纳米光刻中的压电扫描台

纳米光刻是一种全新的纳米图形复制方法，实质是将传统的模具复型原理应用到微观制造领域。首先计算机将BMP图转化成灰度图，然后再通过二维扫描台，带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，完成图像的纳米定位加工。纳米光刻技术是制作纳米结构的关键，具有广阔的应用前景。

利用芯明天P12系列XY二维扫描台，可带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，二者配合完成图像的纳米精度加工。

P12.XY100二维压电扫描台

P12.XY100为二维直线扫描台，内置高可靠性压电陶瓷，运动直线性好，台体中心圆形通孔孔径可选25mm 或35mm，满足精密加工、扫描显微等应用。

开/闭环曲线

注：施加至压电陶瓷的电压约为输入控制电压的12倍。

闭环线性度

技术参数

型号：P12.XY100

运动自由度：X、Y

行程范围@120V：80μm/轴

行程范围@150V：100μm/轴

闭环传感器：SGS

通孔尺寸：Ø25/Ø35mm

闭/开环分辨率：7/4nm

闭环线性度：0.1%F.S.

闭环重复定位精度：0.05%F.S.

推/拉力：25/8N

刚度：0.2N/μm

空载谐振频率：X180/Y230Hz

闭/开环空载阶跃时间：15/0.8ms

承载：0.7kg

静电容量：1.8μF/轴

材质：钢、铝

重量：200glw

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纳米光刻(5628) 纳米光刻(5628)

纳米压印光刻技术应用在即，能否掀起芯片制造革命？

电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米

2024-03-09 00:15:00

2910

绕开EUV光刻，下一代纳米压印光刻技术从存储领域开始突围

电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律

2023-07-16 01:50:15

3007

光刻机的发展历程及工艺流程

光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。

2024-03-21 11:31:41

泰来三维|手持移动三维扫描仪faro orbis 扫描电力塔# 三维扫描仪# 三维扫描

扫描仪

泰来三维发布于 2024-03-20 13:49:05

芯片制造工艺：光学光刻-掩膜、光刻胶

制造集成电路的大多数工艺区域要求100级（空气中每立方米内直径大于等于0.5μm的尘埃粒子总数不超过约3500）洁净室，在光刻区域，洁净室要求10级或更高。

2024-03-20 12:36:00

关于光刻胶的关键参数介绍

与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶则保留下来，从而形成负像。

2024-03-20 11:36:50

193

压电偏转镜在激光快速扫描系统控制中的应用

激光快速扫描系统在半导体技术、航空航天、生物医学、纳米科学研究等领域得到了越来越多的应用，同时对其性能要求也越来越高，受其体积，扫描频率，扫描精度、扫描分辨率等诸多因素的影响，出现更多小型化、高速化

2024-03-14 10:19:31

126

浅谈不同阶段光刻机工作方式

在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层损坏、芯片良率下降等不良后果。

2024-03-08 10:42:37

一文解析半导体设计电路的“光刻工艺”

利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。

2024-03-06 14:28:50

安泰ATA-P1005压电叠堆放大器在纳米定位台驱动中的应用

纳米定位台是一种高精度的微纳米级定位设备，主要用于微纳米加工、显微镜下的样品定位、纳米精度的测量和调试等领域。内置高性能压电陶瓷，运动范围可达500μm，具有体积小、无摩擦、响应速度快、高精度位移

2024-03-05 17:35:20

284

SMU数字源表IV扫描测试纳米材料电性能方案

纳米材料及器件作为战略性新兴产业和高新技术产业，是促进产业转型升级和高质量发展的重要支柱之一。普赛斯数字源表具有测试精度高、微弱信号检测能力强的特点，可根据用户测试需求配置高效率、高精度、高性价比的纳米材料测试方案，广泛应用在纳米材料、纳米器件、纳米发电等产品的研发生产领域

2024-03-05 17:22:40

188

美光科技: 纳米印刷助降DRAM成本

近期的演示会上，美光详细阐述了其针对纳米印刷与DRAM制造之间的具体工作模式。他们提出，DRAM工艺的每一个节点以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程变得愈发复杂。

2024-03-05 16:18:24

190

光刻胶和光刻机的区别

光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。

2024-03-04 17:19:18

399

基于SEM的电子束光刻技术开发及研究

电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶（抗蚀剂）表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。

2024-03-04 10:19:28

206

CYW43455如何增加扫描设备的数量呢？

客户报告说，连接四台设备后，手机无法再接收广播。删除连接后，手机可以再次扫描广播。那么如何增加扫描设备的数量呢？谢谢。

2024-03-01 09:39:04

佳能预计到2024年出货纳米压印光刻机

来源：DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货，与ASML的EVU设备竞争市场，因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。佳能董事长兼首席执行官Hiroaki

2024-02-01 15:42:05

270

佳能推出5nm芯片制造设备，纳米压印技术重塑半导体竞争格局

佳能近日表示，计划年内或明年上市使用纳米压印技术的光刻设备FPA-1200NZ2C。对比已商业化的EUV光刻技术，虽然纳米压印的制造速度较传统方式缓慢，但由于制程简化，耗电仅为EUV的十分之一，且投资额也仅为EUV设备的四成。

2024-01-31 16:51:18

551

高精度纳米级压电位移平台“PIEZOCONCEPT”！

高精度纳米级压电位移平台“PIEZOCONCEPT”半导体界后摩尔时代的手术刀！第三代半导体是后摩尔时代实现芯片性能突破的核心技术之一，优越性能和广泛的下游应用使相关厂商存在良好发展前景。随着下

2024-01-26 08:16:17

162

纳米技术的特点纳米技术有哪些用途

纳米技术是一种高度前沿的技术，利用控制和操纵物质的尺寸在纳米级别来创造新的材料和应用。纳米技术的特点主要包括以下几个方面：高比表面积、尺寸效应、量子效应和可调控性。首先，纳米技术的一个重要特点是

2024-01-19 14:06:42

4311

德累斯顿工厂的电子束光刻系统

和光通信领域的客户制造高精度微型光学元件。制造商是位于德国耶拿的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH。该系统将于2025年初交付。以最高精度创建最小的结构这种类型的电子束光刻系统可以在直径达300毫米的衬底上以10纳米范围（约为头发丝的1/2,000）精度

2024-01-15 17:33:16

176

纳米电子创新中心Imec与三井化学宣布建立战略合作伙伴关系

比利时纳米电子创新中心imec和日本化学公司三井化学宣布建立战略合作伙伴关系，将下一代EUV半导体光刻系统的关键组件商业化。

2024-01-08 09:10:34

325

光刻胶分类与市场结构

光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。

2024-01-03 18:12:21

346

亚纳米级高分辨率扫描电子显微镜

蔡司代理三本精密仪器小编介绍扫描电镜的分辨率取得了重大进步，已进入亚纳米级，这在很大程度上归功于硬件的改进，如更亮的场发射电子源，更好的电子光学设计(如单色器、像差矫正和减速技术等)，更高效的探测器

2024-01-03 16:43:59

144

光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图

光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。

2023-12-18 10:53:05

326

蔡司扫描电镜与X射线显微镜检测介绍

蔡司代理三本精密仪器小编介绍SEM扫描电镜与X射线显微镜是生命科学研究中的重要仪器，凭借其纳米级分辨率，SEM扫描电镜与X射线显微镜极大地提升了我们对生物超微结构的认识，-些亚细胞结构甚至是通过

2023-12-15 14:11:17

142

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质？

匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？

2023-12-15 09:35:56

442

芯明天P12A压电纳米扫描台在飞秒激光刻蚀中的应用

利用电子学方法所获得的最短脉冲要短几千倍。飞秒激光技术是近年来发展迅速的一种先进加工技术，具有极高的加工精度和速度，可以在各种材料表面进行微米至纳米级别的刻蚀和加工。

2023-12-14 11:01:12

227

LED贴膜屏静态扫描和动态扫描有何区别？

LED贴膜屏静态扫描和动态扫描有何区别？ LED贴膜屏静态扫描和动态扫描是两种不同的驱动方式，它们在显示效果、功耗、刷新率、图像质量等方面存在一些区别。下面我将详细介绍这两种扫描方式，帮助你了解它们

2023-12-11 14:25:56

448

光刻各环节对应的不同模型种类

光学模型是基于霍普金斯（Hopkins）光学成像理论，预先计算出透射相交系数（TCCs），从而描述光刻机的光学成像。光学模型中，经过优化的光源，通过光刻机的照明系统，照射在掩模上。如果在实际光刻

2023-12-11 11:35:32

287

扫描电镜能测出线宽的真实长度吗？如何才能测准？

大部分扫描电镜实验室对于纳米尺寸的准确测量，要求没有那么严格，比如线宽或颗粒大小到底是105nm还是95nm，似乎不太重要

2023-12-09 17:36:52

427

Z向运动大承载压电扫描台 - P70.Z200系列

P70.Z200系列压电扫描台是一款兼具小体积、大行程、大负载特点的Z向运动一维压电扫描台。它采用机构放大原理，无摩擦柔性铰链导向机构内置高可靠性压电陶瓷驱动，具有中心通孔设计，可带动物镜或样品实现

2023-12-07 14:42:51

348

半导体制造之光刻工艺讲解

光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用

2023-12-04 09:17:24

1334

光刻胶国内市场及国产化率详解

KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。

2023-11-29 10:28:50

283

什么是聚集度指数PDI粒径分布-LNP脂质纳米颗粒的PDI的影响因素

性能影响很大。例如，在制备纳米材料时，如果颗粒尺寸分布不均匀，则会影响其光学、电学、磁学等性能；在制备药物时，如果药物微粒大小不一致，则会影响其生物利用度和药效。图1：中芯启恒LNP脂质体制备设备

2023-11-28 13:38:39

不仅需要***，更需要光刻胶

为了生产高纯度、高质量的光刻胶，需要高纯度的配方原料，例如光刻树脂，溶剂PGMEA…此外，生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如，2019年，某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染，导致上万片12吋晶圆报废

2023-11-27 17:15:48

550

西陇科学9天8板，回应称“未生产、销售光刻胶”

　20日，西陇科学（株）发布公告称，该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶，占公司营业收入的比例，是目前用于上述用途的光刻胶配套。

2023-11-21 14:54:57

315

基于JSM-35CF SEM的纳米电子束光刻系统实现与应用

在电子和电气制造业中，光刻技术是制造无源/有源器件的重要步骤。

2023-11-20 09:30:05

405

光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？

2023-11-13 18:14:11

570

ASML携全景光刻解决方案亮相进博会

第六届进博会于近日在上海国家会展中心正式收官，ASML2023进博之旅也圆满落幕! 今年，ASML继续以“光刻未来，携手同行”为主题，携全景光刻解决方案惊艳亮相，还创新性地带来了“芯”意满满的沉浸

2023-11-11 15:23:53

595

纳米探针式轮廓仪

中图仪器SJ5730系列纳米探针式轮廓仪采用超高精度纳米衍射光学测量系统、超高直线度研磨级摩擦导轨、高性能直流伺服驱动系统、高性能计算机控制系统技术，分辨率高达0.1nm，系统残差小于3nm

2023-11-09 09:14:22

什么是纳米压印技术？能否取代***？

纳米压印是微纳工艺中最具发展潜力的第三代光刻工艺，是最有希望取代极紫外光的新一代工艺。最近，海力士公司从佳能购买了一套奈米压印机，进行了大规模生产，并取得了不错的效果。

2023-11-08 14:34:02

550

石器时代？俄计划生产350纳米***

在国际制裁的阴影下，俄罗斯正迈向自主研发生产芯片的新时代，接下来，俄罗斯计划采用土法炼钢研发生产芯片的光刻机。俄罗斯工业和贸易部副部长Vasily Shpak宣布，支持350纳米制程的光刻机将于

2023-11-06 11:26:29

212

什么是EUV光刻？EUV与DUV光刻的区别

EUV 光是指用于微芯片光刻的极紫外光，涉及在微芯片晶圆上涂上感光材料并小心地将其曝光。这会将图案打印到晶圆上，用于微芯片设计过程中的后续步骤。

2023-10-30 12:22:55

615

半导体制造领域光刻胶的作用和意义

光刻是半导体加工中最重要的工艺之一，决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%，占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材，其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。

2023-10-26 15:10:24

359

光学光刻技术有哪些分类光刻技术的原理

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。

2023-10-24 11:43:15

271

一文带您了解场发射扫描电镜

普通热发射扫描电子显微镜相比，场发射扫描电子显微镜具有更高的亮度和更小的电子束直径，即更小的束斑尺寸和更高的分辨率。是纳米尺度微区形貌分析的首选。 2. 文书组成场发射扫描电子显微镜由场发射电子枪、电子束推进器、聚光透

2023-10-23 14:56:39

3836

热烈祝贺芯明天“高可靠纳米级压电陶瓷快速反射镜”科技成果鉴定通过！

高可靠纳米级压电陶瓷快速反射镜可以产生毫秒级快速的、纳弧度级精度的二维角度偏转运动，是卫星激光通信、激光武器、自适应光学成像、高精度激光瞄准等领域的精密核心部件。哈尔滨芯明天科技有限公司

2023-10-19 10:37:45

479

纳米级测量仪器：窥探微观世界的利器

纳米级测量中，由于物体尺寸的相对较小，传统的测量仪器往往无法满足精确的要求。而纳米级测量仪器具备高精度、高分辨率和非破坏性的特点，可以测量微小的尺寸。1、光学3D表面轮廓仪SuperViewW1光学3D

2023-10-11 14:37:46

台积3纳米夺高通5G大单

高通在去年的骁龙首脑会谈上，今年推出了5g主力芯片snapdragon 8 gen 2的4纳米工程。高通曾将高通的前作snapdragon 8 gen 1以4纳米工程上市，但出现发热量问题后，将snapdragon 8+ gen 1换成了4纳米工程。

2023-09-26 09:40:35

2197

极紫外 (EUVL) 光刻设备技术应用分析

欧洲极紫外光刻（EUVL）技术利用波长为13.5纳米的光子来制造集成电路。产生这种光的主要来源是使用强大激光器产生的热锡等离子体。激光参数被调整以产生大多数在13.5纳米附近发射的锡离子（例如Sn10+-Sn15+）。

2023-09-25 11:10:50

264

仔细剖析一下五种UV***的区别及应用场景

UV光刻机一般可以分为5种，即：接触式光刻机，接近式光刻机，扫描投影式光刻机

2023-09-19 11:32:52

1302

详解LED、激光LD与量子点上的纳米材料

不是所有尺寸小于100nm纳米材料都叫纳米科技纳米科技广义的定义，泛指尺寸小于100nm(纳米)的材料，而研究纳米材料的科学技术泛称为「纳米科技(Nanotechnology)」。纳米技术的研究领域

2023-09-09 08:28:01

562

什么是光刻工艺？光刻的基本原理

光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。

2023-08-23 10:47:53

1578

浸没式光刻，拯救摩尔定律

2000年代初，芯片行业一直致力于从193纳米氟化氩（ArF）光源光刻技术过渡到157纳米氟（F 2 ）光源光刻技术。

2023-08-23 10:33:46

798

XD106.XYZ60K超低温真空无磁压电扫描台

随着科学技术的深入研究，在低温真空强磁的环境下提供纳米级精密定位的应用在物理学、化学和材料学等领域应用越来越多，而低温真空无磁压电运动平台是一种高精度精密定位设备，主要特点是高精度、高稳定性

2023-08-18 11:07:08

310

激光扫描共聚焦显微镜技术

CHOTEST中图仪器VT6000激光扫描共聚焦显微镜技术用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量。它以共聚焦技术为原理，结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立

2023-08-15 11:06:43

光刻技术概述及其分类

光刻是一种图像复制技术，是集成电路工艺中至关重要的一项工艺。简单地说，光刻类似照相复制方法，即将掩膜版上的图形精确地复制到涂在硅片表面的光刻胶或其他掩蔽膜上面，然后在光刻胶或其他掩蔽膜的保护下对硅片进行离子注入、刻蚀、金属蒸镀等。

2023-08-07 17:52:53

1479

EUV光刻市场高速增长，复合年增长率21.8%

EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。

2023-08-07 15:55:02

396

一文看懂压电纳米定位台的工作原理及应用范围

压电纳米位移台的结构 压电纳米定位台具有移动面，是通过带有柔性铰链的机械结构将压电陶瓷产生的位移及出力等进行输出，分直驱与放大两种结构。以压电陶瓷作为驱动源，结合柔性铰链机构实现X轴、Z轴、XY

2023-08-02 16:14:42

2424

次时代EUV光刻已箭在弦上！

半导体技术的未来通常是通过光刻设备的镜头来看待的，尽管高度挑战性的技术问题几乎永无休止，但光刻设备仍继续为未来的工艺节点提供更好的分辨率。

2023-07-28 17:41:16

1130

刹车盘厚度平面度检测# 平面成扫描# 厚度检测

扫描

立仪科技发布于 2023-07-07 16:22:00

光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪

GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过

2023-07-07 11:46:07

SEM扫描电镜工作原理，SEM扫描电镜技术应用

这是Amanda王莉第55篇文章,点这里关注我,记得标星在当今世界，SEM扫描电子显微镜分析技术，一种介于透射电子显微镜和光学显微镜之间的一种观察手段，主要应用在半导体、材料科学、生命科学和纳米材料

2023-07-05 10:04:06

1992

【应用案例】扫描隧道显微镜STM

比它的同类原子力显微镜更加高的分辨率。此外，扫描隧道显微镜在低温下（4K）可以利用探针尖端精确操纵原子，因此它在纳米科技既是重要的测量工具又是加工工具。 STM工作原理 STM是一种利用量子理论中的隧道效应探测物质表面结构的仪器。一根携带小小的电荷的探针慢慢地通过材料，一股电

2023-07-04 13:12:05

1129

基于机器学习的逆向光刻技术

中国科学院大学集成电路学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解，本学期集成电路学院开设了《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》研讨课。在授课过程中，除教师系统地讲授

2023-06-29 10:02:17

327

中图共聚焦激光扫描显微镜

VT6000系列中图共聚焦激光扫描显微镜是一款用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。它以共聚焦技术为原理，在转盘共聚焦光学系统的基础上，结合高稳定性结构设计和3D重建算法，共同

2023-06-28 13:45:21

光刻对准原理与精度控制

2023-06-26 17:00:19

766

一文了解光刻的历史

如今，光刻技术已成为一项容错率极低的大产业。全球领先的荷兰公司 ASML 也是欧洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依赖于世界上最平坦的镜子、最强大的商用激光器之一以及比太阳表面爆炸还高的热度，在硅上刻出微小的形状，尺寸仅为几纳米。

2023-06-26 16:59:16

569

综述：聚合物薄膜的非光刻图案化方法

非光刻图案化方法可以从图案设计的自由度上分为三大类，第一类能够自由形成任意图案，主要包括扫描探针刻印（SPL）和喷墨打印；第二类需要在模板或预图案化基材的辅助下形成复杂的图案，包括区域选择性沉积（ASD）、纳米压印（NIL）、微接触印刷（mCP）

2023-06-21 15:49:50

522

面向光刻的设计规则建立及优化

2023-06-14 10:16:38

226

芯片制造之光刻工艺详细流程图

光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。

2023-06-09 10:49:20

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芯片制造光刻步骤详解

芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。

2023-06-08 10:57:09

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一文看懂EUV光刻

极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。

2023-06-06 11:23:54

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知识分享---光刻模块标准步骤

通常，光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的，其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进行表征，以确保模块末端剩余的抗蚀剂是掩模的最佳图像，并具有所需的侧壁轮廓。

2023-06-02 16:30:25

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为什么扫描窗口和扫描间隔参数在连接请求参数中？

, BleApp_ConnectionCallback); } 实际扫描窗口和间隔在 gapScanningParameters_t 结构中。这是用于扫描的。那么gapConnectionRequestParameters_t结构的.scanInterval和.scanWindow参数是如何影响扫描的呢？

2023-06-01 08:54:01

探针台的功能有哪些

探针台的主要用途是为半导体芯片的电参数测试提供一个测试平台，探针台可吸附多种规格芯片，并提供多个可调测试针以及探针座，配合测量仪器可完成集成电路的电压、电流、电阻以及电容电压特性曲线等参数检测

2023-05-31 10:29:33

全息图增强纳米级3D打印技术

目前，用于制造具有复杂形状的纳米级物体的最精确的3D打印技术可能是双光子光刻。这种方法依赖于液态树脂，只有当它们同时吸收两个光子而不是一个光子时，它们才会固化。这使得能够精确制造具有体素（相当于像素的3D）的物体，尺寸只有几十纳米。

2023-05-17 09:59:22

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基于银纳米颗粒/铜纳米线复合材料的电化学无酶葡萄糖传感器

研究人员首先对银纳米颗粒/铜纳米线进行了合成，并对制备的铜纳米线和化学沉积后负载不同尺寸银纳米颗粒的铜纳米线进行了形貌和结构表征（图1）。随后，利用制备的银纳米颗粒/铜纳米线材料制备获得银纳米颗粒/铜纳米线电极，用于后续无酶葡萄糖传感性能的研究。

2023-05-12 15:19:28

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新品推荐|XD770.300S大负载压电纳米定位台

压电纳米定位台在精密定位领域中发挥着至关重要的作用，可集成于各类高精密装备，为其提供纳米级运动控制，且应用非常广泛，例如显微扫描、光路调整、纳米操控技术、激光干涉、纳米光刻、生物科技、光通信、纳米

2023-05-11 08:56:02

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重载云台

云台能搭载光学镜头、巡检机器人、声波器、雷达、天线等多种设备的，集重载、高速、高精、可靠等优势于一身，按载重可分为轻载云台、中载云台、重载云台，济南祥

2023-05-09 17:14:13

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小，底层厚度也应该减小。

2023-04-27 16:25:00

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压电纳米定位台在数据存储中的应用！

存储数据就是将信息以各种不同的形式存储起来。数据存储是一个存储库持久地存储和管理数据的集合，其中不仅包括像仓库数据库，而且有简单的存储类型，如简单的文件、电子邮件等。芯明天压电纳米定位台具有

2023-04-26 16:23:02

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浅谈光刻技术

在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术，占芯片制造成本的35%以上。

2023-04-26 08:57:03

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光刻技术的种类介绍

根据维基百科的定义，光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。

2023-04-25 11:11:33

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光刻技术的原理及发展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用

2023-04-25 11:05:32

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什么是光刻技术

光刻技术简单来讲，就是将掩膜版图形曝光至硅片的过程，是大规模集成电路的基础。目前市场上主流技术是193nm沉浸式光刻技术，CPU所谓30nm工艺或者22nm工艺指的就是采用该技术获得的电路尺寸。

2023-04-25 11:02:32

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中国最先进的***是多少纳米？

中国在芯片制造领域一直在追赶先进的技术，虽然在一些关键技术方面还存在一定差距，但近年来中国在光刻机领域取得了一些进展，下面将详细介绍中国目前最先进的光刻机是多少纳米。

2023-04-24 15:10:01

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负光刻胶显影残留原因

151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下

2023-04-20 13:13:52

浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战

新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。

2023-04-13 11:52:12

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7805稳压电路中的滤波电阻在proteus中怎么找到？

你好，我想问您一下，7805稳压电路中的滤波电阻在proteus中怎么找到？谢谢

2023-04-12 11:22:28

XYZ三维运动、电容闭环、无磁压电纳米定位台与控制器！

本次介绍一款XYZ三维运动、电容传感器闭环的压电纳米定位台及相应控制器，该电容运动台的型号为P12.XYZ100C，控制器型号为E00.D11AL。 P12.XYZ100C压电纳米定位

2023-04-08 08:53:38

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白光干涉仪核心硬件-压电陶瓷的大作用 | 科普篇

优可测Atometrics白光干涉仪AM系列搭载着超高精度扫描单元——压电陶瓷纳米级步进！逐层扫描还原真实三维形貌，让微小瑕疵、细微划伤无所遁形。今天小优博士带您了解压电陶瓷在白光干涉仪内的重要作用

2023-04-07 09:18:19

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音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不

2023-04-06 08:56:49

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泰来三维激光扫描服务三维扫描古建筑案例分享

泰来三维扫描服务_大空间三维扫描服务_三维扫描寺庙_三维扫描古建筑解决方案，泰来三维应邀对花盆村戏台及关帝庙进行三维数字化扫描并创建各建筑的正射影像。

2023-03-31 10:19:55

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压电致动器适用于基于原子力显微镜AFM的纳米切割

依赖于使用原子力显微镜(AFM)进行纳米切割技术的控制原理，可用于制造具有几微米数量级的恒定切割深度的凹槽。线性位移传感器、反馈控制系统和压电致动器一起运行，可以在加工过程中保持恒定的法向切削力

2023-03-29 16:24:52

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GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍

GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻计算光刻技术提速40倍 NVIDIA cuLitho的计算光刻库可以将计算光刻技术提速40倍。这对于半导体制造而言极大的提升了效率。甚至可以说

2023-03-23 18:55:37

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为什么在直流稳压电源中，不选可控硅降压电路，而选择降压变压器呢？

2023-03-23 09:48:42

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纳米光刻中的压电扫描台

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