位出现交叉,或输出飞线套铁氟龙套管,或供应商的制程能力,都会使次级线圈减少1~2圈,对应的初级和反馈也需根据匝比减少圈数;另,目前市场的竞争导致制造商把IC内置MOS管的VDS耐压减小一点来节省成本,为保留更大的电压应力余量,需再减少初级匝数;以上的修改都会对EMC辐射造成负面影响,对应的取舍还需权衡,但前提是必须使产品工作在DCM模式。
从08年市场上推出PSR原边反馈方案到现在我一直都有在用此方案设计产品,回顾看看,市场上也出现了很多不同品牌的PSR方案,但相对以前刚推出的PSR控制IC 来说,有因市场反映不良而不断改进的部分,但也有因为恶性竞争而COST DOWN的部分。主要讲讲COST DOWN的部分。
因受一些品牌在IC封装工艺上的专利限制,所以目前大部分的内置MOS的IC(不仅是PSR控制IC,也包括PWM 控制IC)采用的是在基板上置入控制晶圆和MOS晶圆,之间用金线作跳线连接,这样就有2个问题产品了:
1. 金线带来的EMC辐射。
2. 研制控制晶圆的公司可以自己控制控制晶圆的成本,但MOS晶圆一般采用的从MOS晶圆生产上购买,这样一来,MOS晶圆的成本控制也成为IC成本控制的案上肉。
辐射可以采用优化设计来控制。
但MOS晶圆的COST DOWN的路径来源于降低其VDS的耐压,目前已有很多不同品牌的IC将VDS为650V的内置MOS降到620~630V,甚至560~600V。
这样一来,只控制漏感降低VDS峰值电压是不够的,所以还需为VDS保留更大的电压应力余量。
下面再以EPC13为实例,讲讲优化设计后的变压器设计。
方法同上……
先计算出次级,
因考虑到输出飞线套铁氟龙套管或输出线与BOBBIN PIN位交叉,所以需预留1匝空间,得,次级匝数为:6.8/0.6-1=10.3,取10Ts.
再计算初级匝数,因考虑到为MOS管留更大的电压应力余量,所以反射电压取之前的75%
得:(Vout+VF)*n<100*75%,输出5V/1A,采用2A/40V的肖特基即可,2A/40V的肖特基其VF值一般为0.55V。
代入上式得:n<13.51,取13.5,得NP=10*13.5=135Ts.
代入上式验证(5+0.55)*(135/10)=74.925<75,成立。
确定NP=135Ts.
下面再计算反馈匝数,依然取反馈电压为15V,得,15/(5+0.55)*10=27Ts.
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