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电子发烧友网>今日头条>显影剂温度对光刻胶溶解影响的新模型

显影剂温度对光刻胶溶解影响的新模型

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2023-07-16 01:50:153008

买完ASML***,又“国有化”光刻胶龙头,日本的野心藏不住了

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全球光刻胶市场预计收入下滑,2024年有望反弹

所谓的“光刻胶”,即是在紫外线、电子束等辐射下,其溶解度会产生变化的耐腐蚀薄膜材料。作为光刻工艺中的关键要素,广泛应用于晶圆和分立器件的精细图案制作中。其品种繁多,此次涨价涉及的KrF 光刻胶则属高级别光刻胶,将成为各厂商关注的焦点。
2023-12-28 11:14:34379

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如何定义光模块的温度?为什么工作温度对光模块很重要?光模块的工作温度会受到哪些因素的影响? 光模块是用于光通信、数据通信以及医疗设备等领域中的设备,其工作温度是指光模块在正常运行过程中的温度范围
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2023-12-26 16:17:49252

全面解析***结构及工作原理

光刻光刻机 ➢对准和曝光在光刻机(Lithography Tool)内进行。 ➢其它工艺在涂胶显影机(Track)上进行。 光刻机结构及工作原理 ➢光刻机简介 ➢光刻机结构及工作原理
2023-12-19 09:28:00245

光刻工艺的基本步骤 ***的整体结构图

光照条件的设置、掩模版设计以及光刻胶工艺等因素对分辨率的影响都反映在k₁因子中,k₁因子也常被用于评估光刻工艺的难度,ASML认为其物理极限在0.25,k₁体现了各家晶圆厂运用光刻技术的水平。
2023-12-18 10:53:05326

详解***结构及工作原理

到硅片上。光刻机主要由光源、凸透镜、光刻胶和控制系统等组成,其中光源发出紫外线或可见光,凸透镜将光线聚焦到光刻胶上,而控制系统则控制光刻胶的曝光时间和光线的强度等参数。 光刻机的工作原理是基于光学投影技术的。它利用光学系统将电路设计的图案
2023-12-18 08:42:12278

匀胶速度影响光刻胶的哪些性质?

匀胶是光刻中比较重要的一步,而旋涂速度是匀胶中至关重要的参数,那么我们在匀胶时,是如何确定匀胶速度呢?它影响光刻胶的哪些性质?
2023-12-15 09:35:56442

光刻胶价格上涨,韩国半导体公司压力增大

光刻胶类别的多样化,此次涨价案所涉KrF光刻胶属于高阶防护用品,也是未来各地厂家的竞争焦点。当前市场中,光刻胶主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学及东进半导体等大型制造商掌控。
2023-12-14 15:20:36408

万润股份在半导体制造材料领域稳步推进,涉足光刻胶单体、PI等业务

近期,万润股份在接受机构调研时透露,其“年产65吨半导体用光刻胶树脂系列”项目已经顺利投入运营。该项目旨在为客户提供专业的半导体用光刻胶树脂类材料。
2023-12-12 14:02:58328

光刻各环节对应的不同模型种类

光学模型是基于霍普金斯(Hopkins)光学成像理论,预先计算出透射相交系数(TCCs),从而描述光刻机的光学成像。光学模型中,经过优化的光源,通过光刻机的照明系统,照射在掩模上。如果在实际光刻
2023-12-11 11:35:32288

半导体制造技术之刻蚀工艺

W刻蚀工艺中使用SF6作为主刻步气体,并通过加入N2以增加对光刻胶的选择比,加入O2减少碳沉积。在W回刻工艺中分为两步,第一步是快速均匀地刻掉大部分W,第二步则降低刻蚀速率减弱负载效应,避免产生凹坑,并使用对TiN有高选择比的化学气体进行刻蚀。
2023-12-06 09:38:531536

半导体制造之光刻工艺讲解

光刻工艺就是把芯片制作所需要的线路与功能做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-12-04 09:17:241334

韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶助力3D NAND闪存制造

据报道,韩国SK集团于2020年斥资400亿韩元收购当地锦湖石化的电子材料业务,收购后成立的新子公司SK Materials Performance(SKMP)已开发出一种高厚度KrF光刻胶,并通过了SK海力士的性能验证,这将有利于SK海力士3D NAND闪存的技术开发。
2023-11-29 17:01:56433

光刻胶国内市场及国产化率详解

KrF光刻胶是指利用248nm KrF光源进行光刻光刻胶。248nmKrF光刻技术已广 泛应用于0.13μm工艺的生产中,主要应用于150 , 200和300mm的硅晶圆生产中。
2023-11-29 10:28:50283

韩国SKMP开发出高厚度KrF光刻胶,可助力3D NAND闪存制造

 据悉,skmp开发的新型KrF光刻胶的厚度为14至15米,与东进半导体(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的产品相似。日本jsr公司的类似产品厚度只有10微米。
2023-11-29 10:02:52258

不仅需要***,更需要光刻胶

为了生产高纯度、高质量的光刻胶,需要高纯度的配方原料,例如光刻树脂,溶剂PGMEA…此外,生产过程中的反应釜镀膜和金属析出污染监测也是至关重要的控制环节。例如,2019年,某家半导体制造公司由于光刻胶受到光阻原料的污染,导致上万片12吋晶圆报废
2023-11-27 17:15:48550

全球主要晶圆厂制程节点技术路线图

雕刻电路图案的核心制造设备是光刻机,它的精度决定了制程的精度。光刻机的运作原理是先把设计好的芯片图案印在掩膜上,用激光穿过掩膜和光学镜片,将芯片图案曝光在带有光刻胶涂层的硅片上,涂层被激光照到之处则溶解,没有被照到之处保持不变,掩膜上的图案就被雕刻到芯片光刻胶涂层上。
2023-11-24 12:27:061287

西陇科学9天8板,回应称“未生产、销售光刻胶

 20日,西陇科学(株)发布公告称,该公司没有生产销售矿产品。公司生产及销售用于清洗剂、显影液、剥离液等的光刻胶,占公司营业收入的比例,是目前用于上述用途的光刻胶配套。
2023-11-21 14:54:57315

金属Cr详解

光刻过程中,铬被用作掩膜版的关键材料。铬在紫外光下表现出高光学密度,可以有效阻挡光线。在石英基板上通过PVD等方法均匀地沉积一层薄的铬,在其上涂覆一层光刻胶,再使用电子束光刻显影,在光刻胶上做出预期的图形,之后进行Cr的刻蚀,最后去除光刻胶,即可得到掩膜版。
2023-11-20 17:07:57836

光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?

光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体,不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻胶算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:11571

关于数字处理技术部分的路线图介绍

EUV 超薄 (≤10nm)尺度的光刻胶:随着特征尺寸的缩小,光刻胶分子成分成为特征尺寸的一部分。构成光刻胶的分子必须是单组分、小的构建块,以防止聚集和分离。新的设计结构将需要超薄光刻胶和底层组合。
2023-11-06 11:23:15402

晶瑞电材子公司引入战投中石化资本,定增募资8.5亿元加码光刻胶项目

股,募集资金人民币850,000,002.24元,用于瑞红苏州先进制程工艺半导体光刻胶及配套试剂业务的研发、采购、生产和销售及相关投资。
2023-11-02 10:59:26555

半导体关键材料光刻胶市场格局发展现状

生产光刻胶的原料包括光引发剂(光增感剂、光致产酸剂帮助其更好发挥作用)、树脂、溶剂和其他添加剂等,我国由于资金和技术的差距,如感光剂、树脂等被外企垄断,所以光刻胶自给能力不足。
2023-11-01 15:51:48138

半导体制造领域光刻胶的作用和意义

光刻是半导体加工中最重要的工艺之一,决定着芯片的性能。光刻占芯片制造时间的40%-50%,占其总成本的30%。光刻胶光刻环节关键耗材,其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。
2023-10-26 15:10:24359

具有独特底部轮廓的剥离光刻胶的开发

金属图案的剥离方法已广泛应用于各种电子器件的制造过程中,如半导体封装、MEMS和LED的制造。与传统的金属刻蚀方法不同的是,采用剥离法的优点是节省成本和工艺简化。在剥离过程中,经过涂层、曝光和开发过程后,光刻胶会在晶片上形成图案。
2023-10-25 10:40:05185

光学光刻技术有哪些分类 光刻技术的原理

光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上,通过光的照射,光刻胶的成分发生化学反应,从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关,而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271

光刻区为什么选黄光灯?为什么不使用红光或绿光?

黄光的波长远离UV范围,因此不会引起光刻胶的意外曝光。黄光灯通常不含有紫外线,从而保护光敏材料免受不必要的曝光。
2023-10-11 15:14:33746

光刻胶龙头拟北交所上市!

据披露,国信证券与瑞红苏州于2023年9月签订了辅导协议,国信证券担任瑞红苏州向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导工作的辅导机构。
2023-10-09 17:18:40483

半导体制造之光刻原理、工艺流程

光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一,是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成,是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应,经曝光、显影光刻工艺,将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2023-10-09 14:34:491674

EUV薄膜容错成本高 成芯片良率的关键

近20年来,EUV光源、EUV掩模和EUV光刻胶一直是EUV光刻的三大技术挑战。
2023-09-14 09:45:12562

芯片封装为什么要用到*** 封装***与芯片***的区别

在芯片制造过程中,光刻机用于在硅片上形成光刻胶图形,作为制造电路的模板。光刻机使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻胶,并通过投影光学系统将图形投射到硅片上,以形成所需的微小结构和图案。
2023-09-12 14:34:372325

pcb显影液的作用

液的相关知识。 pcb显影液的主要成分碱性显影剂和氢氧化钠,其中PCB显影液的核心成分碱性显影剂可以分解未曝光的光敏膜上的化学物质,让未被曝光的铜箔显露出来。碱性显影剂有氨、氢氧化钠、碳酸钾等多种类型,在pcb生产制造中合理的选择显影剂
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2023-09-11 11:19:29736

环境监测水中溶解氧DO的测定方法有哪些?

溶解氧是指溶解在水中的分子态氧,其大小与空气中氧气分压、大气压力和水温有关。溶解氧的测量方法主要有碘量法及其修正法、电极极谱法和荧光法。其中清洁水可直接采用碘量法,而污水和工业废水可以采用修正
2023-09-06 15:08:03693

湿法去胶液的种类有哪些?去胶液都有哪些种类?去胶原理是什么?

光刻技术通过光刻胶将图案成功转移到硅片上,但是在相关制程结束后就需要完全除去光刻胶,那么这个时候去胶液就发挥了作用,那么去胶液都有哪些种类?去胶原理是什么?
2023-09-06 10:25:011152

传日本更可能实施对光刻/薄膜沉积设备的出口管制;商汤科技多部门启动裁员 最高幅度达15%,赔偿N+2

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2023-06-17 10:19:38507

光刻胶国内头部企业阜阳欣奕华完成超5亿元D轮融资

来源:欣奕华材料 据欣奕华材料官微消息,近日,国内光刻胶龙头企业阜阳欣奕华材料科技有限公司(以下简称“阜阳欣奕华”)完成超5亿元人民币 D 轮融资。 据悉,本轮融资由盛景嘉成母基金
2023-06-13 16:40:00552

芯片制造中人类科技之巅的设备---***

光刻机是芯片制造中最复杂、最昂贵的设备。芯片制造可以包括多个工艺,如初步氧化、涂光刻胶、曝光、显影、刻蚀、离子注入。这个过程需要用到的设备种类繁多,包括氧化炉、涂胶显影机、光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀
2023-06-12 10:13:334452

半导体制备的主要方法

上,使光刻胶在照射处发生化学反应。然后,通过显影步骤,未照射到的光刻胶溶解掉,形成图案。经过后烘烤,图案被固定,以便后续步骤。
2023-06-09 11:36:522037

重点阐述湿法刻蚀

光刻工艺后,在硅片或晶圆上形成了光刻胶的图形,下一步就是刻蚀。
2023-06-08 10:52:353319

一文看懂EUV光刻

极紫外 (EUV) 光刻系统是当今使用的最先进的光刻系统。本文将介绍这项重要但复杂的技术。
2023-06-06 11:23:54688

知识分享---光刻模块标准步骤

通常,光刻是作为特性良好的模块的一部分执行的,其中包括晶圆表面制备、光刻胶沉积、掩模和晶圆的对准、曝光、显影和适当的抗蚀剂调节。光刻工艺步骤需要按顺序进行表征,以确保模块末端剩余的抗蚀剂是掩模的最佳图像,并具有所需的侧壁轮廓。
2023-06-02 16:30:25418

无需FMM,京东方研发出光刻AMQLED

BOE(京东方)开发的量子点直接光刻(DP-QLED)工艺,仅需要涂膜、曝光、显影三步即实现了一种量子点的图案化;相对于其它光刻图案化工艺,步骤减少,无需引入附加结构,可有效提升效率、成本可大幅降低。
2023-06-01 17:44:041286

光刻胶产业天价离婚案!分割市值高达140亿元

来源:每日经济新闻,记者:程雅 编辑:张海妮,谢谢 编辑:感知芯视界 5月24日晚,国产光刻胶大厂彤程新材发布公告称,于近日收到实控人Zhang Ning与Liu Dong Sheng的通知,二人
2023-05-29 09:33:44187

化学放大型光刻胶的作用原理

感光速度:即光刻胶受光照射发生溶解速度改变所需的最小能量,感光速度越快,单位时间内芯片制造的产出越高,经济效益越好,另-方面,过快的感光速度会对引起工艺宽容度的减小,影响工艺制程的稳定性。
2023-05-25 09:46:09561

光刻技术:光学关键尺寸测量(OCD)原理

  集成电路芯片持续朝着密度不断增加和器件尺寸不断微缩的方向发展,其中最为关键的一个参数就是栅极线条宽度。任何经过光刻后的光刻胶线条宽度或刻蚀后栅极线条宽度与设计尺寸的偏离都会直接影响最终器件的性能
2023-05-24 09:25:193491

***详解

光刻(Photolithography) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
2023-05-17 09:30:338513

采用光刻胶牺牲层技术改善薄膜电路制备工艺

改善之后的工艺与之前最大的区别在于使用光刻胶充当溅射的掩膜,在电镀之前将电路图形高精度的制备出来,不再进行湿法刻蚀,避免了侧腐蚀对线条精度和膜基结合力的影响,同时,基板只浸入丙酮中一次以去除光刻胶,避免了大量溶液的使用
2023-05-16 09:40:351218

一文讲透光刻胶及芯片制造关键技术

在集成电路制造领域,如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”,光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381122

全面解读光刻胶工艺制造流程

光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据使用场景,这里的待加工基片可以是集成电路材料,显示面板材料或者印刷电路板。
2023-05-11 16:10:492775

EUV光刻的无名英雄

晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模,然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是,如果光刻胶太薄,它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小,底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25:00689

浅谈光刻技术

在整个芯片制造过程中,几乎每一道工序的实施都离不开光刻技术。光刻技术也是制造芯片最关键的技术,占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033

光刻技术的种类介绍

根据维基百科的定义,光刻是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
2023-04-25 11:11:331243

光刻技术的详细工序

清洗硅片(Wafer Clean) 清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷,提高光刻胶黏附性 基本步骤:化学清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403859

光刻技术的原理及发展前景分析

光刻就是把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上得图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
2023-04-25 11:05:322260

PCB制造过程分步指南

的光敏膜层。该光致抗蚀包括在暴露于紫外光之后硬化的光反应性化学物质层。这确保了从照相胶片到光刻胶的精确匹配。薄膜安装在将销钉固定在层压板上的适当位置的销钉上。  薄膜和纸板排成一行,并接收一束紫外线
2023-04-21 15:55:18

光刻胶显影残留原因

151n光刻胶曝光显影后开口底部都会有一撮残留,找不到原因。各位帮分析下
2023-04-20 13:13:52

从制造端来聊聊——芯片是如何诞生的

光刻胶层透过掩模被曝光在紫外线之下,变得可溶,掩模上印着预先设计好得电路图案,紫外线透过它照在光刻胶层上,就会形成每一层电路图形。这个原理和老式胶片曝光类似。
2023-04-20 11:50:141523

浅谈EUV光刻中的光刻胶和掩模等材料挑战

新的High NA EUV 光刻胶不能在封闭的研究环境中开发,必须通过精心设计的底层、新型硬掩模和高选择性蚀刻工艺进行优化以获得最佳性能。为了迎接这一挑战,imec 最近开发了一个新的工具箱来匹配光刻胶和底层的属性。
2023-04-13 11:52:121164

高端光刻胶通过认证 已经用于50nm工艺

此前该公司指出,公司已建成年产5吨ArF干式光刻胶生产线、年产20吨ArF浸没式光刻胶生产线及年产45吨的光刻胶配套高纯试剂生产线,具备ArF光刻胶及配套关键组分材料的生产能力,目前公司送样验证的产品均由该自建产线产出。
2023-04-11 09:25:32920

音圈电机模组在主流光刻掩模台系统中的应用

光刻机是芯片智造的核心设备之一,也是当下尤为复杂的精密仪器之一。正因为此,荷兰光刻机智造商阿斯麦通研制的EUV光刻机才会“千金难求”。 很多人都对光刻机有所耳闻,但其实不同光刻机的用途并不
2023-04-06 08:56:49679

什么是PCB阻焊?PCB电路板为什么要做阻焊?

显影不良,降低解像度;预烘时间过短,或温度过低,在曝光时会粘连底片,在显影时,阻焊膜会受到碳酸钠溶液的侵蚀,引起表面失去光泽或阻焊膜膨胀脱落。  2、曝光  曝光是整个工艺过程的关键。如果曝光
2023-03-31 15:13:51

被卡脖子的半导体设备(万字深度报告)

光刻是将设计好的电路图从掩膜版转印到晶圆表面的光刻胶上,通过曝光、显影将目标图形印刻到特定材料上的技术。光刻工艺包括三个核心流程:涂胶、对准和曝光以及光刻胶显影,整个过程涉及光刻机,涂胶显影机、量测设备以及清洗设备等多种核心设备,其中价值量最大且技术壁垒最高的部分就是光刻机。
2023-03-25 09:32:394952

被卡脖子的半导体材料(万字深度报告)

根据SEMI数据,2020年全球晶圆制造材料中,硅片占比最高,为35%;电子气体排名第2,占比13%;掩膜版排名第3,占比12%,光刻胶占比6%;光刻胶配套材料占比8% ;湿电子化学品占比7%;CMP抛光材料占比6%;靶材占比2%。
2023-03-25 09:30:544119

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