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光刻胶又遇“卡脖子”，国产替代刻不容缓
- 半导体(200952)
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芯片制造工艺：光学光刻-掩膜、光刻胶
制造集成电路的大多数工艺区域要求100级（空气中每立方米内直径大于等于0.5μm的尘埃粒子总数不超过约3500）洁净室，在光刻区域，洁净室要求10级或更高。
2024-03-20 12:36:00
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关于光刻胶的关键参数介绍
与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶则保留下来，从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50193
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使用国产贴片电感替代国外品牌有哪些优势
使用国产贴片电感替代国外品牌有哪些优势 编辑：谷景电子 不同品牌电感的兼容替代一直都是比较受关注的一个话题，特别是最近几年在很多行业使用国产电感替代国外品牌电感，更是体现了需求之大。不久前
2024-03-08 15:51:1072
72浅谈不同阶段光刻机工作方式
在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层损坏、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788
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一文解析半导体设计电路的“光刻工艺”
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。
2024-03-06 14:28:5062
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PCM1750U-DUAL CMOS 18 BIT这款数模转换芯片有国产替代吗？
PCM1750U-DUAL CMOS 18 BIT这款数模转换芯片有国产替代吗？国产替代是否会涉及专利权或者知识产权问题？
2024-03-05 18:46:33
基于SEM的电子束光刻技术开发及研究
电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻胶（抗蚀剂）表面绘制形成与设计图形相符的微纳结构。
2024-03-04 10:19:28206
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MABA-007159-000000的PINTOPIN国产替代 CH-BMA-7159-MA PDF资料
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2024-02-27 10:58:49
瑞红集成电路高端光刻胶总部落户吴中
据吴中发布的最新消息，签约项目涵盖了瑞红集成电路高端光刻胶总部项目，该项投资高达15亿元，旨在新建半导体光刻胶及其配套试剂的生产基地。
2024-01-26 09:18:43207
207国产数字隔离器实现进口替代：关键点深度分析
本文将深入分析国产数字隔离器实现进口替代的关键点，探讨其在技术、经济和市场等方面的优势，为推动国产数字隔离器更好地替代进口产品提供深入思考。
2024-01-19 16:40:02170
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2023年中国光刻胶行业市场前景及投资研究报告
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，是半导体制造中使用的核心电子材料之一。伴随着晶圆制造规模持续提升，中国有望承接半导体
2024-01-19 08:31:24340
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中国工业软件产业发展的十个误区
对于工业软件，多数人一直忽略了一个核心问题：我们真的需要做出大鳄们一样厉害的软件么？我们经常讲对标，到底应该对什么标？现在每天讲突破“卡脖子”困局，讲国产替代，于是，就想当然地对标国际先进软件。
2024-01-14 09:29:56431
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光刻胶分类与市场结构
光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21346
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国产工控主板：开创替代发展新篇章
在当今全球化的背景下，国产化替代正逐渐成为国家发展的重要战略。在技术领域中，国产化替代的核心任务之一是推动国产工控主板的发展和替代进口产品。本文将探讨国产化替代的重要意义，并分析国产工控主板国产
2024-01-02 15:33:12204
204全球光刻胶市场预计收入下滑，2024年有望反弹
所谓的“光刻胶”，即是在紫外线、电子束等辐射下，其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素，广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。其品种繁多，此次涨价涉及的KrF 光刻胶则属高级别光刻胶，将成为各厂商关注的焦点。
2023-12-28 11:14:34379
379光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图
光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中，k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度，ASML认为其物理极限在0.25，k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326
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匀胶速度影响光刻胶的哪些性质？
匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？
2023-12-15 09:35:56442
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光刻胶价格上涨，韩国半导体公司压力增大
光刻胶类别的多样化，此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品，也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中，光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36408
408万润股份在半导体制造材料领域稳步推进，涉足光刻胶单体、PI等业务
近期，万润股份在接受机构调研时透露，其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。
2023-12-12 14:02:58328
328半导体制造之光刻工艺讲解
光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241334
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金升阳国产医疗电源有哪些亮点
我国作为人口大国，人均医疗资源相较于发达国家仍有不足，医疗健康产业还有很大提升空间。卡脖子的现象在医疗器械中十分明显，这也是医疗产业重点需要解决的。“国产化”便是有效的解决方案。
2023-12-01 09:45:10269
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韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶助力3D NAND闪存制造
据报道，韩国SK集团于2020年斥资400亿韩元收购当地锦湖石化的电子材料业务，收购后成立的新子公司SK Materials Performance（SKMP）已开发出一种高厚度KrF光刻胶，并通过了SK海力士的性能验证，这将有利于SK海力士3D NAND闪存的技术开发。
2023-11-29 17:01:56433
433光刻胶国内市场及国产化率详解
KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻的光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50283
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韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶，可助力3D NAND闪存制造
据悉，skmp开发的新型KrF光刻胶的厚度为14至15米，与东进半导体（DONGJIN SEMICHEM）向三星提供的产品相似。日本jsr公司的类似产品厚度只有10微米。
2023-11-29 10:02:52258
258不仅需要***，更需要光刻胶
为了生产高纯度、高质量的光刻胶，需要高纯度的配方原料，例如光刻树脂，溶剂PGMEA…此外，生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如，2019年，某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染，导致上万片12吋晶圆报废
2023-11-27 17:15:48550
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西陇科学9天8板，回应称“未生产、销售光刻胶”
20日，西陇科学（株）发布公告称，该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶，占公司营业收入的比例，是目前用于上述用途的光刻胶配套。
2023-11-21 14:54:57315
315光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？
光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11570
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关于数字处理技术部分的路线图介绍
EUV 超薄 （≤10nm）尺度的光刻胶：随着特征尺寸的缩小，光刻胶分子成分成为特征尺寸的一部分。构成光刻胶的分子必须是单组分、小的构建块，以防止聚集和分离。新的设计结构将需要超薄光刻胶和底层组合。
2023-11-06 11:23:15402
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晶瑞电材子公司引入战投中石化资本，定增募资8.5亿元加码光刻胶项目
股，募集资金人民币850,000,002.24元，用于瑞红苏州先进制程工艺半导体光刻胶及配套试剂业务的研发、采购、生产和销售及相关投资。
2023-11-02 10:59:26555
555半导体关键材料光刻胶市场格局发展现状
生产光刻胶的原料包括光引发剂（光增感剂、光致产酸剂帮助其更好发挥作用）、树脂、溶剂和其他添加剂等，我国由于资金和技术的差距，如感光剂、树脂等被外企垄断，所以光刻胶自给能力不足。
2023-11-01 15:51:48138
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半导体制造领域光刻胶的作用和意义
光刻是半导体加工中最重要的工艺之一，决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%，占其总成本的30%。光刻胶是光刻环节关键耗材，其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。
2023-10-26 15:10:24359
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具有独特底部轮廓的剥离光刻胶的开发
金属图案的剥离方法已广泛应用于各种电子器件的制造过程中，如半导体封装、MEMS和LED的制造。与传统的金属刻蚀方法不同的是，采用剥离法的优点是节省成本和工艺简化。在剥离过程中，经过涂层、曝光和开发过程后，光刻胶会在晶片上形成图案。
2023-10-25 10:40:05185
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光学光刻技术有哪些分类 光刻技术的原理
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271
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副边反激控制器 5L0380R 有国产替代吗？
客户做小功率电源，目前有一款副边反激控制器型号 5L0380R目前价格处于高位，客户为了降本增效考虑国产替代，具体参数详见附件，望各位大神不另赐教！
*附件：ON-KA5L0380R.pdf
2023-10-23 17:21:16
光刻区为什么选黄光灯？为什么不使用红光或绿光？
黄光的波长远离UV范围，因此不会引起光刻胶的意外曝光。黄光灯通常不含有紫外线，从而保护光敏材料免受不必要的曝光。
2023-10-11 15:14:33746
746龙芯中科携手百代存储打造基于龙架构的新一代国产统一存储解决方案
为解决国产化存储的"卡脖子"问题，满足数据存储自主可控的核心需求，龙芯中科技术股份有限公司联合百代（上海）数据技术有限公司（以下简称“百代存储”）打造基于龙架构的新一代国产统一存储解决方案。
2023-10-09 14:49:36423
423半导体制造之光刻原理、工艺流程
光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应，经曝光、显影等光刻工艺，将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2023-10-09 14:34:491674
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EUV光刻胶开发面临哪些挑战？
EUV光刻胶材料是光敏物质，当受到EUV光子照射时会发生化学变化。这些材料在解决半导体制造中的各种挑战方面发挥着关键作用，包括提高灵敏度、控制分辨率、减少线边缘粗糙度（LER）、降低释气和提高热稳定性。
2023-09-11 11:58:42349
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华为新型5G芯片是否突破卡脖子问题
华为 Mate 60 Pro 的发售引起了人们对其搭载处理器的关注，而根据专业人士对新款手机的拆解结果显示，该手机搭载了麒麟9000s处理器，这个“新型”处理器是否意味着华为芯片“卡脖子”的问题得到解决呢？
2023-09-06 14:44:031695
1695华为突破技术封锁，自主研发芯片，是否意味着卡脖子问题得到解决？
“卡脖子”的问题已经得到突破？ 北京邮电大学教授、中国信息经济学会常务副理事长吕廷杰表示从目前国内外各个机构对华为新手机的拆解来看，它的麒麟9000s芯片，包括其它10000多种部件，应该说基本实现了国产化。如果真的全部实现国产化
2023-09-06 10:12:481664
1664# 中国北斗，没有被卡脖子？
规模化、国产化替代。并且依托深圳这样一个外向型经济的全国桥头堡，实现了自主导航定位芯片的出口，真正推动了我们自主的北斗走向全球，践行了“中国的北斗，世界的北斗”的国家发展目标。
02 小型化和低功耗
2023-09-04 14:43:44
加速流体仿真软件国产化替代进程，积鼎亮相第19届CAE年会
仿真领域的成绩。 积鼎科技受邀,基于“积鼎自研CFD软件的成果和应用”作特邀报告。“积鼎专注于打造好用、易用的国产流体仿真软件,着重解决2个突出问题,一是,国内流体仿真技术卡脖子问题;其次是,软件的正版化问题。积鼎经过10多年的沉淀,对标国外垄断
2023-09-01 15:32:30402
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又一卡脖子技术突破！国内首条MEMS芯片原子钟产线落成投产！
在芯片原子钟领域打破国外垄断，突破关键器件“卡脖子”问题，满足国内该技术产品在相关领域的迫切需求。 芯片原子钟属于电子信息技术中时间频率技术领域的核心基础器件，是使用微机电系统（MEMS）技术制造的紧凑型低功耗原子钟
2023-08-23 21:08:55520
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年产千吨电子级光刻胶原材料，微芯新材生产基地签约湖州
湖州国资消息，宁波微芯新材料科技有限公司的半导体材料生产基地项目总投资3.5亿元人民币，用地35亩，年产1000吨的电子级光刻胶原材料（光刻胶树脂、高等级单体等核心材料）基地建设。”全部达到，预计年产值可达到约5亿元。
2023-08-21 11:18:26942
942光刻胶产业大会在邳举行，上达电子等与会！
会上，经开区分别同4家企业就功率器件IC封测项目、超级功率电池及锂电池PACK产线项目、氢能产业集群项目、高性能电池项目进项现场签约。会议还举行了《2023势银光刻胶产业发展蓝皮书》发布仪式。
2023-08-16 15:30:38483
483英伟达a100有国产替代吗？
英伟达a100有国产替代吗？ 目前尚未出现明确可替代英伟达A100的国产产品，但中国国内的企业正在积极推进相关领域的研发和生产。例如，中国科技巨头华为正在开发自主研发的AI芯片，其已发布的昇腾910
2023-08-08 15:37:123468
3468光刻技术概述及其分类
光刻是一种图像复制技术，是集成电路工艺中至关重要的一项工艺。简单地说，光刻类似照相复制方法，即将掩膜版上的图形精确地复制到涂在硅片表面的光刻胶或其他掩蔽膜上面，然后在光刻胶或其他掩蔽膜的保护下对硅片进行离子注入、刻蚀、金属蒸镀等。
2023-08-07 17:52:531480
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中国军工测试连接器国产化，突破“卡脖子”难题
高新技术企业也一直在追求技术创新和突破。 现如今，我国的军工业迅速崛起，涌现了一批优秀的国产品牌，破解了国外“卡脖子”的难题。 就拿腾方中科自主研发的断连块来讲，一种信号通断利器，此前一直被美国史陶比尔和瑞士垄
2023-08-02 17:12:34474
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深圳重磅发文！为传感器装上鸿蒙系统，剑指这个万亿市场！
7月28日下午，深圳工信局最新发文，推出3年行动计划，引导、推动开源鸿蒙、欧拉产业的发展。 操作系统是我国关键“卡脖子”技术之一，但推动国产系统鸿蒙欧拉的崛起，据相关分析，不止是为了手机
2023-08-01 08:45:44508
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御芯微荣获2023国产化替代品大赛先锋奖
近日，备受瞩目的2023国产化替代品大赛圆满落幕。御芯微以自主研发产品测温传感通信一体化芯片UC8288和模组UCM200系列斩获“国产化替代产品先锋奖”。这是对御芯微不懈努力和持续创新的肯定，也是
2023-07-31 23:04:06442
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清华大学尹首一：《以架构创新，突破算力“卡脖子”问题》的主题演讲
但现在的客观情况是国家算力供给面临着严重的“卡脖子”问题，即美国限制高算力芯片对华出口，而且可能进一步收紧出口限制。归根结底其动机要限制中国得高算力芯片、数字经济和人工智能等方面的发展。
2023-07-17 16:38:57502
502针对集成电路等核心技术“卡脖子”问题，集中力量开展科研攻关
芯视界 来源：全球半导体观察 7月12日，教育部部长怀进鹏在全国高校科技创新暨优秀科研成果奖表彰大会上表示，将针对核心技术“卡脖子”问题，加强组织科研攻关。 怀进鹏指出，教育部将围绕集成电路、工业母机、仪器仪表、生物医
2023-07-17 13:06:20434
434破解国产传感器的卡脖子问题，为什么需要领头羊企业？
近年来，要加快科技自立自强步伐，解决外国“卡脖子”问题。以成为中国高科技产业重要问题。卡脖子看上去是一个技术节点，是一个孤立问题。但实际上，卡脖子是由于系统性失灵所造成的，它涉及到多家供应商
2023-07-11 08:39:01730
730光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪
光刻胶（光敏胶）进行光刻，将图形信息转移到基片上，从而实现微细结构的制造。光刻机的工作原理是利用光学系统将光线聚焦到光刻胶上，通过掩膜版（也称为光刻掩膜）上的图形
2023-07-07 11:46:07
光刻胶国内头部企业阜阳欣奕华完成超5亿元D轮融资
来源：欣奕华材料 据欣奕华材料官微消息，近日，国内光刻胶龙头企业阜阳欣奕华材料科技有限公司（以下简称“阜阳欣奕华”）完成超5亿元人民币 D 轮融资。 据悉，本轮融资由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552
552院士撰文：我国海洋监测仪器仍在“卡脖子”
卷。 海洋监测仪器装备是关心海洋、认识海洋、经略海洋的基础保障和重要前提，虽然我国海洋监测仪器装备技术水平与业务化应用近年来进步显著，但相比海洋发达国家仍在“卡脖子”技术、关键设备研制方面存在一定差距。 本文从全球海洋立
2023-06-13 09:35:07336
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知识分享---光刻模块标准步骤
通常，光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的，其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进行表征，以确保模块末端剩余的抗蚀剂是掩模的最佳图像，并具有所需的侧壁轮廓。
2023-06-02 16:30:25418
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这个传感器100%靠进口，为什么中国造不出来？这才是被卡脖子最严重的地方！
CTD 传感器产品, 短期内又无法获得相应的替代仪器, 严重影响了产品应用,“卡脖子”之痛油然而生。 据2020年由传感器国家工程研究中心等四个行业核心机构，联合发布的权威报告《中国传感器发展蓝皮书》，特别写到中国高端传感器的应用市场几乎被国外垄断，
2023-06-02 08:39:22686
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光刻胶产业天价离婚案！分割市值高达140亿元
来源：每日经济新闻，记者：程雅 编辑：张海妮，谢谢 编辑：感知芯视界 5月24日晚，国产光刻胶大厂彤程新材发布公告称，于近日收到实控人Zhang Ning与Liu Dong Sheng的通知，二人
2023-05-29 09:33:44187
187化学放大型光刻胶的作用原理
感光速度:即光刻胶受光照射发生溶解速度改变所需的最小能量，感光速度越快，单位时间内芯片制造的产出越高，经济效益越好，另-方面，过快的感光速度会对引起工艺宽容度的减小，影响工艺制程的稳定性。
2023-05-25 09:46:09561
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采用光刻胶牺牲层技术改善薄膜电路制备工艺
改善之后的工艺与之前最大的区别在于使用光刻胶充当溅射的掩膜，在电镀之前将电路图形高精度的制备出来，不再进行湿法刻蚀，避免了侧腐蚀对线条精度和膜基结合力的影响，同时，基板只浸入丙酮中一次以去除光刻胶，避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218
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专家称***只占20%芯片制造：并非最重要的
不仅是国内的网友这么认为，唯光刻机论在海外也很有市场，似乎大部分网友都是这样想的，已经到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就会强调光刻机会卡脖子，而有了光刻机，台积电这样的公司就能随便复制一样。
2023-05-15 11:10:271112
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全面解读光刻胶工艺制造流程
光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。
2023-05-11 16:10:492775
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2023年中国***现状
2023年中国光刻机现状是什么样的呢？自从2018年以来，我国开始被美国各种手段制裁，光刻机被卡脖子，美国不让荷兰卖先进的光刻机给我们，这也让这些年来无数国人关注光刻机的研发进度。
2023-05-10 16:24:1521220
21220EUV光刻的无名英雄
晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小，底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25:00689
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光刻技术的种类介绍
根据维基百科的定义，光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
2023-04-25 11:11:331243
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光刻技术的详细工序
清洗硅片（Wafer Clean）
清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷，提高光刻胶黏附性
基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403858
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光刻技术的原理及发展前景分析
光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-04-25 11:05:322260
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*** 激光雷达 传感器等35项卡脖子的技术经过5年发展之后进展如何
2018年，我国中央科技新闻媒体《科技日报》发表了系列文章，报道制约我国工业发展的35项“卡脖子”的关键技术， 其中包括芯片、传感器、光刻机、激光雷达等关键技术 。引起了广泛关注与讨论。 如今
2023-04-19 14:54:388817
8817浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战
新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发，必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战，imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164
1164高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺
此前该公司指出，公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线，具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力，目前公司送样验证的产品均由该自建产线产出。
2023-04-11 09:25:32920
920LEM HLSR系列电流传感器国产替代介绍：芯森电子AN3V系列
、售后等多方面原因，传感器市场出现被外企“卡脖子”现象，涨价、缺芯、无货等状况频出。为此，国内众企业开始响应“国产替代”号召，力图打破传感器国外垄断。 芯森电子AN3V系列霍尔电流传感器，就是响应“国产替代”的产品。此产品可原位替代
2023-04-04 13:17:301195
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ACS758/ACS770系列电流传感器国产替代介绍：芯森电子AN1V系列
。 但由于国际形式及价格、售后等多方面原因，传感器市场出现被外企“卡脖子”现象，涨价、缺芯、无货等状况频出。为此，国内众企业开始响应“国产替代”号召，力图打破传感器国外垄断。 芯森电子AN1V系列霍尔电流传感器，就是响应“国产替代”的产品。此产品
2023-04-03 13:38:11571
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金航标kinghelm萨科微Slkor总经理宋仕强：“国产替代”恰逢其时
实现“自主可控”非常重要，突破欧美的卡脖子。我国在高端的半导体集成电路、工业软件、高端机床装备、电脑操作系统、集成电路架构IP核、EDA软件等高新技术领域的国产替代战略，是要长期投入长期坚持的。金航标电子萨科微半导体都属于这一轮
2023-03-25 14:32:52315
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被卡脖子的半导体设备（万字深度报告）
光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上，通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术。光刻工艺包括三个核心流程：涂胶、对准和曝光以及光刻胶显影，整个过程涉及光刻机，涂胶显影机、量测设备以及清洗设备等多种核心设备，其中价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。
2023-03-25 09:32:394950
4950被卡脖子的半导体材料（万字深度报告）
根据SEMI数据，2020年全球晶圆制造材料中，硅片占比最高，为35%；电子气体排名第2，占比13%；掩膜版排名第3，占比12%，光刻胶占比6%；光刻胶配套材料占比8% ；湿电子化学品占比7%；CMP抛光材料占比6%；靶材占比2%。
2023-03-25 09:30:544119
4119日韩半导体“冰释前嫌”，光刻胶供应链进入新牌局
芯片产业产能过剩：韩国统计厅发布的数据显示，1月韩国芯片制造商的芯片库存与销售比达到265.7%，创下26年来的最高值。如果上游材料持续被日本卡脖子，韩国芯片产业的日子就更难过了。
2023-03-23 09:32:58977
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工商网监
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