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      电子发烧友网>今日头条>华为何时能造出自己的芯片，光刻机是首要的解决问题

      华为何时能造出自己的芯片，光刻机是首要的解决问题

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      学习电子知识发布于 2023-07-25 22:49:16

      EUV***市场：增长趋势、竞争格局与前景展望

      EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种高级光刻设备，用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV光刻机是目前最先进的光刻技术之一，它采用极端紫外光作为曝光光源，具有更短的波长
      2023-07-24 18:19:471095

      #硬声创作季 芯片故事之为何失去华为芯片订单，台积电反而越来越好？

      芯片
      jf_27932003发布于 2023-07-22 17:27:31

      深紫外光刻复杂照明光学系统设计

      摘要 ：随着微电子产业的迅猛发展，我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为193nm的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至32nm节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备
      2023-07-17 11:02:38592

      ASML：没向中国推出特别版***

      特别版的光刻机。 荷兰政府的限制先进半导体设备出口新规将于9月1日生效。这一事件引发了市场猜测ASML可能会发布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的调整版，以减轻对中国芯片制造商的影响，并满足荷兰禁止向中国客户出口28纳米以下工艺制造的要求。 目前全球绝大
      2023-07-07 12:32:371112

      光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪

      GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
      2023-07-07 11:46:07

      ASML 将向中国推出“特供版”DUV ***；英伟达或将部分AI GPU订单外包三星

      半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。 消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是 10 年前推出
      2023-07-06 16:45:01924

      荷兰实施半导体出口管制 ASML***DUV系统需要许可证

      荷兰实施半导体出口管制 ASML光刻机DUV系统需要许可证 芯片战愈演愈烈。荷兰正式实施半导体出口管制条款，这将对光刻机巨头阿斯麦（ASML）产生更多影响。ASML的EUV光刻系统在此前已经
      2023-07-01 17:38:19669

      ***技术有多难搞？我国***发展现状

      搞光刻机必须要有搞核弹的精神，但只有这种精神是不够的！光刻机毕竟不是核弹，光刻机从试验机改良成量产机，需要与产线相结合试验生产，这些步骤是不可能秘密进行的。
      2023-06-27 15:50:0810752

      光刻中承上启下的半导体掩膜版

      电子发烧友网报道（文/周凯扬）在上游的半导体制造产业中，除了光刻机等设备外，光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说，这个承载设计图形的材料，经过曝光后将图形信息转移到
      2023-06-22 01:27:001984

      GPT-4已经会自己设计芯片了吗？

        GPT-4已经会自己设计芯片了！芯片设计行业的一个老大难问题HDL，已经被GPT-4顺利解决。并且，它设计的130nm芯片，已经成功流片。 GPT-4，已经可以帮人类造芯片了！ 只用简单的英语
      2023-06-20 11:51:12547

      ASML无视美国禁令出货400台***

      因此光刻机对芯片制造非常重要，它是影响芯片制造质量和效率的重要因素。纵观全球光刻机市场，荷兰ASML公司一家独大，占据全球80%的光刻机市场份额，高端EUV光刻机的市占比更是达到100%。
      2023-06-20 11:42:271258

      超级全面！一文看懂***：MEMS传感器及芯片制造的最核心设备

      文章大纲 光刻是芯片制造最核心环节，大陆自给率亟待提升 ·光刻机是芯片制造的核心设备，市场规模全球第二 ·一超两强垄断市场，大陆卡脖子现象凸显 光刻机：多个先进系统的组合，核心零部件被海外厂商垄断
      2023-06-19 10:04:008364

      ASML***发展历程 ***核心系统设计流程

      光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
      2023-06-15 11:14:533429

      芯片制造中人类科技之巅的设备---***

      光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺，如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多，包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀
      2023-06-12 10:13:334452

      芯片制造之光刻工艺详细流程图

      光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
      2023-06-09 10:49:205857

      极紫外光刻随机效应的表现及产生原因

      够高同样以3400B来说，该EUV光刻机的生产效率是每小时125片晶圆，还不到DUV光刻机生产效率的一半。 　　随机效应严重DUV时代就存在，但对芯片制造影响不大，因此被芯片代工厂忽略。但在EUV时代，该问题开始严重影响芯片的良率，随芯片工艺尺寸越来越小，随机效应越发明显
      2023-06-08 15:56:42283

      【热点】2023年了，我国***发展怎么样了？

      。因此，如果芯片厂商想要生产10nm以下的芯片，必须得有ASML供应的EUV光刻机及相应的支持服务。目前最先进的EUV光刻机能制造小于7nm制程的芯片，每台能卖到
      2023-06-08 14:55:0020068

      芯片制造光刻步骤详解

      芯片前道制造可以划分为七个环节，即沉积、涂胶、光刻、去胶、烘烤、刻蚀、离子注入。
      2023-06-08 10:57:093765

      2023年Q1全球芯片市场分析 芯片行业何时走出“寒冬”？

      2023年第一季度全球芯片销售额为1195 亿美元，环比下降8.7%，同比下降了21.3%。那么，芯片行业的“寒风”还会吹多久？芯片行业何时走出“寒冬”？
      2023-06-08 10:52:511068

      首个量子芯片生产线获“超视力”

      由于美国的干涉，asml的极紫外线光刻机无法出口到中国，甚至深度紫外线光刻机也受到了限制。很明显，美国不会放松对 EUV光刻机的出口限制。
      2023-06-01 10:43:441552

      乐趣探索不一样的计算光刻

      之前的小讲堂有介绍过，光刻过程就好比用照相机拍照，将掩模版上的芯片设计版图曝光到晶圆上，从而制造出微小的电路结构。ASML光刻机的镜片组使用极其精密的加工手段制造，使得最终像差被控制在納米级别，才能稳定地通过曝光印刷微电路。
      2023-05-25 10:13:28497

      什么是EUV***？

      需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比，EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
      2023-05-22 12:48:373985

      专家称***只占20%芯片制造：并非最重要的

      不仅是国内的网友这么认为，唯光刻机论在海外也很有市场，似乎大部分网友都是这样想的，已经到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就会强调光刻机会卡脖子，而有了光刻机，台积电这样的公司就能随便复制一样。
      2023-05-15 11:10:271112

      一文讲透光刻胶及芯片制造关键技术

      在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
      2023-05-13 11:28:381119

      2023年中国***现状

      2023年中国光刻机现状是什么样的呢？自从2018年以来，我国开始被美国各种手段制裁，光刻机被卡脖子，美国不让荷兰卖先进的光刻机给我们，这也让这些年来无数国人关注光刻机的研发进度。
      2023-05-10 16:24:1521220

      NVIDIA H100 GPU为2nm芯片加速计算光刻！

      现代工艺技术将晶圆厂设备要求推向极限，需要实现突破其物理极限的高分辨率，这正是计算光刻技术发挥作用的地方。计算光刻就是为芯片生产制作光掩模的技术，它结合来自ASML设备和测试晶圆的关键数据，是一个模拟生产过程的算法。
      2023-04-26 10:05:29918

      浅谈光刻技术

      在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术，占芯片制造成本的35%以上。
      2023-04-26 08:57:031033

      光刻技术的原理及发展前景分析

      光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
      2023-04-25 11:05:322260

      计算光刻技术有多重要？计算光刻如何改变2nm芯片制造？

      光刻是在晶圆上创建图案的过程，是芯片制造过程的起始阶段，包括两个阶段——光掩膜制造和图案投影。
      2023-04-25 09:22:16696

      负光刻胶显影残留原因

      151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下
      2023-04-20 13:13:52

      别再只盯着***了！自动化测试对于芯片制造同样重要

      行业调研数据显示，芯片行业的产值和营收一直在不断提高，同时其地位受到大众的关注。光刻机在芯片领域当然独占鳌头，但一颗芯片的成功不只取决于光刻部分，测试对芯片的质量更有不容忽视的意义。不论是更小尺寸
      2023-04-14 09:48:15686

      中国能不能造出顶级***

      光刻机是半导体工业中非常重要的设备，用于在半导体芯片制造过程中将芯片图形化。由于光刻机的精度和性能要求非常高，其制造难度也相对较大，目前市场上仅有少数几家公司能够生产出顶级光刻机。那么，中国能否造出顶级光刻机呢？
      2023-04-07 13:35:244597

      音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

      光刻机是芯片智造的核心设备之一，也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此，荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻，但其实不同光刻机的用途并不
      2023-04-06 08:56:49679

      快讯：华为2023年全面验证14nm以上EDA 美国芯片法案限制细则公布

      设计EDA工具团队联合国内EDA企业，共同打造了14nm以上工艺所需EDA工具，基本实现了14nm以上EDA工具国产化，预计2023年将完成对其全面验证。 此外，华为的MetaERP将会完全用自己的操作系统、数据库、编译器和语言，做出自己的管理系统MetaERP软件。 美国芯片法案限制
      2023-03-27 16:27:184778

      被卡脖子的半导体设备（万字深度报告）

      光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上，通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术。光刻工艺包括三个核心流程：涂胶、对准和曝光以及光刻胶显影，整个过程涉及光刻机，涂胶显影机、量测设备以及清洗设备等多种核心设备，其中价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。
      2023-03-25 09:32:394950

      GTC 2023 NVIDIA将加速计算引入半导体光刻 计算光刻技术提速40倍

      为2nm及更先进芯片的生产提供更强大的助力。 计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。而NVIDIA cuLitho计算光刻库利用GPU技术实现计算光刻，可以极大的降低功耗、节省时间。 目前台积电、光刻机制造商阿斯麦，以及EDA巨头新思科技都已经导入
      2023-03-23 18:55:377488

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