电子发烧友网报道（文/黄山明）芯片，一直被誉为 人类智慧、工程协作与精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要设备光刻机就是 雕刻这个结晶的 “ 神之手 ”。但仅有光刻机还不够，还需要光刻胶、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 了全球 EUV 光刻设备市场，成为各国晶圆厂迈向 7nm、5nm 乃至更先进制程绕不开的 “守门人”。然而，近日俄罗斯科学院微结构物理研究所公布的一份国产 EUV 光刻设备长期路线图，引发了业界的广泛关注与讨论 —— 俄罗斯，正在试图挑战 ASML 的霸权。
2025-10-04 03:18:009690 
7月16日，全球三大光刻巨头之一的日本尼康公司宣布，正式推出全球首款专为半导体后道工艺设计的无掩模光刻系统——DSP-100，这款设备为先进封装量身定制，可以容纳600mm大基板，并提供1.0μm
2025-07-24 09:29:397818 
新的方向。 SK 海力士 SK海力士在CES展上展示了公司在推动人工智能时代进步方面所推出的变革性存储器产品。包括SK海力士的HBM、服务器DRAM、eSSD、CXL及PIM产品。 作为领先的HBM供应商，SK海力士公开了16层HBM3E样品。这是全球容量最大的HBM产品，48GB 1
2025-01-13 09:11:133033 
M24SR16 - Y：多功能动态NFC/RFID标签IC的全面解析 在电子设备互联互通的今天，NFC/RFID技术的应用愈发广泛。M24SR16 - Y作为一款动态NFC/RFID标签IC，凭借其
2026-01-05 16:50:0526 KSZ8841-16M/-32M：单端口以太网MAC控制器的卓越之选 在当今数字化飞速发展的时代，以太网技术在各类电子设备中扮演着至关重要的角色。KSZ8841-16M/-32M这一单端口以太网
2025-12-29 15:15:0888 英伟达、SK海力士与群联电子共同开发AI固态硬盘 日前，据报道，英伟达与韩国SK海力士共同开发新型人工智能固态硬盘，群联电子也参与开发。这款AI专用固态硬盘的效能预计将达到当前AI服务器所用
2025-12-24 10:39:13942 缺货先说说为什么会出现这种局面。三星和SK海力士从2024年底就开始减产NAND闪存,幅度还不小。SK海力士2025年NAND晶圆出货量从2024年的201万颗降
2025-12-16 14:34:16435 
Amphenol signalmate® C091 M16 Q Quicklock连接器：户外应用的理想之选 在电子设备的设计中，连接器的选择至关重要。一个合适的连接器不仅能够保证设备的稳定运行
2025-12-12 14:35:07274 在电子设备不断发展的今天，NFC/RFID技术在众多领域得到了广泛应用。M24SR16 - Y作为一款动态NFC/RFID标签IC，具有独特的特性和广泛的应用前景。本文将对M24SR16 - Y
2025-11-30 17:43:531140 
电子发烧友网综合报道，据韩媒报道，存储行业巨头SK海力士正全力攻克一项全新的性能瓶颈技术高带宽存储HBS。 SK海力士研发的这项HBS技术采用了创新的芯片堆叠方案。根据规划，该技术将通过一种名为
2025-11-14 09:11:212446 
电子发烧友网综合报道，近日，韩国首尔举行的“SK AI Summit 2025”峰会上，SK海力士CEO郭鲁正（Kwak Noh-Jung）正式宣布了公司向 “全线AI存储创造者”（Full
2025-11-08 10:49:083183 EUV（极紫外）光刻技术凭借 13.5nm 的短波长，成为 7nm 及以下节点集成电路制造的核心工艺，其光刻后形成的三维图形（如鳍片、栅极、接触孔等）尺寸通常在 5-50nm 范围，高度 50-500nm。
2025-09-20 09:16:09592 method”为题发表在Optics Express上。 全息光刻相比于主流的投影式光刻，不需要复杂的投影物镜系统，设备成本更低，比传统接近式光刻的分辨率更高，并且对掩模缺陷不敏感
2025-09-19 09:19:56443 
电子发烧友网综合报道，SK海力士宣布，已正式向客户供应其全球率先实现量产的移动端NAND闪存解决方案产品ZUFS 4.1。 SK海力士通过与客户的密切合作，于今年6月成功完成了该产品的客户验证
2025-09-19 09:00:003507 电子发烧友网报道（文 / 吴子鹏）近日，SK 海力士宣布全球率先完成第六代高带宽存储器（HBM4）的开发，并同步进入量产阶段，成为首家向英伟达等核心客户交付 HBM4 的存储厂商。 据悉，SK
2025-09-17 09:29:085963 在人工智能（AI）技术迅猛发展的当下，数据处理与存储能力成为制约其进一步飞跃的关键因素。2025 年 9 月 12 日，韩国半导体巨头 SK 海力士宣布，已成功完成面向 AI 的超高性能存储器新产品
2025-09-16 17:31:141363 加工技术，。光刻机是光刻技术的核心设备，它的性能直接决定了芯片制造的良率和成本。
光刻技术的基本原理是利用光的照射将图形转移到光致抗浊剂薄膜上。
光刻技术的关键指标的分辨率。
光刻技术的难点在于需要
2025-09-15 14:50:58
当地时间 8 月 29 日，根据美国《联邦公报》发布的通知显示，美国商务部工业与安全局（BIS）修订《出口管理条例》（EAR），将英特尔半导体（大连）有限公司（已被 SK 海力士收购，按原计划今年
2025-09-02 17:40:11655 据央视报道；在8月29日，美国商务部撤销英特尔半导体（大连）、三星中国半导体及SK海力士半导体（中国）的经验证最终用户授权。中方商务部回应称美方此举系出于一己之私；美方将出口管制工具化，将对全球半导体产业链供应链稳定产生重要不利影响，中方对此表示反对。
2025-08-31 20:44:16825 电子发烧友网综合报道 随着集成电路工艺的不断突破， 当制程节点持续向7nm及以下迈进，传统的光刻技术已难以满足高精度、高密度的制造需求，此时，波长13.5nm的极紫外（EUV）光刻技术逐渐成为支撑
2025-08-17 00:03:004219 泽攸科技ZEL304G电子束光刻机（EBL）是一款高性能、高精度的光刻设备，专为半导体晶圆的高速、高分辨率光刻需求设计。该系统采用先进的场发射电子枪，结合一体化的高速图形发生系统，确保光刻质量优异且
2025-08-15 15:14:01
Sandisk闪迪公司（NASDAQ：SNDK）正式宣布与SK海力士签署具有里程碑意义的谅解备忘录（Memorandum of Understanding，MOU），双方将携手制定高带宽闪存
2025-08-08 13:37:381847 电子发烧友网综合报道，SK海力士截至2025年6月30日的2025财年第二季度财务报告显示，公司2025财年第二季度营业收入为22.232万亿韩元，营业利润为9.2129万亿韩元，净利润为
2025-08-07 09:30:066211 总建筑面积为67518平方米，总投资额约500亿日元，投产后佳能的光刻设备产能将较2021年翻倍。该工厂将于今年9月启动最初生产，明后年补充镜头加工制造能力。 佳能宇都宫工厂不制造EUV、ArF等较为先进的光刻设备，而是聚焦i线、KrF等成熟光源
2025-08-05 10:23:382173 与成熟制程市场提供更多设备产能支持。 据介绍，这座新工厂是佳能在 2023 年开始动工建设的，并可能使用自家开发的 Nanoimprint (纳米压印) 技术，总投资额超过 500 亿日元，涵盖厂房与先进制造设备。新厂面积达 6.75 万平方公尺，投产后将使光刻设备总产能提
2025-08-04 17:39:28712 近日，SK集团旗下在锡三家ICT企业，SK海力士半导体（中国）有限公司，英普赛信息技术（无锡）有限公司，爱思开希恩希系统（北京）有限公司在旺庄街道建发社区筹建组社区党群服务中心举行SK海力士幸福未来教育成长中心2号店启动仪式。
2025-07-24 11:38:17838 激光（IR）轰击 Sn 等离子体，从而释放出 EUV 辐射，随后通过收集镜将 EUV 辐射会聚到中间焦点（IF）处。 然而，在这一过程中，冗余的红外辐射若进入曝光光学系统，将会产生热负载，对光刻系统的稳定性以及曝光图样质量造成不良影响。因此，深入研究红外辐
2025-07-22 17:20:36956 
1969年，40万名科技工作者凭借坚韧不拔的协作精神，成功完成登月计划“阿波罗11号任务”，开启了人类探索宇宙的新纪元。2003年，来自6个国家20多家研究机构的科学家，历经13年通力合作，完成了“人类基因组计划”，重塑了现代医学格局。当人类团结一心，便能够不断创造新的辉煌。
2025-07-21 15:57:13742 厚胶量产到ArF浸没式胶验证，从树脂国产化到EUV原料突破，一场静默却浩荡的技术突围战已进入深水区。 例如在248nm波长的KrF光刻胶武汉太紫微的T150A胶以120nm分辨率和93.7%的良率通过中芯国际28nm产线验证，开创了国内半导体光刻制造的新
2025-07-13 07:22:006083 SK海力士致力于成为“全方位面向AI的存储器供应商（Full Stack AI Memory Provider）”，不仅在DRAM领域持续创新，在NAND闪存（NAND Flash，以下简称NAND
2025-07-10 11:37:591508 SK海力士的成功神话背后，离不开众多核心技术的支撑，其中最令人瞩目的便是“微细工艺”。通过对肉眼难以辨识的微细电路进行更为精细化的处理，SK海力士凭借压倒性的技术实力，引领着全球半导体行业的发展。这一切的基础正源于“一个团队”协作精神（One-Team Spirit）。
2025-07-03 12:29:501593 圆进行处理，将曝光形成的光刻图案显影出来。整个流程对设备性能要求极高，需要在毫秒级的时间内完成响应，同时确保纳米级的操作精度，如此才能保证光刻工艺的准确性与稳定性，进而保障半导体器件的制造质量。 （注：图片
2025-07-03 09:14:54770 
刚接触电子设备安装那会，我总在为选对连接器犯难。曾在组装一套户外监控设备时，因选错连接器类型，设备没用多久就出现连接不稳定的问题。后来接触到惟兴科技电源连接器 5 芯 M16 接口的产品，才发现
2025-06-30 15:59:18513 的应用。 改善光刻图形线宽变化的方法 优化曝光工艺参数 曝光是决定光刻图形线宽的关键步骤。精确控制曝光剂量，可避免因曝光过度导致光刻胶过度反应，使线宽变宽；或曝光不足造成线宽变窄。采用先进的曝光设备，如极紫外（EUV）光刻机
2025-06-30 15:24:55739 
引言 在半导体制造与微纳加工领域，光刻图形的垂直度对器件的电学性能、集成密度以及可靠性有着重要影响。精准控制光刻图形垂直度是保障先进制程工艺精度的关键。本文将系统介绍改善光刻图形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13489 是 ASML 在极紫外光刻（EUV）技术基础上的革命性升级。通过将光学系统的数值孔径（NA）从 0.33 提升至 0.55，其分辨率从 13.5nm（半节距）跃升至 8nm（半节
2025-06-29 06:39:001916 HY-M8&M16动态信号测试分析系统介绍
HY-M8/16是一款西安环测自动化技术有限公司高性能数据采集分析的动态信号测试分析系统主机。系统采用LAN接口和计算机进行通讯，机箱可
2025-06-25 11:41:37
引言 在晶圆上芯片制造工艺中，光刻胶剥离是承上启下的关键环节，其效果直接影响芯片性能与良率。同时，光刻图形的精确测量是保障工艺精度的重要手段。本文将介绍适用于晶圆芯片工艺的光刻胶剥离方法，并探讨白光
2025-06-25 10:19:48815 SK海力士在巩固其面向AI的存储器领域领导地位方面，HBM1无疑发挥了决定性作用。无论是率先开发出全球首款最高性能的HBM，还是确立并保持其在面向AI的存储器市场的领先地位，这些成就的背后皆源于SK海力士秉持的“一个团队”协作精神（One Team Spirit）。
2025-06-18 15:31:021666 在 MEMS（微机电系统）制造领域，光刻工艺是决定版图中的图案能否精确 “印刷” 到硅片上的核心环节。光刻 Overlay（套刻精度），则是衡量光刻机将不同层设计图案对准精度的关键指标。光刻 Overlay 指的是芯片制造过程中，前后两次光刻工艺形成的电路图案之间的对准精度。
2025-06-18 11:30:491557 
至关重要。本文将介绍用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液，并探讨白光干涉仪在光刻图形测量中的应用。 用于 ARRAY 制程工艺的低铜腐蚀光刻胶剥离液 配方设计 低铜腐蚀光刻胶剥离液需兼顾光刻胶溶解能力与铜保护性能。其主要成分包括有机溶
2025-06-18 09:56:08693 声波振荡、等离子体处理和超临界干燥，确保掩膜板图案的完整性与光刻精度。该设备适用于EUV（极紫外光刻）、ArF（氟化氩光刻）及传统光刻工艺，支持6寸至30寸掩膜板的
2025-06-17 11:06:03
测量对工艺优化和产品质量控制至关重要。本文将探讨低含量 NMF 光刻胶剥离液及其制备方法，并介绍白光干涉仪在光刻图形测量中的应用。 低含量 NMF 光刻胶剥离液及制备方法 配方组成 低含量 NMF 光刻胶剥离液主要由低浓度 NMF、助溶剂、碱性物质、缓蚀剂
2025-06-17 10:01:01678 通过使用光掩膜和光刻胶在基板上复制流体图案的过程。基板将涂覆硅二氧化层绝缘层和光刻胶。光刻胶在被紫外光照射后可以容易地用显影剂溶解，然后在腐蚀后，流体图案将留在基板上。无尘室(Cleanroom)排除掉空间范围内空气中的微
2025-06-16 14:36:251070 引言 在半导体制造领域，光刻胶剥离工艺是关键环节，但其可能对器件性能产生负面影响。同时，光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文将探讨减少光刻胶剥离工艺影响的方法，并介绍白光
2025-06-14 09:42:56736 大家好，今天咱们来聊聊一个在工业自动化、机器人、传感器网络等领域里，看似不起眼却至关重要的“小家伙”——防水连接器8芯M16插头。它就像我们身体里的毛细血管，负责将各种控制信号、传感器数据等“血液
2025-06-09 16:46:29610 
的基础，直接决定了这些技术的发展水平。 二、显影在光刻工艺中的位置与作用 位置：显影是光刻工艺中的一个重要步骤，在曝光之后进行。 作用：其作用是将曝光产生的潜在图形，通过显影液作用显现出来。具体而言，是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127 SK海力士于5月20日至23日举办的2025年台北国际电脑展（COMPUTEX Taipei 2025，以下简称COMPUTEX）上，展示了其涵盖AI服务器、个人电脑和移动设备等多个领域的丰富
2025-06-05 14:13:561805 
SK海力士宣布，5月19日于首尔COEX麻谷会展中心举行的“第60届发明日纪念仪式”上，来自HBM开发部门的宋清基TL荣庸铜塔产业勋章。
2025-06-03 09:36:481001 引言 在半导体制造与微纳加工领域，光刻胶剥离液是光刻胶剥离环节的核心材料，其性能优劣直接影响光刻胶去除效果与基片质量。同时，精准测量光刻图形对把控工艺质量意义重大，白光干涉仪为此提供了有力的技术保障
2025-05-29 09:38:531108 
近日，SK海力士向无锡市首个应急救援驿站（山水城（雪浪街道）石塘社区）捐赠自动体外除颤仪（AED）设备，助力提升基层应急救援能力，为居民生命健康筑起坚实屏障。
2025-05-28 15:36:51761 近年来，SK海力士屡获创新成果，这些成就皆得益于“一个团队”协作精神（One Team Spirit）”。无论是创下历史最佳业绩、开发出全球领先产品，还是跃升成为全球顶级面向AI的存储器供应商，这些
2025-05-23 13:54:361014 。该产品具备全球领先的顺序读取性能与低功耗特性，专为端侧AI进行优化；产品厚度减薄15%，适用于超薄旗舰智能手机。 SK海力士表示：“为了在移动设备上实现端侧（On-device）AI的稳定运行
2025-05-23 01:04:008530 近日，SK海力士宣布，在首尔江南区韩国科学技术会馆举行的“2025年科学•信息通讯日纪念仪式”上，公司数字化转型组织的都承勇副社长荣获了科学技术信息通信部颁发的铜塔产业勋章。
2025-05-09 10:29:10969 随着极紫外光刻（EUV）技术面临光源功率和掩模缺陷挑战，X射线光刻技术凭借其固有优势，在特定领域正形成差异化竞争格局。
2025-05-09 10:08:491370 
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极
随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
增长42.5%至267.29亿美元，环比减少8.5%。 然而不可忽视的是，在2025年一季度，SK海力士凭借在HBM领域的绝对优势，终结三星长达四十多年的市场统治地位，以36.7%的市场份额首度登顶全球DRAM市场第一。 其实从2024年SK海力士与三星在DRAM上的差距就已经开始
2025-05-06 15:50:231210 
光刻图形转化软件可以将gds格式或者gerber格式等半导体通用格式的图纸转换成如bmp或者tiff格式进行掩模版加工制造，在掩膜加工领域或者无掩膜光刻领域不可或缺，在业内也被称为矢量图形光栅化软件
2025-05-02 12:42:10
光刻胶类型及特性光刻胶（Photoresist），又称光致抗蚀剂，是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和光刻胶特性。
2025-04-29 13:59:337824 
得益于AI需求的有力推动；高带宽内存(HBM)需求持续暴涨，这带动了英伟达供应商SK海力士盈利大增158%。 据SK海力士公布的财务业绩数据显示，在2025年第一季度SK海力士的营收增长42%；达到
2025-04-24 10:44:261231
三星电子在 HBM3 时期遭遇了重大挫折，将 70% 的 HBM 内存市场份额拱手送给主要竞争对手 SK 海力士，更是近年来首度让出了第一大 DRAM 原厂的宝座。这迫使三星在 HBM4 上采用
2025-04-18 10:52:53
随着人工智能技术的迅猛发展，作为其核心支撑技术的高带宽存储器（以下简称HBM）实现了显著的增长，为SK海力士在去年实创下历史最佳业绩做出了不可或缺的重要贡献。业内普遍认为，SK海力士的成长不仅体现在销售额的大幅提升上，更彰显了其在引领AI时代技术变革方面所发挥的重要作用。
2025-04-18 09:25:59992 电子发烧友网综合报道，据韩媒报道，SK海力士副总裁李圭（音译）近日在学术会议上表示，SK海力士正在推行混合键合在 HBM 上的应用。目前正处于研发阶段，预计最早将应用于HBM4E。 据介绍，目前
2025-04-17 00:05:001060 人工智能与高性能计算（HPC）正以空前的速度发展，将动态随机存取存储器（DRAM）和NAND闪存等传统存储技术发挥到极致。为了满足人工智能时代日益增长的需求，业界正在探索超越传统存储技术的新兴存储技术。
2025-04-03 09:40:411709 3 月 28 日消息，根据 SK 海力士向韩国金融监管机构 FSS 披露的文件，该企业已在当地时间今日完成了收购英特尔 NAND 闪存及 SSD 业务案的第二阶段，交易正式完成。 这笔交易
2025-03-28 19:27:581228 
剂量的需求也加剧，从而造成了生产力的瓶颈。DSA技术：一种革命性的方法DSA技术通过利用嵌段共聚物的分子行为来解决EUV光刻面临的挑战。嵌段共聚物由两个或多个化学性
2025-03-19 11:10:061259 
在现代电子设备的广泛应用中，对于能够实现多种功能集成的微控制器（MCU）的需求日益增长。爱普生S1C17M00/M10系列正是为满足这一需求而设计的高性能、低功耗的16位单片机。它们广泛应用于需要
2025-03-14 13:54:30915 
东芝电子元件及存储装置株式会社(东芝)近日在其位于日本西部兵库县姬路半导体工厂的车载功率半导体后道生产新厂房举办了竣工庆祝仪式。新厂房的产能将比2022财年的水平增加一倍以上，并将于2025财年上半年开始全面生产。
2025-03-13 18:08:161279 晶圆代工厂，于2020年9月从Magnachip Semiconductor分拆出来，并于2022年8月成为SK海力士的子公司。SK Powertech前身为Yes Power Technics，于2022年被SK Inc.收购，以其在设计和制造碳化
2025-03-10 11:15:49749 3 月 6 日消息，综合韩联社、ZDNet Korea、MK 等多家韩媒报道，SK 海力士今日在内部宣布将关闭其 CIS（CMOS 图像传感器）部门， 该团队的员工将转岗至 AI 存储器领域 。SK
2025-03-06 18:26:161078 据韩媒报道，SK海力士计划于今年3月向其位于韩国的M15X晶圆厂派遣大量工程师，为该厂投产高频宽内存（HBM）做最后准备。这一举措标志着M15X晶圆厂投产的准备工作已进入冲刺阶段，预计将于2025年第四季度正式投产。
2025-02-18 14:46:031276 据最新报道，SK 海力士为满足市场对高带宽存储器(HBM)的旺盛需求，正紧锣密鼓地为M15X晶圆厂的投产做全面准备。公司计划于今年3月向M15X工厂派遣工程师团队，以确保工厂能够顺利启动并投入生产
2025-02-18 11:16:58884 列入贸易限制名单，也对SK海力士的决策产生了影响。业内普遍预测，SK海力士将全面停止使用中国的EDA软件，而三星电子也可能紧随其后，做出类似决定。 若SK海力士与三星电子真的停用中国EDA软件，它们对美国EDA软件的依赖程度将显著增强，这将
2025-02-18 10:51:541080 据韩国媒体报道，韩国半导体行业的巨头SK海力士，为应对美国可能出台的新政策，已开始对其所使用的中国半导体电子设计自动化(EDA)软件进行紧急审查。这一举措反映了全球半导体产业在地缘政治紧张局势下
2025-02-18 09:47:04831 EUV光刻有多强？目前来看，没有EUV光刻，业界就无法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻机也是历史上最复杂、最昂贵的机器之一。 EUV光刻有哪些瓶颈？ EUV光刻技术，存在很多难点。 1.1
2025-02-18 09:31:242257 
光刻技术对芯片制造至关重要，但传统紫外光刻受衍射限制，摩尔定律面临挑战。为突破瓶颈，下一代光刻（NGL）技术应运而生。本文将介绍纳米压印技术（NIL）的原理、发展、应用及设备，并探讨其在半导体制造中
2025-02-13 10:03:503709 
据外媒最新报道，为了应对NAND闪存市场的供应过剩问题，三星电子与SK海力士两大半导体巨头已悄然采取措施，通过工艺转换实现“自然减产”。 据业内消息透露，自去年年底以来，三星电子和SK海力士正积极
2025-02-12 10:38:13857 SK 海力士近日正式公布了截至2024年12月31日的2024财年及第四季度财务报告，数据显示，该公司在过去一年中取得了令人瞩目的业绩。 2024年全年，SK 海力士营收达到了661929亿韩元(约
2025-02-08 16:22:381660 半导体设备光刻机防震基座的安装涉及多个关键步骤和考虑因素，以确保光刻机的稳定运行和产品质量。首先，选择合适的防震基座需要考虑适应工作环境。由于半导体设备通常在洁净的环境下运行，因此选择的搬运工具如
2025-02-05 16:48:451240 
光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍，包括原理和具体步骤。 光刻原理 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻
2025-01-28 16:36:003591 
近日，SK海力士发布了其截至2024年12月31日的2024财年及第四季度财务报告，业绩表现出色。 数据显示，SK海力士在2024年全年营收达到了661929亿韩元(当前约合3346.71亿元
2025-01-24 14:00:261054 挑战传统，打破限制，勇攀高峰，打破常规者们在寻求开创性解决方案的过程中重塑规则。继SK海力士品牌短片《谁是打破常规者》播出后，将推出一系列文章，展示公司在重塑技术、重新定义行业标准方面采取的各种“打破常规”的创新举措。本系列第七篇文章将深入探讨SK海力士在CXL技术领域的研发进展。
2025-01-24 10:25:271219 
SK海力士近日发布了截至2024年12月31日的2024财年及第四季度财务报告，数据显示公司再创佳绩。2024财年，SK海力士的营业收入高达66.1930万亿韩元，营业利润达到23.4673万亿韩元，净利润更是攀升至19.7969万亿韩元，这一成绩刷新了公司历史上的最佳年度业绩记录。
2025-01-23 15:49:102056 数值孔径 EUV 光刻中的微型化挑战 晶体管不断小型化，缩小至 3 纳米及以下，这需要完美的执行和制造。在整个 21 世纪，这种令人难以置信的缩小趋势（从 90 纳米到 7 纳米及更小）开创了技术进步的新时代。 在过去十年中，我们见证了将50
2025-01-22 14:06:531153 
近日，据最新业界消息，台积电计划在南科三期再建两座CoWoS新厂，预计投资金额将超过2000亿元新台币。这一举措不仅彰显了台积电在先进封装技术领域的持续投入，也对其近期CoWoS砍单传闻做出了实际扩
2025-01-21 13:43:39875 产品价格。 继美光和三星宣布减产计划后，全球第二大NAND Flash厂商SK海力士也宣布了减产决定。据悉，SK海力士计划将上半年NAND Flash存储器的产量削减10%。这一决定无疑将对市场产生深远影响。 根据机构先前发布的报告，SK海力士在NAND Flash存储器领
2025-01-20 14:43:551095 本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻机包括芯片光刻机和面板光刻机。面板光刻机的工作原理和芯片光刻机相似
2025-01-16 09:29:456357 
在Hot Chips 2024上，海力士专注于AI加速器的标准DRAM之外的产品。该公司展示了其在内存计算方面的最新进展，这次是用其AiMX-xPU和LPDDR-AiM进行LLM推理。其理念是，无需
2025-01-09 16:08:041322 
芯片制造、价值1.5亿美元的极紫外（EUV，https://spectrum.ieee.org/tag/euv）光刻扫描
2025-01-09 11:31:181280 SK海力士今年计划大幅提升其高带宽内存（HBM）的DRAM产能，目标是将每月产能从去年的10万片增加至17万片，这一增幅达到了70%。此举被视为该公司对除最大客户英伟达外，其他领先人工智能（AI）芯片公司需求激增的积极回应。
2025-01-07 16:39:091306 SK海力士重返拉斯维加斯，参加2025年国际消费类电子产品展览会（Consumer Electronics Show，以下简称“CES”），并展示其颠覆行业的面向人工智能的存储创新技术。CES 2025于1月7日至10日举行，汇聚了全球领先科技公司的顶尖人才与突破性技术，共同引领未来科技的发展潮流。
2025-01-07 16:20:461440 泊苏 Type C 系列防震基座在半导体光刻加工电子束光刻设备的应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、企业背景与光刻加工电子束光刻设备挑战某大型半导体制造企业专注于高端芯片的研发与生产
2025-01-07 15:13:21
纳米级别的分辨率。本文将详细介绍光刻机的主要组成部分及其功能。 光源系统 光源系统是光刻机的心脏，负责提供曝光所需的能量。早期的光刻机使用汞灯作为光源，但随着技术的进步，目前多采用深紫外（DUV）或极紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
的专题演讲外，有传闻称黄仁勋还将与SK集团的会长崔泰源进行一场视频对谈。这场对谈预计将聚焦于高频宽记忆体(HBM)的最新发展，特别是英伟达与SK海力士在新一代HBM4方面的合作。据媒体报道，去年11月崔泰源曾透露，英伟达已要求SK海力士提前半年出货新一代
2025-01-06 13:54:105989
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