压印光刻技术NIL在这条赛道上备受关注,是最有机会率先应用落地的技术路线。 今年早些时候,根据英国金融时报的报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明在接受采访时称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标最快在
2024-03-09 00:15:002909 电子发烧友网报道(文/李宁远)提及芯片制造技术,首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业,光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下,摩尔定律
2023-07-16 01:50:153007 光刻机经历了5代产品发展,每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。
2024-03-21 11:31:4136 制造集成电路的大多数工艺区域要求100级(空气中每立方米内直径大于等于0.5μm的尘埃粒子总数不超过约3500)洁净室,在光刻区域,洁净室要求10级或更高。
2024-03-20 12:36:0056 超光学元件,最简单的形式,是由一个平面上亚波长尺度纳米柱阵列组成,每个柱子对穿过它的光引入局部相移。通过特殊排列这些柱子,可以控制光产生转向和透镜。
2024-03-18 12:29:19175 纳米材料及器件作为战略性新兴产业和高新技术产业,是促进产业转型升级和高质量发展的重要支柱之一。普赛斯数字源表具有测试精度高、微弱信号检测能力强的特点,可根据用户测试需求配置高效率、高精度、高性价比的纳米材料测试方案,广泛应用在纳米材料、纳米器件、纳米发电等产品的研发生产领域
2024-03-05 17:22:40188 瑞萨日前宣布,公司已基于STT-MRAM的电路技术开发出具有快速读写能力的测试芯片。该MCU 测试芯片采用 22 纳米工艺制造,包括一个 10.8Mbit嵌入式 MRAM 存储单元阵列。
2024-03-05 10:05:46192 电子束光刻(e-beam lithography,EBL)是无掩膜光刻的一种,它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶(抗蚀剂)表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。
2024-03-04 10:19:28206 。此外,激光干扰还可以通过欺骗手段,模拟出虚假的光学信号,误导敌方判断,达到欺骗的目的。
视觉干扰技术
视觉干扰技术则主要利用人眼的视觉错觉和感知缺陷,通过特定的光学装置或材料,制造出让人眼产生误判
2024-03-01 17:26:30
引言 在过去的二十年中,市场对大量N灰度级三维微纳米元件的需求一直很活跃。基于铅笔束的光刻技术,我们可以生产出精确的组件,但目前需要更长的时间去处理。使用X射线光刻制作的典型高纵横比结构
2024-02-28 15:39:47111 WD4000无图晶圆几何形貌测量系统是通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。可兼容不同材质
2024-02-21 13:50:34
日本政府近期宣布了一项重大投资计划,将投入约452亿日元(约合3.07亿美元)用于光学芯片技术的开发。这一举措旨在促进日本半导体产业的复兴,并加强其在全球市场的竞争力。
2024-02-05 11:22:35619 Takeishi向英国《金融时报》表示,公司计划于2024年开始出货其纳米压印光刻机FPA-1200NZ2C,并补充说芯片可以轻松以低成本制造。2023年11月,该公司表示该设备的价格将比ASML的EUV机器便宜一位数。 佳能表示,与利用光曝光电路图案的传统光刻技术不同,纳米压印光刻不需要光源,利用
2024-02-01 15:42:05270 佳能近日表示,计划年内或明年上市使用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术,虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢,但由于制程简化,耗电仅为EUV的十分之一,且投资额也仅为EUV设备的四成。
2024-01-31 16:51:18551 电子元件的设计和制造。不同的电子元件对材料的要求有所不同,而材料的特性和性能决定了元件的工作能力和可靠性。例如,半导体器件常需要具备特定的电子传导、绝缘和热导能力,因此选择具有优异导电性、绝缘性和热导性能的材
2024-01-23 14:25:06197 纳米技术是一种高度前沿的技术,利用控制和操纵物质的尺寸在纳米级别来创造新的材料和应用。纳米技术的特点主要包括以下几个方面:高比表面积、尺寸效应、量子效应和可调控性。 首先,纳米技术的一个重要特点是
2024-01-19 14:06:424311 电子发烧友网站提供《索雷碳纳米聚合物材料技术修复辊压机轴磨损的工艺.docx》资料免费下载
2024-01-18 15:50:550 电子发烧友网站提供《索雷碳纳米聚合物材料技术的优势.docx》资料免费下载
2024-01-16 15:29:340 此外,应用材料公司的保罗·迈斯纳博士指出,本司将运用先进光学技术及卓越轻量化设计理念,助力新一代AR产品的诞生。他还强调,应用材料与谷歌的联合,将为AR产品打开无限可能。
2024-01-11 09:51:14138 WD4000无图晶圆几何形貌测量设备采用高精度光谱共焦传感技术、光干涉双向扫描技术,完成非接触式扫描并建立3D Mapping图,实现晶圆厚度、TTV、LTV、Bow、Warp、TIR、SORI、等
2024-01-10 11:10:39
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2024-01-07 09:51:170 单片机开发是现代电子技术中的重要分支,其在各个领域都有着广泛的应用。单片机开发技术的提升不仅可以提高工作效率,还可以提高工作质量和创新能力。那么,如何提升单片机开发技术呢?
一、加强基础知识
2024-01-05 10:14:30
研究尝试将光学超材料与PIV技术融合,以实现PIV系统小型化的目的。超构透镜是一种先进的平面光学元件,由人工制造的纳米单元阵列组成。
2024-01-02 13:47:16134 电子发烧友网站提供《如何选择索雷碳纳米聚合物材料技术.docx》资料免费下载
2023-12-29 11:02:410 )及分析反映表面质量的2D、3D参数。广泛应用于衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示面板、MEMS器件等超精密加工行业。WD
2023-12-20 11:22:44
光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中,k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度,ASML认为其物理极限在0.25,k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326 来源:Silicon Semiconductor 红外激光切割技术能够以纳米精度从硅衬底上进行超薄层转移,彻底改变了先进封装和晶体管缩放的3D集成。 EV集团(EVG)推出了EVG®850
2023-12-13 17:26:46489 纳米材料具有独特的物理化学性质,其作为新一代药物给药剂型日益受到重视。纳米材料的小尺寸能够增加药物负载能力,延长药物的血液循环时间,并改善药物的细胞摄取和组织渗透。特定的纳米结构有助于调节药物的负载
2023-12-12 16:59:45259 “半导体研发机构 imec 的项目经理塞德里克-罗林(Cedric Rolin)说:”纳米压印技术很难在质量上与 EUV 相媲美。” 他说,纳米压印的缺陷率“相当高”。
2023-12-06 15:54:42314 电子发烧友网站提供《什么是索雷碳纳米聚合物材料技术?他与传统的修复工艺比有什么优点.docx》资料免费下载
2023-12-05 09:50:110 。这是因为晶圆的温度直接影响到其上形成的薄膜的质量,包括其厚度、结构、电学和光学性质等。因此,对晶圆表面温度的精确控制和测试是保证半导体产品质量的关键步骤。本文将
2023-12-04 11:36:42
索雷碳纳米聚合物材料技术的优势
2023-12-04 10:18:550 光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241334 据报道,韩国SK集团于2020年斥资400亿韩元收购当地锦湖石化的电子材料业务,收购后成立的新子公司SK Materials Performance(SKMP)已开发出一种高厚度KrF光刻胶,并通过了SK海力士的性能验证,这将有利于SK海力士3D NAND闪存的技术开发。
2023-11-29 17:01:56433 在工业应用中,光学3D表面轮廓仪超0.1nm的纵向分辨能力能够高精度测量物体的表面形貌,可用于质量控制、表面工程和纳米制造等领域。与其它表面形貌测量方法相比,SuperViewW系列光学3D表面
2023-11-29 10:04:380 的测量方法等手段来降低PDI值是提高纳米材料质量和稳定性的重要途径之一。七、总结
PDI作为衡量颗粒尺寸分布均匀程度的重要指标,在纳米材料制备和生物医药领域的应用中具有重要意义。通过控制制备工艺、选择
2023-11-28 13:38:39
11月24日,博泰厦门智能制造基地在工艺能力构建和提升方面取得了卓越的成果,荣获了“2023年度IAS关键工艺基线能力建设-最佳进步奖”。
2023-11-27 18:22:48418 《光电科学》发表的一篇新文章回顾了光学捕获的光学纳米粒子的基本原理和应用。光学纳米粒子是光子学的关键要素之一。
2023-11-25 14:25:54381 者们共聚魅力东莞,围绕自动化编程的痛难点互相交流分享,交流如何开发标准化程序,提升项目开发效率与可靠性。 汇川技术开发者大会线下沙龙由汇川技术生态战略发展部发起,旨在以知识为桥梁,以经验为分享,让国内工控从
2023-11-22 16:20:06533 小型电桥技术开发概要
2023-11-22 09:17:10219 据DIGITIMES此前消息,SK海力士2023年引进佳能纳米压印设备,正在进行测试与研发,目标在2025年左右将该设备用于3D NAND量产。有业内人士表示:“与EUV相比,纳米压印技术形成图案
2023-11-10 16:25:06434 中图仪器SJ5730系列纳米探针式轮廓仪采用超高精度纳米衍射光学测量系统、超高直线度研磨级摩擦导轨、高性能直流伺服驱动系统、高性能计算机控制系统技术,分辨率高达0.1nm,系统残差小于3nm
2023-11-09 09:14:22
纳米压印是微纳工艺中最具发展潜力的第三代光刻工艺,是最有希望取代极紫外光的新一代工艺。最近,海力士公司从佳能购买了一套奈米压印机,进行了大规模生产,并取得了不错的效果。
2023-11-08 14:34:02550 的高质量晶体,美国斯坦福大学(Stanford University)与劳伦斯伯克利国家实验室(LBNL)共同合作,开发利用自上而下、自组装的方法来合成的具有与块状单晶相一致的晶体质量纳米结构。超薄纳米结构作为红外波段晶格振动的超高质量纳米
2023-11-08 09:18:51305 。WD4000晶圆几何形貌测量及参数自动检测机采用高精度光谱共焦传感技术、光干涉双向扫描技术,完成非接触式扫描并建立3D Mapping图,实现晶圆厚度、TTV、LTV、B
2023-11-06 10:49:18
据了解ACCEL芯片的光学芯片部分只要采用百纳米级别工艺,而电路部分更是可以采用180纳米CMOS工艺就能生产这种芯片,用如此落后的工艺却能将芯片性能提升3000倍,与当前的7纳米工艺芯片性能相当。
2023-11-03 16:29:08377 为了制备蜂窝状纹理的绒面结构,研究人员利用了热辅助紫外辊纳米压印光刻技术(TUV-Roller-NIL),基于TUV-Roller-NIL制造蜂窝纹理的工艺链可以分为以下四步。
2023-10-25 09:31:36253 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关,而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271 WD4000无图晶圆几何量测系统自动测量 Wafer 厚度 、表面粗糙度 、三维形貌 、单层膜厚 、多层膜厚 。使用光谱共焦对射技术测量晶圆 Thickness 、TTV 、LTV 、BOW
2023-10-18 09:09:00
来源:中国半导体论坛 编辑:感知芯视界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻设备:FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备! 受此消息影响,纳米压印概念股午后走高,汇创达午后
2023-10-17 11:07:23230 璞璘科技成立于2017年,致力于纳米压印设备及材料的生产和开发。据璞璘科技官方消息,公司是目前国内市场上唯一一家集纳米压印设备、材料、技术于一体的纳米压印尖端微纳米制造企业。
2023-10-13 10:03:231622 纳米科技的迅猛发展将我们的视野拓展到了微观世界,而测量纳米级尺寸的物体和现象则成为了时下热门的研究领域。纳米级测量仪器作为一种重要的工具,扮演着重要的角色。那么,如何才能准确测量纳米级物体呢?在
2023-10-11 14:37:46
传感器:高压放大器在纳米材料传感器中的应用非常有前景。纳米材料常常表现出高灵敏度和特定的电学、光学或磁学特性,可以被用作传感器探测不同的物理或化学参数。高压放大器可以放大来自这些纳米材料传感器的微弱信号,提高传
2023-10-11 13:54:31155 光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一,是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成,是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应,经曝光、显影等光刻工艺,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2023-10-09 14:34:491674 器件制造具有以下优点[1]
(1) 片子平面的总体平面度: CMP 工艺可补偿亚微米光刻中步进机大像场的线焦深不足。
(2) 改善金属台阶覆盖及其相关的可靠性: CMP工艺显著地提高了芯片测试中的圆片成品率。
(3) 使更小的芯片尺寸增加层数成为可能: CMP技术允许所形成的器件具有更高的纵横比。
2023-09-19 07:23:03
(TSMC) 超低功耗的 40 纳米工艺。ESP32-S3-PICO-1 SiP 已将晶振、去耦电容、SPI flash/PSRAM、RF 匹配链路等所有外围器件无缝集成进封装内,无需外围元器件即可工作
2023-09-18 07:38:02
和蓝牙双模的单芯片方案,采用台积电 (TSMC) 超低功耗的 40 纳米工艺。ESP32-PICO-V3-ZERO 模组已将晶振、flash、滤波电容、RF 匹配链路等所有外围器件无缝集成进封装内,不再
2023-09-18 07:07:42
公开的资料显示,苏大维格他致力于微纳关键技术,柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用,涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示(大尺寸电容触控屏,超薄导光板)、高端智能微纳装备(纳米压印、微纳直写光刻、3D光场打印等)的开发和技术产业化
2023-09-11 11:45:593530 不是所有尺寸小于100nm纳米材料都叫纳米科技纳米科技广义的定义,泛指尺寸小于100nm(纳米)的材料,而研究纳米材料的科学技术泛称为「纳米科技(Nanotechnology)」。纳米技术的研究领域
2023-09-09 08:28:01562 ,已经用于微型机械加速度计和陀螺仪产品。多种传感元件采用专门的微型机械加工工艺制造,而 IC 接口采用 CMOS 技术开发,可以设计出专用电路,对该电路进行修调可以更好地匹配传感元件的特性。在
2023-09-08 07:33:46
SuperViewW1光学形貌轮廓仪是利用光学干涉原理研制开发的超精细表面轮廓测量仪器,主要用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量。可在半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件
2023-09-04 11:44:34
、包膜机、入壳机、顶盖焊、氦检机、注液机、化成柜、补液机、密封焊机、分容柜、Pack线等。
半导体行业:清洗设备、光刻机、刻蚀机、修复检测设备、划片机、晶圆探针测试设备、分选机、贴片机、邦定机等设备
2023-09-04 09:16:12
在上一节计算光学小讲堂中,我们学习了光源掩模协同优化(source mask co-optimization, SMO)的相关知识。这一节我们将主要探索光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction,OPC)技术是如何用来提升光刻工艺窗口,为芯片生产保驾护航的。
2023-09-01 09:48:442297 光刻蚀(Photolithography)是一种在微电子和光电子制造中常用的加工技术,用于制造微细结构和芯片元件。它的基本原理是利用光的化学和物理作用,通过光罩的设计和控制,将光影投射到光敏材料上,形成所需的图案。
2023-08-24 15:57:422264 半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38:541221 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现, 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531578 2000年代初,芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩(ArF)光源光刻技术过渡到157纳米氟(F 2 )光源光刻技术。
2023-08-23 10:33:46798 计算机模拟和计算等手段来精确测量参数。
无论是研究材料性质、表面形貌,还是进行质量控制和判别等方面,白光干涉仪都具有广泛的应用前景。
SuperViewW1白光干涉仪能够以优于纳米级的分辨率,测试各类
2023-08-21 13:46:12
分析等,帮助优化生产流程和提高产品质量;
2、色彩图像可以直观地展示金属表面的纹理、颜色等特征,为审美评价和设计提供参考。
SuperViewW1光学3D表面轮廓仪能够以优于纳米级的分辨率,测试各类表面
2023-08-21 13:41:46
RXIRY昕锐作为行业内成熟的激光测量技术、面向未来战场训练的技术开发及应用方案供应商,一直以来专注于为受训人员提供完整的智能化、标准化、精准化训练体系,对于提升训练的效能、提升部队作战的能力具有重要的意义。
2023-08-14 15:10:26221 光的偏振是一种有价值的信息通道,在光学器件中得到了广泛的研究。但是,目前在开发易于集成和大规模生产的低折射率对比度、大面积手性超构器件(meta-device)方面的进展非常有限。
2023-08-01 09:31:32723 当谈到该创新工艺时,不可避免地要与传统的光刻工艺体系进行对比。光刻工艺体系是一种减法工艺:首先要在衬底表面沉积一层材料,例如铜;然后在材料层表面涂布一层光刻胶;接着将光刻胶图形化曝光并显影,形成有图案的光刻覆盖区域
2023-07-29 11:01:50835 据新维度公司总经理罗钢博士介绍,新维度公司继承了刘忠范教授和瑞典lars montelius教授的纳米压印技术系统,是世界主要纳米压印技术路线之一。
2023-07-20 10:58:361179 绝缘体上硅(FD-SOI)技术开发10纳米低功耗工艺技术模块,该技术未来将进一步向7纳米拓展,这也是浸没式DUV光刻技术的极限。该机构透露,FD-SOI新一代工艺将与18、22和28nm的现有设计兼容,并且还将包括嵌入式非易失性存储器(eNVM)工艺。该项目由法国政府独立于《欧盟芯片法案》提供资金。
2023-07-20 10:54:19427 电子发烧友网站提供《直流至85GHz TWA和Ka频段4.9W功率放大器使用 基于光学光刻PHEMT工艺.pdf》资料免费下载
2023-07-20 09:17:340 GK-1000光刻掩膜版测温仪,光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备,主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS(微机电系统)等微细结构。光刻机是一种光学投影技术,通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
晶圆测温系统,晶圆测温热电偶,晶圆测温装置一、引言随着半导体技术的不断发展,晶圆制造工艺对温度控制的要求越来越高。热电偶作为一种常用的温度测量设备,在晶圆制造中具有重要的应用价值。本文
2023-06-30 14:57:40
SuperViewW系列光学轮廓仪以白光干涉技术为原理,能够以优于纳米级的分辨率,测试各类表面并自动聚焦测量工件获取2D,3D表面粗糙度、轮廓等一百余项参数,广泛应用于光学,半导体,材料,精密机械
2023-06-16 11:34:49
*附件:深圳市其利天下技术开发有限公司.pdf
2023-06-13 21:30:42
损耗,低粗糙度棕化药水在高速板加工中应用越来越广泛。
华秋作为目前线上出色的 PCB 快板打样及中小批量生产商,有10多年成熟的制程经验和行业数据,我们也向行业技术发展看齐,不断提升自身工艺水平,高
2023-06-09 14:08:34
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺,也可以用在后道工艺,前道光刻机用于芯片的制造,曝光工艺极其复杂,后道光刻机主要用于封装测试,实现高性能的先进封装,技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205857 中国在半导体芯片制造方面仍落后于美国。早在上世纪60年代,美国就开始占据世界半导体市场的绝对主导地位。随着技术的不断发展,半导体芯片的制造越来越精细化。从最初的65纳米工程到现在的7纳米技术开发,美国一直处于领先地位。
2023-06-01 10:12:43583 金刚石光学真空窗片高质量的金刚石晶圆应用作为光学窗口是理想的,主要为红外,远红外和太赫兹范围。这些金刚石晶片由高功率微波等离子体辅助化学气相沉积(CVD)生长的高纯多晶金刚石组成。 
2023-05-24 11:26:37
纳米压印技术,即Nanoimprint Lithography(NIL),是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形,通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949 光学材料能对光学产品的性能产生举足轻重的影响,随着光学技术的发展,业界对材料、表面、元件和系统的质量要求越来越高,甚至提出了新的需求。例如,在汽车行 业中,光学元件 需要高透射率和高散射率的材料
2023-05-17 22:10:01249 半导体材料在开发纳米光子技术方面发挥着重要作用。
2023-05-14 16:58:55590 测量、显微操作、纳米压印等。随着科技不断进步,精密定位技术对于定位系统的行程、负载、精度要求也不断攀升,哈尔滨芯明天科技有限公司持续加强技术实力和研发能力,不断攻克技术壁垒,提升产品性能,以满足对大行程、大
2023-05-11 08:56:02347 致力于衍射元器件、CGH、光栅、光掩模等产品的设计、生产、服务,该公司生产的光掩模产品是半导体的基石,在技术上突破了传统纳米压印制作光学器件的路径,简化了工艺流程,其也是国内唯一掌握了把半导体技术用于量产纯石英结构光
2023-04-26 16:53:19595 一、PCB制造基本工艺及目前的制造水平
PCB设计最好不要超越目前厂家批量生产时所能达到的技术水平,否则无法加工或成本过高。
1.1层压多层板工艺
层压多层板工艺是目前广泛
2023-04-25 17:00:25
光刻技术简单来讲,就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程,是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术,CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 正式发布,该版本系统能力进一步完善,全面提升了复杂带屏设备体验。OpenHarmony项目管理委员会主席任革林从系统流畅、系统性能、应用性能、分布式能力、开发效率五个方面对新版本的技术特性进行了深度解读。在
2023-04-21 10:12:44
和散热能力优于片式电阻,非常适合作为IGBT电路中的栅级电阻(Rg),以及汽车电子电路。特性:额定功率范围:0.4W3W电阻范围:0.5Ω10MΩ耐高压能力优于片式电阻低温漂、低误差值散热能力佳长期
2023-04-20 16:34:17
以共聚焦技术为原理的共聚焦显微镜,是用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。 中图仪器VT6000系列三维光学轮廓共聚焦材料显微镜基于共聚焦显微技术,结合精密Z向扫描模块
2023-04-20 10:52:25
新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164 的硬件配置完成,一个相对完整的、有模有样的HarmonyOS/OpenHarmony公司级技术开发团队的的装备就完成了。
2023-04-10 09:34:15
状防静电材料上对应于PCB通孔插装器件的位置打上相应形状的孔,将其放在插装完成的PCB板上便可以简易地目测插装器件的正确与否。 一、PCBA检测工艺流程 PCBA检测工艺总流程如图所示: 注:各种检测
2023-04-07 14:41:37
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