电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米
2024-03-09 00:15:00
2910 电子发烧友网报道（文/李弯弯）近期，各大视频平台疯传一条消息，称清华大学EUV项目，把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地，还在视频中配了下面这张图，表示图片
2023-09-20 08:56:502575 
电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律
2023-07-16 01:50:153007 
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。
2024-03-21 11:31:4136 
据荷兰《电讯报》3月6日报道，因荷兰政府的反移民政策倾向，光刻机巨头阿斯麦（ASML）正计划搬离荷兰。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层损坏、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻机巨头ASML传出可能因荷兰政府的反移民政策倾向而考虑迁离本国的消息，这令业界哗然。据悉，荷兰政府为阻止这一可能发生的变故，已专门成立了由首相马克·吕特亲自挂帅的“贝多芬计划”特别工作组。
2024-03-07 15:36:51209 ，但是编码器绝对没有打滑。
请问这个编码器是否同心对电机测速影响这么大吗？我的理解电机转一圈编码器转一圈，只要转动的每一圈距离时长一样应该是没有问题的，但是在变频器上反馈频率波动大约有1HZ左右，闭环完全不能运行。详细原因究竟是什么？
2024-03-06 17:34:21
英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止，英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂，据报道它们的售价约为3.8亿美元
2024-03-06 14:49:01161 
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
2024-03-05 11:26:00123 光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 来源：DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货，与ASML的EVU设备竞争市场，因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37:24359 
来源：AIot工业检测，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 随着芯片需求的不断增长，芯片制造商正加大采购晶圆厂设备的力度，以提高产能。作为EUV光刻机制造商，ASML受益于这一趋势，其2023
2024-01-26 09:20:12409 掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一类不可或缺的晶圆制造材料，在芯片封装（构筑芯片的外壳和与外部的连接)、平板显示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷电路板、微机电器件等用到光刻技术的领域也都能见到各种掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22145 
一系列环节如制造、封装、测试等。 在这其中，制造过程显得尤为关键，而高端光刻机则是制造过程中不可或缺的设备。 光刻机在微电子制造过程中扮演核心角色，其要求具备高度精密的光学系统、复杂的机械结构和先进的控制技术。
2024-01-17 17:56:59292 在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 声明：2050 及2100 光刻机出口许可证已被部分撤销 ASML日前发表声明，称荷兰政府最近部分撤销了此前颁发的NXT:2050i and NXT:2100i光刻机在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
2023-12-28 11:31:39406
电路板原理图如上图所示，我用ZYNQ通过SPI与DA芯片通信，当我控制DA芯片输出固定电压时，音圈电机不转，但是当DA芯片输出变化的电压，例如三角波或者正弦波，音圈电机就会往返转动，而且看上去转动
2023-12-27 16:14:33
掩模版（Photomask）又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工艺中关键部件之一，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具
2023-12-25 11:41:135396 
光刻与光刻机
➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。
➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。
光刻机结构及工作原理
➢光刻机简介
➢光刻机结构及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
LabVIEW在燃气轮机发电机组励磁控制系统测试中的应用
燃气轮机发电机组作为一种高效可靠的常备应急电源，在保障发电品质稳定性和可靠性方面发挥着关键作用。其中，励磁控制系统是保证供电质量的重要环节
2023-12-18 20:19:08
光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326 
欢迎了解 光刻机（Lithography Machine）是一种半导体工业中常用的设备，用于将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是IC制造的核心环节，光刻机的基本工作原理是利用光学原理将图案投射
2023-12-18 08:42:12278 
光学模型是基于霍普金斯（Hopkins）光学成像理论，预先计算出透射相交系数（TCCs），从而描述光刻机的光学成像。光学模型中，经过优化的光源，通过光刻机的照明系统，照射在掩模上。如果在实际光刻
2023-12-11 11:35:32287 
光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241334 
一个纸机涂布排风系统中，有一台G120 变频器 45KW电机，在运行过程总是会出现堵转跳停，而且跳停后很难再启动！请教各位大虾 有什么方法可以改善这种情况，还是可以通过修改参数解决？劳烦大家给点意见！
2023-11-16 06:38:23
电机转一圈同步带转多少怎么计算
2023-11-07 06:51:25
随着工艺节点不断变小，掩模版制造难度日益增加，耗费的资金成本从数十万到上亿，呈指数级增长，同时生产掩模版的时间成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保证其设计有足够高的品质，重新优化设计并再次制造一批掩模版将增加巨大的资金成本和时间成本。
2023-11-02 14:25:59284 
光刻机中的投影物镜一般由凸透镜、凹透镜和棱镜等一系列透镜组成，其作用是将光源发出的光束进行聚焦和投射。在光刻机中，投影物镜将掩模版上的电路图案缩小到一定比例后，聚焦成像到预涂光阻层的晶圆上。
2023-11-01 11:23:34263 2020年时，ASML总裁还声称中国即使拿到设计图纸也无法自制光刻机。但2021年开始，其态度出现变化，承认中国有可能独立制造光刻机系统。2022年甚至主动表示要继续向中国出售光刻机。2023年上半年，ASML开始大量向中国倾销光刻机。
2023-10-30 16:18:101124 永磁同步电动机在各行各业中尤其在工业控制行业中的应用越来越广泛。三相永磁同步电机在产品研发及出厂检测必须确保产品性能及产品质量,因此对电机的性能进行严格的测试与分析显得尤为重要。永磁同步电机测试系统
2023-10-28 13:21:23
电机特性常数测试系统产品概述：电机特性常数测试系统适用于各种功率电机测试，扭矩变化不受转速的影响，因此可以进行空载到堵转的全程测试。实现电机的电压、电流、输入功率、转速、转矩、输出功率、效率等进行
2023-10-28 13:12:56
监控的项目有电流、转速、温度和功率等，可以自由设定电机的运行时间、停止时间及循环次数。各个工位独立运行，不受其它工位的干扰。测试数据全部存储在系统中，并能实现远距离
2023-10-28 10:41:35
新能源汽车电机综合测试系统测试用于纯电动汽车用电机、电机控制器、差减速器等产品检验和故障分析，该系统能够满足型式试验和耐久试验要求、电控系统试验和车用电机以及动力电池组在动力系统中的性能试验及优化
2023-10-28 10:22:02
能量回馈型新能源汽车电机测试系统用于新能源纯电动汽车开发过程中对各种型式永磁同步电机及其控制器进行各方面性能、可靠性台架测试,能够完成电机控制策略的开发、匹配、标定、评价研究;也能够用于驱动电机
2023-10-28 10:10:01
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271 
电子发烧友网站提供《PCB激光投影光刻照明系统的设计.pdf》资料免费下载
2023-10-23 09:38:18
1 用51单片机控制直流电机转动圈数，在电位计旋转至不同位置转动不同圈数。
2023-10-19 08:07:47
半导体芯科技编译 来源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12届年度eBeam Initiative杰出人物调查。 来自半导体生态系统（包括光掩模
2023-10-17 15:00:01224 怎么确定步进电机转动一圈需要的脉冲数
2023-10-12 07:16:00
电机在运行的时候怎么计数转动的圈数
2023-10-11 06:23:21
光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应，经曝光、显影等光刻工艺，将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2023-10-09 14:34:491674 
SMT镭雕机_自动在线激光刻印_全自动翻板镭雕机PCB在线激光镭雕机，选用国际领先工业级激光器，加工速度快，使用寿命长， 可刻印汉字，英文、数字、图表、流水号、LOGO、条形码、二维码等内容
2023-09-23 10:16:45
UV光刻机一般可以分为5种，即：接触式光刻机，接近式光刻机，扫描投影式光刻机
2023-09-19 11:32:521302 
近20年来，EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12562 
运动平台如双XY桥台、双驱动龙门台、空流平台等。这些线性运动平台也将用于光刻机、面板处理、测试机、印刷电路板钻并机、高精度激光处理设备、基因序列仪、脑细胞成像仪和其他医疗设备。
高动态响应
低安装高度
UL与CE认证
持续推力范围103N至
瞬间推力范围289N至
安装高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38
香蕉派BPI-FSM8191D伺服电机控制器是香蕉派开源社区与峰岹科技合作打造的一款工业级伺服电机控制产品。是一款应用于驱动旋转伺服电机，直线伺服电机以及力矩电机的伺服模块，在实际应用中，由主控板
2023-09-04 09:16:12
短波长透明光学元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波长，而晶片上所需的最小特征继续向更深的亚波长尺度收缩。这对用入射场代替掩模开口上的场的基尔霍夫边界条件造成了严重的限制，因为这种近似无法考虑光刻图像
2023-08-25 17:21:43279 
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531578 
光刻机有半导体工业“皇冠上的明珠“之称，是高速生产芯片所需要的最关键和最复杂的设备之一（一台光刻机有10万个组件）。目前全世界的高端光刻机被荷兰公司ASML垄断（中低端产品美国、日本和中国均能生产），而绝大部分的组件供应商又被美国控制。
2023-08-21 16:09:33472 EUV掩膜，也称为EUV掩模或EUV光刻掩膜，对于极紫外光刻（EUVL）这种先进光刻技术至关重要。EUV光刻是一种先进技术，用于制造具有更小特征尺寸和增强性能的下一代半导体器件。
2023-08-07 15:55:02396 在半导体行业中，直线电机模组以其高速度、高精度的特点，杯应用于光刻机、IC 成膜机、IC 塑封机等多种不同加工设备中，而且单台设备往往须要几台直线电机。
2023-08-04 12:56:23286 三十年来，半导体掩模技术基本保持不变，掩模的制作是在可变成形机上进行的，这些机器将可变元件限制在 45 度角。随着功能缩小并变得更加复杂，电子束和多束掩模写入器提供了设计的灵活性。现在，几乎 100% 的掩模都是使用多光束技术制作的，为高数值孔径系统上更复杂、更高效的设计带来了新的机会。
2023-08-01 11:21:26289 
CHOTEST中图仪器PO系列数控机床在机测量系统也就是机床测头，可以用于精密测量和检测应用。比如，在汽车零部件加工中，可以使用测头对发动机曲轴箱等关键部位进行精密测量和检测，以确保其质量和可靠性
2023-07-26 13:29:40
。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02:38592 
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
光刻机的制造是一项复杂而精密的工艺，需要高度专业化的技术和设备。它涉及到许多关键的工艺步骤和组件，如光学系统、曝光光源、掩模制作等。
2023-07-04 17:48:2813485 荷兰实施半导体出口管制 ASML光刻机DUV系统需要许可证 芯片战愈演愈烈。荷兰正式实施半导体出口管制条款，这将对光刻机巨头阿斯麦（ASML）产生更多影响。ASML的EUV光刻系统在此前已经
2023-07-01 17:38:19669 
机床在机测量头系统一般安装在数控车床、加工中心、数控磨床等数控机床上。它在加工循环中不需人为介入，就能直接对刀具或工件的尺寸及位置进行测量，并根据测量结果自动修正工件或刀具的偏置量，使同样的机床能
2023-06-28 13:35:35
搞光刻机必须要有搞核弹的精神，但只有这种精神是不够的！光刻机毕竟不是核弹，光刻机从试验机改良成量产机，需要与产线相结合试验生产，这些步骤是不可能秘密进行的。
2023-06-27 15:50:0810752 
因此光刻机对芯片制造非常重要，它是影响芯片制造质量和效率的重要因素。纵观全球光刻机市场，荷兰ASML公司一家独大，占据全球80%的光刻机市场份额，高端EUV光刻机的市占比更是达到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大纲 光刻是芯片制造最核心环节，大陆自给率亟待提升 ·光刻机是芯片制造的核心设备，市场规模全球第二 ·一超两强垄断市场，大陆卡脖子现象凸显 光刻机：多个先进系统的组合，核心零部件被海外厂商垄断
2023-06-19 10:04:008364 
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-15 11:14:533429 
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205857 
极紫外光刻的制约因素
耗电量高极紫外线波长更短，但易被吸收，可利用率极低，需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机，250W的功率，每天耗电达到三万度。
生产效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
光刻机需要采用全反射光学元件，掩模需要采用反射式结构。
这些需求带来的是EUV光刻和掩模制造领域的颠覆性技术。EUV光刻掩模的制造面临着许多挑战，包括掩模基底的低热膨胀材料的开发、零缺陷衬底抛光、多层膜缺陷检查、多层膜缺陷修复等。
2023-06-07 10:45:541008 
极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
通常，光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的，其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进行表征，以确保模块末端剩余的抗蚀剂是掩模的最佳图像，并具有所需的侧壁轮廓。
2023-06-02 16:30:25418 
上海伯东客户某光刻机生产商, 生产的电子束光刻机 Electron Beam Lithography System 最大能容纳 300mmφ 的晶圆片和 6英寸的掩模版, 适合纳米压印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
由于美国的干涉，asml的极紫外线光刻机无法出口到中国，甚至深度紫外线光刻机也受到了限制。很明显，美国不会放松对 EUV光刻机的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 之前的小讲堂有介绍过，光刻过程就好比用照相机拍照，将掩模版上的芯片设计版图曝光到晶圆上，从而制造出微小的电路结构。ASML光刻机的镜片组使用极其精密的加工手段制造，使得最终像差被控制在納米级别，才能稳定地通过曝光印刷微电路。
2023-05-25 10:13:28497 
BE-8106 重物冲击试验机-重物撞击试验机-电池冲击碰撞试验台 BE-8106电池重物冲击试验机适用标准重物冲击试验台要符合GB8897.4-2002、GB/T18287-2000
2023-05-24 11:13:52
在投影光刻机照明系统中，均匀照明是保证加工出的线条线宽均匀一致的一项重要技术。通常，用于光刻机照明系统的匀光元件有积分棒、衍射光学元件和微透镜阵列。积分棒匀光的缺点是，限制了照明最大孔径角
2023-05-17 14:52:061059 
的偏置量，使同样的机床能加工出更高精度的零件。 中图仪器PO40机床在机测量系统是一款具有 3 维 5 向探测功能的红外触发机床测头，具有体积小、精度高、
2023-05-17 14:41:23
在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。
2023-05-11 16:10:492772 
2023年中国光刻机现状是什么样的呢？自从2018年以来，我国开始被美国各种手段制裁，光刻机被卡脖子，美国不让荷兰卖先进的光刻机给我们，这也让这些年来无数国人关注光刻机的研发进度。
2023-05-10 16:24:1521220 扫描仪(scanner)是一种在wafer上创建die images的机器。它首先通过刻线（有时称为掩模）将光照射到涂有保护性光刻胶的wafer上，以刻上刻线图案的图像。
2023-05-06 09:51:385193 
晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小，底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25:00689 
现代工艺技术将晶圆厂设备要求推向极限，需要实现突破其物理极限的高分辨率，这正是计算光刻技术发挥作用的地方。计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，它结合来自ASML设备和测试晶圆的关键数据，是一个模拟生产过程的算法。
2023-04-26 10:05:29918 根据维基百科的定义，光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
2023-04-25 11:11:331242 
光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-04-25 11:05:322260 
光刻技术是将掩模中的几何形状的图案转移到覆盖在半导体晶片表面的薄层辐射敏感材料（称为抗蚀剂）上的过程
2023-04-25 09:55:131057 
泰科伺服生产的MT无刷伺服系统主要由IDM系列伺服驱动器与兼容NEMA法兰尺寸的直流无刷伺服电机组合而成。采用直流供电，最大功率可达600W,主要应用于小型移动机器人、自动化检测组装、医疗设备等行业
2023-04-20 10:45:52
，最大功率可达5KW。集可编程运动控制、PLC、伺服驱动功能于一体。主要应用于直线（DDL）、力矩(DDR)、音圈、有刷、无刷伺服电机的位置、速度、转矩控制。它能以
2023-04-20 10:21:24
泰科智能生产的MT无刷伺服系统主要由IDM系列伺服驱动器与兼容NEMA法兰尺寸的直流无刷伺服电机组合而成。采用直流供电，最大功率可达600W,主要应用于小型移动机器人、自动化检测组装、医疗设备等行业
2023-04-19 11:07:03
新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164 光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
在基础科研中，微纳结构的跨尺度光刻逐渐成为研究者在制备样品过程中的必要手段。常规光刻机需要定制光学掩模板，这不仅增高成本，还使灵活性大打折扣，即当发生任何设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光
2023-03-28 08:55:41692 
为2nm及更先进芯片的生产提供更强大的助力。 计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。而NVIDIA cuLitho计算光刻库利用GPU技术实现计算光刻，可以极大的降低功耗、节省时间。 目前台积电、光刻机制造商阿斯麦，以及EDA巨头新思科技都已经导入
2023-03-23 18:55:377488 
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