电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。而众所周知，EUV光刻机产能有限而且成本高昂，业界一直都在探索不完全依赖于EUV光刻机来生产高端芯片的技术和工艺。纳米
2024-03-09 00:15:00
2911 电子发烧友网报道（文/李弯弯）近期，各大视频平台疯传一条消息，称清华大学EUV项目，把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地，还在视频中配了下面这张图，表示图片
2023-09-20 08:56:502576 
电子发烧友网报道（文/李宁远）提及芯片制造技术，首先想到的自然是光刻机和光刻技术。众所周知在芯片行业，光刻是芯片制造过程中最重要、最繁琐、最具挑战也最昂贵的一项工艺步骤。在光刻机的支持下，摩尔定律
2023-07-16 01:50:153008 
联想入股中科慧灵机器人公司 日前联想入股中科慧灵机器人公司，北京中科慧灵机器人技术有限公司成立于2023年8月，是一家面向智能机器人、人工智能服务的企业，联想的入股或是在加大对智能机器人的布局。
2024-03-21 16:46:34248 光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近式光刻机发展到浸没步进式投影光刻机和极紫外式光刻机。
2024-03-21 11:31:4142 
与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影过程中溶解，而曝光的光刻胶则保留下来，从而形成负像。
2024-03-20 11:36:50193 
3 月 13 日消息，光刻机制造商 ASML 宣布其首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。 ▲ ASML 在 X 平台上的相关动态
2024-03-14 08:42:345 
刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似，先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜，再将掩膜与待加工物料模组装好，将样品置于刻蚀室内，通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域刻蚀掉，以得到所需的凹槽和沟槽。
2024-03-11 15:38:24460 
据荷兰《电讯报》3月6日报道，因荷兰政府的反移民政策倾向，光刻机巨头阿斯麦（ASML）正计划搬离荷兰。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光过程中，掩模版与涂覆有光刻胶的硅片直接接触。接触式光刻机的缩放比为1:1，分辨率可达到4-5微米。由于掩模和光刻胶膜层反复接触和分离，随着曝光次数的增加，会引起掩模版和光刻胶膜层损坏、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻机巨头ASML传出可能因荷兰政府的反移民政策倾向而考虑迁离本国的消息，这令业界哗然。据悉，荷兰政府为阻止这一可能发生的变故，已专门成立了由首相马克·吕特亲自挂帅的“贝多芬计划”特别工作组。
2024-03-07 15:36:51209 来源：半导体行业联盟，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 3月3日消息，华为哈勃投资事件数量开始回落，2023 年仅在投资市场上出手 9 次，同比大降62.5%，基本与其成立之初持平。 哈勃投资
2024-03-07 09:32:12227 英特尔最近因决定从荷兰 ASML 购买世界上第一台高数值孔径(High-NA)光刻机而成为新闻焦点。到目前为止，英特尔是全球唯一一家订购此类光刻机的晶圆厂，据报道它们的售价约为3.8亿美元
2024-03-06 14:49:01162 
利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
ASML在半导体产业中扮演着举足轻重的角色，其光刻机技术和市场地位对于全球半导体制造厂商来说都具有重要意义。
2024-03-05 11:26:00123 光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 根据资料显示，在2012年，为了支持ASML EUV光刻机的研发与商用，并获得EUV光刻机的优先供应，在2012年，英特尔、台积电、三星均斥资入股了ASML。2012年7月，英特尔入股ASML获得15%股权，并出资10亿美元支持研发。
2024-02-23 17:27:59562 来源：DIGITIMES ASIA 佳能预计其纳米压印光刻机将于今年出货，与ASML的EVU设备竞争市场，因为世界各地的经济体都热衷于扩大其本土芯片产能。 佳能董事长兼首席执行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37:24359 
来源：AIot工业检测，谢谢 编辑：感知芯视界 Link 随着芯片需求的不断增长，芯片制造商正加大采购晶圆厂设备的力度，以提高产能。作为EUV光刻机制造商，ASML受益于这一趋势，其2023
2024-01-26 09:20:12409 珠三角地区做摄像机、高速球、数码矩阵、网络摄像机、平安城市的安防企业支撑的，但是深圳的安防企业方阵在与杭州的安防企业集群PK中败下阵来了，市场被杭州的海康威视、大华、红苹果这些给吃掉了，市场和企业都没有了
2024-01-23 14:49:46
太平洋安防市场原来生意很旺，安防市场是由珠三角地区做摄像机、高速球、数码矩阵、网络摄像机、平安城市的安防企业支撑的，但是深圳的安防企业方阵在与杭州的安防企业集群PK中败下阵来了，市场被杭州的海康威视
2024-01-23 09:51:28
关于光刻机，大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗？来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性不断提升，人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂，不仅仅涉及到底层的架构设计，还需要通过
2024-01-17 17:56:59292 光刻胶主要下游应用包括：显示屏制造、印刷电路板生产、半导体制造等，其中显示屏是光刻胶最大的下游应用，占比30%。光刻胶在半导体制造应用占比24%，是第三达应用场景。
2024-01-03 18:12:21346 
在10-11月份中国进口ASML的光刻机激增10多倍后，美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示，出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 声明：2050 及2100 光刻机出口许可证已被部分撤销 ASML日前发表声明，称荷兰政府最近部分撤销了此前颁发的NXT:2050i and NXT:2100i光刻机在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我们假设光刻机成本为 3.5 亿至 4 亿美元，并且 2024 年 10 个光刻机的HIGH NA 销售额将在 35亿至40亿美元之间。
2023-12-28 11:31:39406 光刻与光刻机
➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。
➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。
光刻机结构及工作原理
➢光刻机简介
➢光刻机结构及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
欢迎了解 光刻机（Lithography Machine）是一种半导体工业中常用的设备，用于将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上，是IC制造的核心环节，光刻机的基本工作原理是利用光学原理将图案投射
2023-12-18 08:42:12278 
匀胶是光刻中比较重要的一步，而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数，那么我们在匀胶时，是如何确定匀胶速度呢？它影响光刻胶的哪些性质？
2023-12-15 09:35:56442 
光学模型是基于霍普金斯（Hopkins）光学成像理论，预先计算出透射相交系数（TCCs），从而描述光刻机的光学成像。光学模型中，经过优化的光源，通过光刻机的照明系统，照射在掩模上。如果在实际光刻
2023-12-11 11:35:32288 
光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241334 
雕刻电路图案的核心制造设备是光刻机，它的精度决定了制程的精度。光刻机的运作原理是先把设计好的芯片图案印在掩膜上，用激光穿过掩膜和光学镜片，将芯片图案曝光在带有光刻胶涂层的硅片上，涂层被激光照到之处则溶解，没有被照到之处保持不变，掩膜上的图案就被雕刻到芯片光刻胶涂层上。
2023-11-24 12:27:061280 
就国别来看，来自荷兰的进口额暴涨了超过6倍。预估其中大部分为荷兰光刻机龙头艾ASML的光刻机产品。来自日本的半导体设备进口额成长约40%、来自美国的进口额则仅增长20%。
2023-11-22 17:09:02419 EUV曝光是先进制程芯片制造中最重要的部分，占据总时间、总成本的一半以上。由于这种光刻机极为复杂，因此ASML每年只能制造约60台，而全球5家芯片制造商都依赖ASML的EUV光刻机，包括英特尔、美光、三星、SK海力士、台积电。目前，AMSL约有70%的EUV光刻机被台积电购买。
2023-11-22 16:46:56383 光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻胶算高黏度，哪些算低黏度呢？
2023-11-13 18:14:11570 
1. 尼康将推出成熟制程光刻机，积极开拓中国市场 目前在全球光刻机市场中，荷兰ASML掌握62%的市场份额排名第一，佳能排名第二，占比31%。尼康排在第三位，占比仅7%，明显落后。不过尼康近期
2023-11-09 11:17:29283 目前，俄罗斯虽然拥有利用外国制造设备的65纳米技术，但不能生产光刻机。在现代光刻设备的情况下，外国企业被禁止出口之后，俄罗斯正在忙于自身的生产设备开发。
2023-11-06 11:38:55473 2020年时，ASML总裁还声称中国即使拿到设计图纸也无法自制光刻机。但2021年开始，其态度出现变化，承认中国有可能独立制造光刻机系统。2022年甚至主动表示要继续向中国出售光刻机。2023年上半年，ASML开始大量向中国倾销光刻机。
2023-10-30 16:18:101124 光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271 
当制程节点演进到5nm时，DUV和多重曝光技术的组合也难以满足量产需求了，EUV光刻机就成为前道工序的必需品了，没有它，很难制造出符合应用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整个生产线的良率也非常低，无法形成大规模的商业化生产。
2023-10-13 14:45:03834 
水平。 美光的1γ节点 在今年五月，美光宣布将在日本引入EUV光刻机，用于开发下一代DRAM，基于最先进的1γ节点。此消息一出，美光也就成为第一个为日本引入EUV光刻机的企业，美光计划在未来几年内，为位于广岛的设施投资5000亿日元持续
2023-10-10 01:13:001437 SMT镭雕机_自动在线激光刻印_全自动翻板镭雕机PCB在线激光镭雕机，选用国际领先工业级激光器，加工速度快，使用寿命长， 可刻印汉字，英文、数字、图表、流水号、LOGO、条形码、二维码等内容
2023-09-23 10:16:45
九月，华为新一代旗舰手机正式亮相市场，华为产业链火热不断。作为与电感变压器企业息息相关的终端客户，华为的动向给行业又带来了哪些影响?
2023-09-20 10:17:21634 UV光刻机一般可以分为5种，即：接触式光刻机，接近式光刻机，扫描投影式光刻机
2023-09-19 11:32:521303 
8 月 28 日，由华为云与生态伙伴联合发起的“828 B2B 企业节”即将开幕，在这个以数字化转型为主题的盛会上，华为云会携手行业合作伙伴将以全新的形式为中小企业提供一个高效、便捷的在线沟通平台
2023-09-12 23:18:22162 在芯片制造过程中，光刻机用于在硅片上形成光刻胶图形，作为制造电路的模板。光刻机使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻胶，并通过投影光学系统将图形投射到硅片上，以形成所需的微小结构和图案。
2023-09-12 14:34:372324 早在2015年，中国的长春光机所就成功研发出了EUV（极紫外光刻）光刻机的高精度弧形反射镜系统。这个系统的多层层镀膜面形误差小于0.1纳米，达到了EUV级光刻机的标准。这个成就在国际上已经堪称顶尖水平。
2023-09-11 17:16:489826 运动平台如双XY桥台、双驱动龙门台、空流平台等。这些线性运动平台也将用于光刻机、面板处理、测试机、印刷电路板钻并机、高精度激光处理设备、基因序列仪、脑细胞成像仪和其他医疗设备。
高动态响应
低安装高度
UL与CE认证
持续推力范围103N至
瞬间推力范围289N至
安装高度34mm,36mm
2023-09-04 16:14:38
光刻机是半导体制造行业的“心脏”，也是集成电路制造过程中不可或缺的关键设备。尽管国在半导体领域取得了显著进展，但在光刻机的自主研发方面仍面临诸多挑战。本文旨在分析国产光刻机研发中的几大难点。
2023-08-30 09:42:062096 
，华为旗下深圳哈勃科技投资合伙企业（有限合伙）入股南京中江新材料科技有限公司，后者注册资本由3000万人民币增至3529.41万人民币，哈勃将持有中江科易15%股权
2023-08-29 08:11:43976 
比亚迪入股前华为“天才少年”创办的智元机器人 前几天智元机器人的人形机器人“远征A1”于正式发布。现在前华为“天才少年”“稚晖君”创办的智元机器人再次迎来好消息，比亚迪入股。 比亚迪押注华为
2023-08-25 18:04:181483 东方嘉盛回答说，公司上半年向深圳海关申请设立寄售维修保税仓库，已经得到批准。7月初，公司已中标，将与国际头芯片光刻机制造企业合作，共同在深圳建设承销保价仓库，为华南地区集成电路制造企业提供全天候快速反应的光刻机承销维修服务。
2023-08-24 11:20:44687 光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现， 光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531585 
光刻机有半导体工业“皇冠上的明珠“之称，是高速生产芯片所需要的最关键和最复杂的设备之一（一台光刻机有10万个组件）。目前全世界的高端光刻机被荷兰公司ASML垄断（中低端产品美国、日本和中国均能生产），而绝大部分的组件供应商又被美国控制。
2023-08-21 16:09:33472 、真空镀膜的国产化率达到10-30％，在原子层沉积、光刻、量测检测、离子注入的国产化率暂时低于5％。还有很长的路要走，还有很多创新要去发力，还有很多的困难要去克服。 对于光刻机而言我们也在积极发力，比如华为也在光刻机技术取得了
2023-08-09 11:50:204182 喜报！我国第一台28nm光刻机，交付时间已定！
2023-08-02 16:54:41965 
联想入股RISC-V计算芯片商进迭时空 RISC-V计算芯片商进迭时空已经得到了知名投资机构经纬、耀途、万物、真格等的投资。 日前，联想入股RISC-V计算芯片商进迭时空；进迭时空（杭州
2023-07-31 18:49:531000 随着制程工艺的进步，DRAM内存芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题，解决办法就是上EUV光刻机，但是设备实在太贵，现在还要榨干DUV工艺最后一滴，DDR5内存有望实现单条1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻机是一种高级光刻设备，用于半导体制造业中的微电子芯片生产。EUV光刻机是目前最先进的光刻技术之一，它采用极端紫外光作为曝光光源，具有更短的波长
2023-07-24 18:19:471095 摘要 ：随着微电子产业的迅猛发展，我国迫切需要研制极大规模集成电路的加工设备-光刻机。曝光波长为193nm的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至32nm节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备
2023-07-17 11:02:38592 
ASML：没向中国推出特别版光刻机 就是荷兰出台光刻机限制出口禁令后ASML给出了回应，ASML：没向中国推出特别版光刻机。ASML表示ASML一致都遵守所适用的法律条例，并没有面向中国市场推出
2023-07-07 12:32:371112 光刻机是半导体产业的重要设备之一。网传荷兰ASML（阿斯麦）试图规避荷兰新销售许可禁令，向中国推出特别版DUV光刻机，但ASML据报否认这一行动，并指一直都遵守所适用的法律条例。
2023-07-07 11:50:521351 
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。 消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是 10 年前推出
2023-07-06 16:45:01924 
6月27日，记者查询天眼查发现，近日，深圳锐视智芯科技有限公司（下称“锐视智芯”）发生工商变更，新增股东华为关联公司深圳哈勃科技投资合伙企业（有限合伙）、青岛同歌一期创业投资基金合伙企业（有限合伙
2023-06-29 08:44:11284 光刻机的难度在于要满足复杂的制程需求、高精度的要求以及大规模生产的挑战。为了应对这些挑战，光刻机制造商需要投入大量的研发资源和技术创新，不断提升设备性能和稳定性。
2023-06-28 16:37:4819503 报道称，ASML 量产尖端半导体工艺所需的 EUV 光刻机。Rapidus 计划利用经产省提供的补贴，采购 EUV 光刻设备。IT之家注意到，EUV 光刻机在全球范围内较为短缺，面临着台积电、英特尔、三星等巨头的争抢。报道指出，如果 Rapidus 和 ASML 展开合作，有望强化供应链。
2023-06-27 16:08:05498 
搞光刻机必须要有搞核弹的精神，但只有这种精神是不够的！光刻机毕竟不是核弹，光刻机从试验机改良成量产机，需要与产线相结合试验生产，这些步骤是不可能秘密进行的。
2023-06-27 15:50:0810752 
电子发烧友网报道（文/周凯扬）在上游的半导体制造产业中，除了光刻机等设备外，光刻胶、掩膜版等材料也是决定晶圆质量与良率的关键因素。就拿掩膜版来说，这个承载设计图形的材料，经过曝光后将图形信息转移到
2023-06-22 01:27:001984 因此光刻机对芯片制造非常重要，它是影响芯片制造质量和效率的重要因素。纵观全球光刻机市场，荷兰ASML公司一家独大，占据全球80%的光刻机市场份额，高端EUV光刻机的市占比更是达到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大纲 光刻是芯片制造最核心环节，大陆自给率亟待提升 ·光刻机是芯片制造的核心设备，市场规模全球第二 ·一超两强垄断市场，大陆卡脖子现象凸显 光刻机：多个先进系统的组合，核心零部件被海外厂商垄断
2023-06-19 10:04:008367 
光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-15 11:14:533429 
来源：欣奕华材料 据欣奕华材料官微消息，近日，国内光刻胶龙头企业阜阳欣奕华材料科技有限公司（以下简称“阜阳欣奕华”）完成超5亿元人民币 D 轮融资。 据悉，本轮融资由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552 光刻机可分为前道光刻机和后道光刻机。光刻机既可以用在前道工艺，也可以用在后道工艺，前道光刻机用于芯片的制造，曝光工艺极其复杂，后道光刻机主要用于封装测试，实现高性能的先进封装，技术难度相对较小。
2023-06-09 10:49:205857 
极紫外光刻的制约因素
耗电量高极紫外线波长更短，但易被吸收，可利用率极低，需要光源提供足够大的功率。如ASML 3400B光刻机，250W的功率，每天耗电达到三万度。
生产效率仍不
2023-06-08 15:56:42283 
光刻机技术有多难搞？有人将它与核弹相提并论：目前，全球光刻机已由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司完全垄断。10nm节点以下，ASML稳稳占据100%的市场，佳能和尼康等同业竞争对手难以打破这样的局面
2023-06-08 14:55:0020068 
asml是euv技术开发的领先者。asml公司是半导体领域光刻机生产企业的领头羊，也是全球市场占有率最大的光刻机生产企业。2012年，asml推出了世界上第一个euv试制品，并于2016年推出了euv第一个商用显卡制造机asmlnxe:3400b。
2023-06-08 09:37:553202 光刻机是半导体制造领域的核心设备之一，其发展过程当然是半导体产业发展的重要组成部分。虽然我们在网上经常可以看到光刻机的突破性地图，但事实上，从光刻机的概念萌芽到目前的技术发展和大量生产，其发展过程是漫长而艰辛的。
2023-06-08 09:30:07992 极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求, 为了方便进行快速检漏, 采购伯东 Pfeiffer 便携式氦质谱检漏仪 ASM 310.
2023-06-02 15:53:52396 
上海伯东客户某光刻机生产商, 生产的电子束光刻机 Electron Beam Lithography System 最大能容纳 300mmφ 的晶圆片和 6英寸的掩模版, 适合纳米压印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
由于美国的干涉，asml的极紫外线光刻机无法出口到中国，甚至深度紫外线光刻机也受到了限制。很明显，美国不会放松对 EUV光刻机的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 ，获2轮及以上融资的企业占比达54%。
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生态伙伴介绍：深圳科创学院
深圳科创学院由李泽湘教授携二十多年科创教育以及150 多家硬科技企业、包括8家估值过十亿美金的独角兽企业培育与孵化的经验，集合
2023-05-26 10:56:51
之前的小讲堂有介绍过，光刻过程就好比用照相机拍照，将掩模版上的芯片设计版图曝光到晶圆上，从而制造出微小的电路结构。ASML光刻机的镜片组使用极其精密的加工手段制造，使得最终像差被控制在納米级别，才能稳定地通过曝光印刷微电路。
2023-05-25 10:13:28497 
需要明确什么是EUV光刻机。它是一种采用极紫外线光源进行曝光的设备。与传统的ArF光刻机相比，EUV光刻机可以将曝光分辨率提高到7纳米以下的超高级别，从而实现更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 在投影光刻机照明系统中，均匀照明是保证加工出的线条线宽均匀一致的一项重要技术。通常，用于光刻机照明系统的匀光元件有积分棒、衍射光学元件和微透镜阵列。积分棒匀光的缺点是，限制了照明最大孔径角
2023-05-17 14:52:061061 
不仅是国内的网友这么认为，唯光刻机论在海外也很有市场，似乎大部分网友都是这样想的，已经到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就会强调光刻机会卡脖子，而有了光刻机，台积电这样的公司就能随便复制一样。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381121 
2023年中国光刻机现状是什么样的呢？自从2018年以来，我国开始被美国各种手段制裁，光刻机被卡脖子，美国不让荷兰卖先进的光刻机给我们，这也让这些年来无数国人关注光刻机的研发进度。
2023-05-10 16:24:1521220 在整个芯片制造过程中，几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-04-25 11:05:322260 
151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留，找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52
光刻机是半导体工业中非常重要的设备，用于在半导体芯片制造过程中将芯片图形化。由于光刻机的精度和性能要求非常高，其制造难度也相对较大，目前市场上仅有少数几家公司能够生产出顶级光刻机。那么，中国能否造出顶级光刻机呢？
2023-04-07 13:35:244597 一样。像上文提及的EUV光刻机则是用于生产芯片的光刻机，此外还有封装芯片的光刻机以及用于LED制造领域的投影光刻机。 近几年，我国本土企业在光刻机的研制方面正一步一个脚印地稳步前进，拿上海微电子装备股份有限公司来说，近几年，其先
2023-04-06 08:56:49679 
光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上，通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术。光刻工艺包括三个核心流程：涂胶、对准和曝光以及光刻胶显影，整个过程涉及光刻机，涂胶显影机、量测设备以及清洗设备等多种核心设备，其中价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。
2023-03-25 09:32:394952 为2nm及更先进芯片的生产提供更强大的助力。 计算光刻是芯片设计和制造领域中最大的计算工作负载，每年消耗数百亿CPU小时。而NVIDIA cuLitho计算光刻库利用GPU技术实现计算光刻，可以极大的降低功耗、节省时间。 目前台积电、光刻机制造商阿斯麦，以及EDA巨头新思科技都已经导入
2023-03-23 18:55:377488 
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