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电子发烧友网>工业控制>我国光刻胶工艺技术突破,国内企业受制于人

我国光刻胶工艺技术突破,国内企业受制于人

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2022-04-13 13:56:42927

用于光刻胶去除的单晶片清洗技术

本文的目标是讨论一种新技术,它可以在保持竞争力的首席运营官的同时改善权衡。 将开发湿化学抗蚀剂去除溶液的能力与对工艺和工具要求的理解相结合,导致了用于光刻胶去除的单晶片清洗技术的发展。 该技术针对
2022-05-07 15:11:11676

光刻胶剥离用组合物及用其进行剥离的方法介绍

本文章介绍了我们华林科纳一种光刻胶剥离用组合物,该组合物不仅对离子注入工艺后或离子注入工艺和高温加热工艺后硬化或变质为聚合物的光刻胶具有良好的去除力,而且使膜质腐蚀性最小化。半导体工艺中离子注入工艺
2022-07-01 15:16:081508

干法刻蚀去除光刻胶技术

灰化,简单的理解就是用氧气把光刻胶燃烧掉,光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。
2022-07-21 11:20:175187

光刻胶为何要谋求国产替代

南大光电最新消息显示,国产193nm(ArF)光刻胶研发成功,这家公司成为通过国家“02专项”验收的ArF光刻胶项目实施主体;徐州博康宣布,该公司已开发出数十种高端光刻胶产品系列,包括
2022-08-31 09:47:141326

光刻胶的原理和正负光刻胶的主要组分是什么

光刻胶的组成:树脂(resin/polymer),光刻胶中不同材料的粘合剂,给与光刻胶的机械与化学性质(如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂,感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent
2022-10-21 16:40:0416981

国产光刻胶市场前景 国内厂商迎来发展良机

半导体光刻胶用光敏材料仍属于“卡脖子”产品,海外进口依赖较重,不同品质之间价 格差异大。以国内 PAG 对应的化学放大型光刻胶(主要是 KrF、ArF 光刻胶)来看,树脂在 光刻胶中的固含量
2022-11-18 10:07:432815

光刻胶国内头部企业阜阳欣奕华完成超5亿元D轮融资

来源:欣奕华材料 据欣奕华材料官微消息,近日,国内光刻胶龙头企业阜阳欣奕华材料科技有限公司(以下简称“阜阳欣奕华”)完成超5亿元人民币 D 轮融资。 据悉,本轮融资由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00602

我国光伏行业发展情况

在产品技术方面,182/210大硅片开始量产,N型电池加速商业化应用进程。我国光企业在PERC、TOPCon、HJT和IBC等高效电池生产技术上先后取得突破,不断刷新电池效率的世界纪录。
2023-06-20 15:06:101380

光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11715

光刻胶国内市场及国产化率详解

KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50350

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质?

匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
2023-12-15 09:35:56588

光刻胶分类与市场结构

光刻胶主要下游应用包括:显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等,其中显示屏是光刻胶最大的下游应用,占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%,是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21501

光刻胶光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料,可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18792

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比,电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解,而曝光的光刻胶则保留下来,从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50544

一文读懂半导体工艺制程的光刻胶

光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正胶受到紫外光照射的部分在显影时被去除,负胶受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。
2024-04-24 11:37:05292

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