、氮化镓、磷化镓、锗、磷化铟、铌酸锂、蓝宝石、硅、碳化硅、玻璃不同材质晶圆的量测。WD4000国产晶圆几何形貌量测设备自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单
2024-03-15 09:22:08
如下硅与石墨复配的负极材料的背散SEM,圆圈标的地方是硅吗?如果不是还请大佬指点一下,那些位置是硅?
2024-03-12 08:53:37
的移相特性非常重要,并且在电子电路中有许多实际应用。 首先,我们来观察和分析RC电路的移相特性。为了用于观测和分析移相特性,我们可以通过输入一个正弦信号来激励RC电路。正弦信号是一种周期性变化的信号,通常用于分析系统的频率响应。在
2024-03-09 14:07:49308 衬底(substrate)是由半导体单晶材料制造而成的晶圆片,衬底可以直接进入晶圆制造环节生产半导体器件,也可以进行外延工艺加工生产外延片。
2024-03-08 11:07:41161 射线,表征材料元素方面的信息,可定性、半定量Be-U的元素 ;
定位测试点,如在失效分析中可以用来定位失效点,在异物分析中可以用来定位异物点。
博****仕检测测试案例:
1.观察材料的表面形貌
2024-03-01 18:59:58
WD4000无图晶圆几何形貌测量系统是通过非接触测量,将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV,BOW、WARP、在高效测量测同时有效防止晶圆产生划痕缺陷。可兼容不同材质
2024-02-21 13:50:34
轮廓仪,也被称为白光干涉仪,是利用白光干涉原理进行成像测量的仪器,是一种通过测量干涉光的干涉条纹来获取物体表面形貌的方法。该仪器通过发射一束宽光谱的白光,并将其照射到
2024-02-20 09:10:090 表面形貌信息。具体而言,扫描探针通过细微的力变化,测量样品表面的起伏程度以及凹凸部分的高度差。然后通过数据处理,形成高分辨率的图像。它能够实现纳米级别的测量,对微观结构的细节进行观测和分析,揭示出表面的微
2024-02-20 09:06:240 光学3D表面轮廓仪利用白光干涉原理,以0.1nm分辨率精准捕捉物体表面细节,实现三维显微成像测量。广泛应用于材料学领域,可测量各种材料表面形貌,提高超光滑表面形貌的测试精度。
2024-02-19 13:47:01237 台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪,能高精度测量微观表面形貌,揭示表面微观特征。它具有高速扫描能力,测量范围广泛,可应用于科学研究、材料表征、纳米技术等领域。台阶仪的优势包括高精度、快速测量和广泛适用范围。
2024-02-18 10:51:05242 、元器件表面进行微观形貌分析的研究课题。无论您的研究方向如何,我们都愿意携手助力,共同完成科学研究的使命,推动中国科研和先进精密制造事业的发展。
2024-01-30 15:21:55267 突破1:液氛SEM的原位多模态分析 蔡司原位液体电化学显微解决方案在SEM高分辨形貌/衬度成像的同时,还能够实现多模态分析表征,通过搭载EDS、Raman,对物质结构与成分进行鉴别。在液氛SEM中,将高分辨成像和成分、结构分析有机结合,提供
2024-01-30 14:22:07137 概述 Minitab 在“图形”菜单上提供了一套灵活的图形以支持各种分析需要。创建图形时有许多自定义选项可用。 除了可以从“图形”菜单中使用的图形以外,Minitab 还在“统计”菜单上提供了特定
2024-01-29 10:28:48124 近日,广东致能科技团队与西安电子科技大学广州研究院/广州第三代半导体创新中心郝跃院士、张进成教授团队等等合作攻关,通过采用广东致能科技有限公司的薄缓冲层AlGaN / GaN外延片,基于广州第三代半导体创新中心中试平台,成功在6英寸蓝宝石衬底上实现了1700V GaN HEMTs器件。
2024-01-25 10:17:24365 电子科技领域中,半导体衬底作为基础材料,承载着整个电路的运行。随着技术的不断发展,对半导体衬底材料的选择和应用要求也越来越高。本文将为您详细介绍半导体衬底材料的选择、分类以及衬底与外延的搭配方案。
2024-01-20 10:49:54474 钛蓝宝石超强超短激光器的似乎涨到10拍瓦就达到了上限。目前,对于10拍瓦到100拍瓦的发展规划,研究人员普遍对钛蓝宝石啁啾脉冲放大技术不太抱希望,转而将目标投向基于氘化磷酸二氢钾非线性晶体的光学参数啁啾脉冲放大技术。
2024-01-11 09:13:00285 反应表面形貌的参数。通过非接触测量,WD4000无图晶圆几何形貌测量设备将晶圆的三维形貌进行重建,强大的测量分析软件稳定计算晶圆厚度,TTV、BOW、WARP、在
2024-01-10 11:10:39
在钻孔过程中钻头会发生磨损,评估和量化磨损的状况至关重要,因为钻头的状态会直接影响加工孔的质量。如何简单、快速的获取钻头的磨损状态?如何精准的定量分析钻头的磨损状态?蔡司三本精密仪器可以通过同时提供
2024-01-08 15:12:5298 中图仪器CP系列台阶仪接触式表面形貌测量仪器主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换
2024-01-04 10:08:52
中图仪器VT6000系列3D共聚焦形貌显微镜以共聚焦技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等,测量表面物理形貌,进行微纳米尺度的三维形貌分析,如3D表面形貌、2D的纵深形貌、轮廓(纵深
2024-01-03 10:05:05
切割对于芯片膜厚层为几十纳米的,可以选择用聚焦离子束FIB-SEM来做芯片截面形貌观察,SEM-EDS对于芯片的结构成分分析 做线性方向元素分析扫描,面扫描MAPPING来表征芯片结构的元素分析。
FIB剪
2024-01-02 17:08:51
碲锌镉(CZT)单晶材料作为碲镉汞(MCT)红外焦平面探测器的首选衬底材料,其表面质量的优劣将直接影响碲镉汞薄膜材料的晶体质量以及成品率,故生产出外延级别的碲锌镉衬底表面是极其重要的。
2024-01-02 13:51:18157 当前,大尺寸衬底成为碳化硅衬底制备技术的重要发展方向。
2023-12-24 14:18:08616 如何使用频谱分析仪来观察和分析杂散信号? 频谱分析仪是一种广泛应用于电子领域的仪器,用于观察和分析信号的频谱特性。它可以帮助工程师们检测和排除信号中的杂散信号,确保设备的正常工作和无干扰的信号传输
2023-12-21 15:37:16592 微纳米表面轮廓形貌的测量可以帮助我们了解材料的物理特性、表面形态以及质量状况。如白光干涉仪是一种常见的微纳米表面轮廓仪测量仪器,常用于研究产品的微观形貌和粗糙度;而共聚焦显微镜大倾角超清纳米测量,在满足精度的情况下使用场景更具有兼容性。选择适合的测量仪器对于准确获取样品表面形貌和特征至关重要。
2023-12-20 16:38:09358 )及分析反映表面质量的2D、3D参数。广泛应用于衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示面板、MEMS器件等超精密加工行业。WD
2023-12-20 11:22:44
中图仪器WD4000无图晶圆几何形貌量测系统自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。它采用白光光谱共焦多传感器和白光干涉显微测量双向扫描技术,完成非接触式扫描并建立表面3D
2023-12-14 10:57:17
分析 1)对LED灯带表面两处异常位置进行外观观察,两处位置均呈现片状发绿现象。 #LED7位置: #LED10位置: 2)将异常位置表面树脂层剥离后进行观察,PCB板侧黑油下方发生腐蚀发绿;树脂表面存在腐蚀残留物质。 #PCB侧: #剥离后的树脂: 2.2 X-RAY分析 对LE
2023-12-11 10:09:07188 芯元基由行业资深专家郝茂盛博士于2014年创办,上海创徒、张江科投、中微半导体等先后进行了投资,并在上海临港建设了中试生产线。经过5年多的潜心研发,芯元基已经形成了以蓝宝石复合图形衬底技术(DPSS)
2023-12-10 09:39:06856 中图仪器SuperViewW系列3d表面微观形貌轮廓仪可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。它是以3D非接触方式,测量分析
2023-12-08 11:27:29
中图仪器SuperViewW1非接触表面形貌仪白光干涉仪具有测量精度高、功能全面、操作便捷、测量参数涵盖面广的优点。它基于白光干涉原理,以3D非接触方式,测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸,测量
2023-12-06 14:04:23
中图仪器SuperViewW1白光干涉表面形貌检测仪是利用光学干涉原理研制开发的超精细表面轮廓测量仪器。它具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点,测量单个精细器件的过程用时短
2023-12-04 14:52:41
常规的TEM使用固定的入射电子束,而SEM的电子束在两个垂直的(X和Y)方向上水平扫描样品。
2023-12-01 11:37:50686 在工业应用中,光学3D表面轮廓仪超0.1nm的纵向分辨能力能够高精度测量物体的表面形貌,可用于质量控制、表面工程和纳米制造等领域。与其它表面形貌测量方法相比,SuperViewW系列光学3D表面
2023-11-29 10:04:380 与其它表面形貌测量方法相比,SuperViewW系列光学3D表面轮廓仪达到纳米级别的相移干涉法(PSI)和垂直扫描干涉法(VSI),具有快速、非接触的优点。它结合了跨尺度纳米直驱技术、精密光学干涉
2023-11-28 10:59:58241 通过有效控制AlN薄膜与Si衬底之间的界面反应,利用脉冲激光沉积(PLD)在Si衬底上生长高质量的AlN外延薄膜。英思特对PLD生长的AlN/Si异质界面的表面形貌、晶体质量和界面性能进行了系统研究。
2023-11-23 15:14:40232 我使用AD8226采集表面肌电信号,使用两节18650电池,+-4V供电,ref接地,只能使用50倍放大信号,能观察到肌肉收缩时信号的波动,使用100倍以上放大信号,无波形!!!!救救我,小白搞毕业设计,现在只剩下放大没弄好!!!!
我使用这个电路,快崩溃了,搞了好久!!!!
2023-11-14 06:35:45
目前以ENIG为表面处理方式所占比例较大,ENIG金属Ni层以NiP成份为主,在生产中易发生镍腐蚀(后面称blackpad)。
2023-11-10 09:42:39136 中图仪器CP200国产台阶形貌仪是一种接触式表面形貌测量仪器,可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动
2023-11-09 09:11:26
干涉现象,使用白光源照射物体,并将反射光经过干涉仪的分光装置后形成干涉图样。通过观察干涉图样的变化,就可以获得物体表面形貌的细节信息。
如何使用白光干涉仪来测量坑的形貌?在使用白光干涉仪测量坑的形貌
2023-11-06 14:27:48
晶圆在加工过程中的形貌及关键尺寸对器件的性能有着重要的影响,而形貌和关键尺寸测量如表面粗糙度、台阶高度、应力及线宽测量等就成为加工前后的步骤。以下总结了从宏观到微观的不同表面测量方法:单种测量手段
2023-11-03 09:21:580 晶圆在加工过程中的形貌及关键尺寸对器件的性能有着重要的影响,而形貌和关键尺寸测量如表面粗糙度、台阶高度、应力及线宽测量等就成为加工前后的步骤。以下总结了从宏观到微观的不同表面测量方法:单种测量手段
2023-11-02 11:21:54462 图像,通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析,并获取反映器件表面质量的2D、3D参数。基于白光干涉原理,SuperViewW1白光干涉三维形貌测量仪以3
2023-11-01 09:39:26
广东全自动SEM扫描电镜是一种高分辨率的显微镜,通过扫描样品表面并利用电子信号生成图像。它与传统光学显微镜不同,能够提供更高的放大倍数和更好的表面细节。以下是广东全自动SEM扫描电镜的原理和构造
2023-10-31 15:12:41770 ?它是利用干涉现象,使用白光源照射物体,并将反射光经过干涉仪的分光装置后形成干涉图样。通过观察干涉图样的变化,就可以获得物体表面形貌的细节信息。 如何使用白
2023-10-26 10:47:58
WD4000无图晶圆几何量测系统自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。1、使用光谱共焦对射技术测量晶圆Thickness、TTV、LTV、BOW、WARP、TIR
2023-10-24 09:42:25554 WD4000半导体晶圆表面三维形貌测量设备自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。可广泛应用于衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示
2023-10-23 11:05:50
干涉现象,使用白光源照射物体,并将反射光经过干涉仪的分光装置后形成干涉图样。通过观察干涉图样的变化,就可以获得物体表面形貌的细节信息。如何使用白光干涉仪来测量坑的形貌?
2023-10-20 09:52:210 UltraScale / UlraScale+系列的SEM IP一共有6种工作模式
2023-10-13 10:06:59432 共聚焦光学系统为基础,结合高稳定性结构设计和3D重建算法共同组成测量系统,能用于各种精密器件及材料表面的非接触式微纳米测量。能测量表面物理形貌,进行微纳米尺度的三维形貌分析,如3D表面形貌、2D的纵深
2023-10-11 14:37:46
SOI是Silicon-On-Insulator的缩写。直译为在绝缘层上的硅。实际的结构是,硅片上有一层超薄的绝缘层,如SiO2。在绝缘层上又有一层薄薄的硅层,这种结构将有源硅层与衬底的硅层分开。而在传统的硅制程中,芯片直接在硅衬底上形成,没有使用绝缘体层。
2023-10-10 18:14:031123 实际样品中,并不能直接观察到不同的晶体学方向或晶面,只能看到晶粒的形貌。
2023-10-08 10:40:173037 经过离子枪聚焦、加速后作用于样品表面,实现离子的成像、注入、刻蚀和沉积。 截面分析是SEM/FIB(Scanning Electron Microscope/Focused Ion beam)双束系统
2023-10-07 14:44:41393 CD-SEM,全名Critical Dimension Scanning Electron Microscopy,中文翻译过来是:特征尺寸扫描电子显微镜。
2023-10-07 10:34:231434 W系列3d光学轮廓仪是以白光干涉技术为原理(用于光在两个不同表面反射后形成的干涉条纹进行分析的设备),能够以优于纳米级的分辨率,非接触测量样品表面形貌的光学测量仪器。其基本原理就是通过不同光学元件
2023-09-28 15:36:421805 SuperViewW系列白光干涉显微形貌仪是以白光干涉技术原理,通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌,是一款用于精密零部件之重点部位表面粗糙度、微小形貌轮廓及尺寸的纳米级测量仪器。产品简介
2023-09-26 14:12:49
SuperViewW1白光干涉表面形貌仪用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量,可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等
2023-09-19 14:31:26
触针式粗糙度轮廓仪广泛应用于工程领域和制造业中,用于表面形貌的分析和处理。通过测量获得的表面形貌数据,可以进行各种形式的分析,如峰谷高度分布、表面轮廓特征、表面粗糙度和形状参数等。
2023-09-18 09:44:07474 台阶仪是一种接触式表面形貌测量仪器,可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。中图仪器CP系列台阶仪接触式表面形貌测量仪广泛应用于:大学、研究实验室和研究所
2023-09-14 16:10:14
SuperViewW1三维白光干涉表面形貌仪采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统,高精度测量;隔振系统能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动,消除地面振动噪声和空气中声波振动
2023-09-13 10:30:22
表面贴装技术中的钢网设计是决定焊膏沉积量的关键因素,而再流焊后形成的焊点形貌与钢网的开口设计有着千丝万缕的联系。从SMT锡膏印刷工艺的理论基础出发,结合实际PCB(印制线路板)上锡膏印刷量,针对在不同线宽的高速信号线衍生形成的焊盘上印刷不同体积的锡膏量,论证再流焊后形成的焊点形貌。
2023-09-12 10:29:03383 ,另一方面需要控制材料表面的缺陷密度,减少由缺陷导致的碲镉汞外延片可用面积损失。研究人员已经对碲镉汞薄膜的表面缺陷进行了大量研究。液相外延碲镉汞材料表面出现的贯穿型缺陷深度超过10 μm,与碲镉汞材料的厚度相近,可达碲锌镉衬底界面
2023-09-10 08:58:20368 SuperViewW1光学材料表面形貌测试仪是利用光学干涉原理研制开发的超精细表面轮廓测量仪器,具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点,测量单个精细器件的过程用时2分钟以内,确保
2023-09-08 17:32:10
聚焦离子束-扫描电子显微镜双束系统 FIB-SEM应用
聚焦离子束-扫描电镜双束系统主要用于表面二次电子形貌观察、能谱面扫描、样品截面观察、微小样品标记以及TEM超薄片样品的制备。
1.FIB切片
2023-09-05 11:58:27
此教程描述如何使用 Arm 图形分析器来捕捉使用马里 GPU 的 Android 设备运行的可调试应用程序的图形痕迹。 您也可以观看此教程的视频: 在您开始在主机上 : 1. 下载并安装适合您的主机
2023-08-24 08:04:03
白光干涉仪是一种常见的测量设备,它能够利用不同的光束干涉原理来观察和测量显微形貌。当白色光经过分束镜分成两束光线,这些光线在目标物体上反射后重新合并。这样,生成的光束会发生干涉,由此产生一系列明暗相间的干涉条纹。这些条纹的形状和间距与目标物体的表面形貌直接相关。
2023-08-23 10:35:21441 、三维表面结构:粗糙度,波纹度,表面结构,缺陷分析,晶粒分析等;
2、二维图像分析:距离,半径,斜坡,格子图,轮廓线等;
3、表界面测量:透明表面形貌,薄膜厚度,透明薄膜下的表面;
4、薄膜和厚膜
2023-08-21 13:46:12
测量金属制品的长度、宽度、高度等维度参数。
除了测量金属表面的形状和轮廓外,光学3D表面轮廓仪还可以生成三维点云数据和色彩图像,用于进一步分析和展示:
1、三维点云数据可以用于进行CAD模型比对、工艺
2023-08-21 13:41:46
CP国产台阶仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器,其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移
2023-08-16 11:16:49
GaN半导体产业链各环节为:衬底→GaN材料外延→器件设计→器件制造。其中,衬底是整个产业链的基础。 作为衬底,GaN自然是最适合用来作为GaN外延膜生长的衬底材料。
2023-08-10 10:53:31664 图形分析器是一个帮助OpenGL ES和Vulkan开发人员通过API级别的分析来充分利用其应用程序的工具。
该工具允许您观察API调用参数和返回值,并与正在运行的目标应用程序交互,以调查单个API
2023-08-09 06:08:14
和共聚焦3D显微形貌检测技术,广泛应用于涉足超精密加工领域的三维形貌检测与表面质量检测方案。其中,VT6000系列共聚焦显微镜,在结构复杂且反射率低的表面3D微观形貌重构与检测方面具有不俗的表现。
一
2023-08-04 16:12:06
平台中心并正式投入使用。SEM5000可提供形貌观测服务:(1)对于观测已经干燥的组织样品,可以直接在仪器预约平台上预约使用。(2)需要进行干燥处理的新鲜组织样品,可以采用固定液
2023-07-31 23:30:26350 白光干涉仪利用白光干涉原理,通过测量光的相位变化来获取物体表面的形貌信息。在工业制造、科学研究等领域,被广泛用于测量精密器件的形貌、表面缺陷检测等方面。白光干涉仪通过对干涉条纹进行图像处理,可以获得
2023-07-21 11:05:48418 白光干涉仪测量的结果通常以二维形貌图或三维形貌图的形式展示。二维形貌图是对干涉条纹进行图像处理得到的,显示出被测物体表面的高低起伏。而三维形貌图则是在二维图像的基础上,进一步还原出物体表面的立体形貌
2023-07-21 11:03:00522 SEM IP是一种比较特殊的IP。它的基本工作就是不停地后台扫描检测FPGA配置RAM中的数据
2023-07-10 16:40:23420 这是Amanda王莉第55篇文章,点这里关注我,记得标星在当今世界,SEM扫描电子显微镜分析技术,一种介于透射电子显微镜和光学显微镜之间的一种观察手段,主要应用在半导体、材料科学、生命科学和纳米材料
2023-07-05 10:04:061995 NightN光学表面形貌测试仪HION产品介绍:光学测试仪HION用于光学表面测试。该技术基于 Shack-Hartmann 方法。激光束从被测光学表面反射并进入 Shack-Hartmann 波前
2023-06-29 14:12:45
基于具有规则六边形孔的纳米图案化氮化铝AlN/蓝宝石模板,蓝宝石氮化预处理和解理面的有序横向生长,保证了离散的氮化铝AlN柱,以均匀的面外和面内取向结合,有效地抑制了凝聚过程中穿透位错threading dislocations的再生。
2023-06-25 16:26:11359 白光干涉仪是以白光干涉技术原理,对各种精密器件表面进行纳米级测量的光学3D表面轮廓测量仪,通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌,专用于精密零部件之重点部位表面粗糙度、微小形貌轮廓及尺寸的非接触
2023-06-16 11:53:051106 最重要的器件之一,在功率器件和射频器件领域拥有广泛的应用前景。HEMT器件通常是在硅(Si)、蓝宝石(Al2O3)、碳化硅(SiC)等异质衬底上通过金属有机气象外延(MOCVD)进行外延制备。由于异质
2023-06-14 14:00:551652 EMMI:Emission microscopy 。与SEM,FIB,EB等一起作为最常用的失效分析手段。
2023-06-12 18:21:182310 等离子体蚀刻是氮化镓器件制造的一个必要步骤,然而,载体材料的选择可能会实质上改变蚀刻特性。在小型单个芯片上制造氮化镓(GaN)设备,通常会导致晶圆的成本上升。在本研究中,英思特通过铝基和硅基载流子来研究蚀刻过程中蚀刻速率、选择性、形貌和表面钝化的影响。
2023-05-30 15:19:54452 在材料生产检测领域中,共聚焦显微镜主要测量表面物理形貌,进行微纳米尺度的三维形貌分析,如3D表面形貌、2D的纵深形貌、轮廓(纵深、宽度、曲率、角度)、表面粗糙度等。与传统光学显微镜相比,它具有更高
2023-05-25 11:27:02
AlN基器件的热阻抗降至AlN/蓝宝石基器件的1/3(从31K-mm/W压降至10K-mm/W),与SiC和铜散热器相当,相较于其他半导体器件体现出显著的热电协同设计优势,从而实现峰值漏极饱和电流
2023-05-25 09:51:23599 测表面反射回来,另外一束光经参考镜反射,两束反射光最终汇聚并发生干涉,显微镜将被测表面的形貌特征转化为干涉条纹信号,通过测量干涉条纹的变化,能实现表面轮廓的三维重建并可进行轮廓尺寸分析。
白光干涉仪的形貌
2023-05-23 13:58:04
特性与使用性能的关系、控制和改进加工方法等都有着显著的意义。随着微电子技术、光学技术、计算机技术、传感技术、信号分析和处理技术等飞速发展,对表面形貌测量精度不断提高
2023-05-19 16:52:10411 PTFE表面等离子改性是一种有效的技术手段,可以改变PTFE表面的性质,增加其在各个领域的应用。通过引入亲水基团、改善表面形貌、形成致密的氟化物膜等方式,可以提高PTFE表面的粘附性、润湿性、抗腐蚀性、耐磨性、生物相容性和电性能。
2023-05-19 10:45:39628 蓝宝石是一种高硬度、高强度、高熔点的陶瓷材料,其主要成分是氧化铝(Al2O3)。蓝宝石陶瓷基板的制备方法是在高温高压下烧结制成。蓝宝石陶瓷基板的晶体结构具有六方晶系,其晶体密度为3.98 g/cm
2023-05-17 08:42:00519 在信号量的api中有一个api: rt_sem_control ,目前只支持一个命令RT_IPC_CMD_RESET 即重置信号量值,在官方的demo中经常看到这种用法rt_sem
2023-05-05 17:26:37
蓝宝石是一种高硬度、高强度、高熔点的陶瓷材料,其主要成分是氧化铝(Al2O3)。蓝宝石陶瓷基板的制备方法是在高温高压下烧结制成。蓝宝石陶瓷基板的晶体结构具有六方晶系,其晶体密度为3.98 g/cm³,熔点为2040℃。
2023-05-05 16:35:28343 生长中主要以蓝宝石、Si、砷化镓、氧化镁等的立方相结构作为衬底,以(011)面为基面有可能得到比较稳定的闪锌矿结构的氮化镓纳米材料。
2023-04-29 16:41:0012092 研究团队利用传统的机械剥离法在蓝宝石衬底上制备了二维金属纳米片,利用光学显微镜将飞秒脉冲激光垂直辐射在纳米片上:当脉冲激光照射时,二维纳米片开始运动,并在均匀光照区域内持续运动,通过激光的移动来改变辐照区域
2023-04-28 10:35:17483 蓝宝石陶瓷基板是一种高硬度、高强度、高熔点的陶瓷材料,其主要成分是氧化铝(Al2O3)。蓝宝石陶瓷基板的制备方法是在高温高压下烧结制成。蓝宝石陶瓷基板的晶体结构具有六方晶系,其晶体密度为3.98 g/cm³,熔点为2040℃。
2023-04-25 15:38:04400 根据维基百科的定义,光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
2023-04-25 11:11:331243 【核芯观察】是电子发烧友编辑部出品的深度系列专栏,目的是用最直观的方式令读者尽快理解电子产业架构,理清上、中、下游的各个环节,同时迅速了解各大细分环节中的行业现状。本期【核芯观察】的主题是卫星通信产业,对上下游企业、技术、市场等方面进行梳理,分析当前卫星通信产业中芯片的需求趋势。
2023-04-23 00:01:004089 季丰电子HITACHI HF5000功能丰富,借助超高的分辨率和独特的探头设计,可满足客户大多数极限应用需求,比如高分辨单原子像、轻元素成像、表面纳米级至原子级形貌观察以及纳米结构至原子形貌mapping等,对于常规需求能轻松应对。
2023-04-11 17:08:181472 。左图直径800 mm、500 mm、 300 mm 和 200 mm 微孔阵列. 右图直径5mm、3mm、 2mm、1mm、800 mm and 500 mm 微孔图样。 图2. 蓝宝石晶体表面光栅刻划,周期2 mm和3 mm。 图3. 透明材料(蓝宝石)内部激光诱导折射率变化--衍射光栅 审核编辑 黄宇
2023-04-06 07:43:13306
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