金航标和萨科微总经理宋仕强说,中国还有一个优势就是有全世界最大的半导体消费市场,有超过1万亿人民币的规模,全球占比34%,领先美国(27%),更大幅领先欧洲和日韩,金航标电子是在的中国的连接器市场也
2024-03-18 11:39:25
成为“国产半导体领导者”!萨科微公司“slkor”品牌的SL系列可控硅产品可以国产替代对标替换TI德州仪器、ON安森美、ST意法半导体、IR、MPS、Atmel、AMS等产品的型号BTA06-800B
2024-03-15 11:22:07
台积电的 Suk Lee 发表了题为“摩尔定律和半导体行业的第四个时代”的主题演讲。Suk Lee表示,任何试图从半导体行业传奇而动荡的历史中发掘出一些意义的事情都会引起我的注意。正如台积电所解释
2024-03-13 16:52:37
刻蚀机的刻蚀过程和传统的雕刻类似,先用光刻技术将图形形状和尺寸制成掩膜,再将掩膜与待加工物料模组装好,将样品置于刻蚀室内,通过化学腐蚀或物理磨蚀等方式将待加工物料表面的非掩膜区域刻蚀掉,以得到所需的凹槽和沟槽。
2024-03-11 15:38:24461 想问一下,半导体设备需要用到温度传感器的有那些设备,比如探针台有没有用到,具体要求是那些,
2024-03-08 17:04:59
二极管种类有很多,按照所用的半导体材料,可分为锗⼆极管(Ge管)和硅⼆极管(Si管),现在也有用碳化硅做材料的二极管,美国的cree和深圳萨科微slkor(www.slkoric.com)半导体推出
2024-03-05 14:23:46
N型单导体和P型半导体是两种不同类型的半导体材料,它们具有不同的电子特性和导电能力。
2024-02-06 11:02:18319 近日,百傲化学与苏州芯慧联半导体科技有限公司(简称“芯慧联”)宣布,双方拟签订《半导体设备业务合作协议》。根据协议,百傲化学将委托芯慧联以自有资金购买半导体设备,合同价款合计不超过1.4亿元。芯慧联将负责对所购设备进行再制造、升级改造和技术服务,并拥有对外销售的权利。
2024-02-04 09:19:37706 在当前的资本寒冬中,江苏云途半导体有限公司(以下简称“云途半导体”)凭借其卓越的技术实力和商业化前景,成功完成了B2轮数亿元融资。本轮融资由国调基金领投,联合锡创投等知名机构共同参与,充分体现了投资人对云途半导体的坚定信心。
2024-02-04 09:16:28613 广泛,第三个是中国企业跟国外同类企业相比,在高中低压的MOS管、桥堆、可控硅中低端产品我们有一定的价格优势,在产品交付、售后服务等方面都有优势,我们在这个市场努力还是大有可为的。深圳市萨科微slkor半导体
2024-02-02 09:52:12
、医疗等领域。 半导体是指具有介于导体和绝缘体之间电导率的材料。半导体材料通常具有四价或五价原子,它的导电能力介于导体(如金属)和绝缘体(如塑料)之间。半导体具有很多特殊的物理和化学特性,使其成为制造芯片的理想材料。 从物理结构上,半
2024-01-30 09:54:21532 在半导体加工工艺中,常听到的两个词就是光刻(Lithography)和刻蚀(Etching),它们像俩兄弟一样,一前一后的出现,有着千丝万缕的联系,这一节介绍半导体刻蚀工艺。
2024-01-26 10:01:58548 干法刻蚀技术是一种在大气或真空条件下进行的刻蚀过程,通常使用气体中的离子或化学物质来去除材料表面的部分,通过掩膜和刻蚀参数的调控,可以实现各向异性及各向同性刻蚀的任意切换,从而形成所需的图案或结构
2024-01-20 10:24:561106 使用SEMulator3D®工艺步骤进行刻蚀终点探测 作者:泛林集团 Semiverse Solutions 部门软件应用工程师 Pradeep Nanja 介绍 半导体行业一直专注于使用先进的刻蚀
2024-01-19 16:02:42128 鉴于掩膜版制作技术难度大,故我国在 130nm 及其以下制程节点对国外进口的依赖程度较深。据苏州工业园区一网通办公布的信息,江苏路芯半导体科技是苏州路行维远、苏州产业基金和睿兴投资三家机构联手打造的
2024-01-19 14:09:08432 对DRIE刻蚀,是基于氟基气体的高深宽比硅刻蚀技术。与RIE刻蚀原理相同,利用硅的各向异性,通过化学作用和物理作用进行刻蚀。不同之处在于,两个射频源:将等离子的产生和自偏压的产生分离
2024-01-14 14:11:59511 智程半导体自2009年起致力于半导体湿法工艺设备研究、生产与销售事业,10余载研发历程,使得其已成为全球顶尖的半导体湿法设备供应商。业务范围包括清洗、去胶、湿法刻蚀、电镀、涂胶显影、金属剥离等多种设备,广泛应用于各种高尖端产品领域。
2024-01-12 14:55:23636 后,这些芯片也将被同时加工出来。
材料介质层参见图3,芯片布图上的每一层图案用不同颜色标示。对应每一层的图案,制造过程会在硅晶圆上制做出一层由半导体材料或介质构成的图形。本文把这些图形层称之为材料介质
2024-01-02 17:08:51
材料不同。传统的硅半导体芯片是以硅为基材,采用不同的工艺在硅上加工制造,而氮化镓半导体芯片则是以氮化镓为基材,通过化学气相沉积、分子束外延等工艺制备。氮化镓是一种全化合物半导体材料,具有较宽的能隙,电子迁移率高以及较高的饱
2023-12-27 14:58:24424 半导体分为哪几种类型 怎么判断p型半导体 p型半导体如何导电 半导体是一种具有介于导体和绝缘体之间特性的物质,其导电性能可以通过控制杂质的加入而改变。半导体可以分为两种类型:p型半导体和n型半导体
2023-12-19 14:03:481388 的关注。 首先,PFA具有优秀的耐化学腐蚀性。半导体芯片在制造和使用过程中,会接触到各种化学物质,如酸、碱、盐等。PFA的稳定性对这些化学物质具有极高的抗性,从而保证了芯片的安全和稳定。这一点在半导体行业的严格质量控制中尤为重要。
2023-12-18 13:58:21188 全新成立的江苏盘古半导体科技总部预计设在江苏南京浦口区,其主营业务包括集成电路制造、电子元器件生产、集成电路芯片及产品制造及销售等。当前,由于摩尔定律逐步减缓,先进封装已成为突破摩尔极限的关键手段。
2023-12-14 09:56:57449 根据不同的诱因,常见的对半导体器件的静态损坏可分为人体,机器设备和半导体器件这三种。
当静电与设备导线的主体接触时,设备由于放电而发生充电,设备接地,放电电流将立即流过电路,导致静电击穿。外部物体
2023-12-12 17:18:54
刻蚀的机制,按发生顺序可概分为「反应物接近表面」、「表面氧化」、「表面反应」、「生成物离开表面」等过程。所以整个刻蚀,包含反应物接近、生成物离开的扩散效应,以及化学反应两部分。
2023-12-11 10:24:18250 电子发烧友网报道(文/刘静)12月6日,半导体材料领域又一家优秀的国产企业在科创板成功上市。作为一家半导体材料商,江苏艾森半导体材料股份有限公司(以下简称:艾森半导体)自2010年成立以来,抓住
2023-12-07 00:11:002226 该专利详细阐述了一种针对含硅有机介电层的高效刻蚀方法及相应的半导体工艺设备。它主要涉及到通过交替运用至少两个刻蚀步骤来刻蚀含硅有机介电层。这两个步骤分别为第一刻蚀步骤和第二刻蚀步骤。
2023-12-06 11:58:16370 W刻蚀工艺中使用SF6作为主刻步气体,并通过加入N2以增加对光刻胶的选择比,加入O2减少碳沉积。在W回刻工艺中分为两步,第一步是快速均匀地刻掉大部分W,第二步则降低刻蚀速率减弱负载效应,避免产生凹坑,并使用对TiN有高选择比的化学气体进行刻蚀。
2023-12-06 09:38:531536 2023年11月15日,博格华纳集团与江苏富乐华半导体科技股份有限公司进行了战略合作协议签署。
2023-11-29 10:13:46303 半导体前端工艺(第四篇):刻蚀——有选择性地刻蚀材料,以创建所需图形
2023-11-27 16:54:26256 2023年11月18日-19日,由江苏省电源学会主办的“宽禁带半导体器件与高频电力电子变换器高级研修班”技术培训活动在南京航空航天大学(南航)自动化学院成功举办。国产高性能微控制器厂商上海先楫半导体
2023-11-21 08:17:17367 人工智能(AI)是预计到2030年将成为价值数万亿美元产业的关键驱动力,它对半导体性能提出了新的要求。在交付下一代AI能力方面,一些最复杂的问题来自于需要通过新的刻蚀技术来解决的器件制造挑战。
2023-11-16 16:03:02164 随着半导体技术的不断发展,对于连接技术的要求也越来越高。传统的金属接头在高温、高压和高辐射环境下存在许多问题,而PFA接头作为一种高性能的塑料接头,正逐渐得到广泛的认可和应用。本文将围绕晶圆制造
2023-11-09 17:47:47204 半导体材料具有一些与我们已知的导体、绝缘体完全不同的电学、化学和物理特性,正是由于这些特点,使得半导体器件和电路具有独特的功能。在接下来的半导体材料的特性这一期中,我们将对这些性质进行深入的探讨,并将它们与原子的基础、固体的电分类以及什么是本征和掺杂半导体等一系列关键性的问题共同做一个介绍。
2023-11-03 10:24:30427 管在半导体和太阳能光伏领域的应用与优势备受关注。 华林科纳是一家专注于生产高性能氟化共聚物材料的公司。其生产的PFA管具有优异的耐化学腐蚀、耐高温、低摩擦系数和高绝缘性能等特性。在半导体和太阳能光伏领域,华林科纳的PFA管具
2023-10-17 10:19:25199 随着科技的不断发展,半导体技术在全球范围内得到了广泛应用。半导体设备在制造过程中需要经过多个工艺步骤,而每个步骤都需要使用到各种不同的材料和设备。其中,华林科纳的PFA管在半导体清洗工艺中扮演着
2023-10-16 15:34:34258 刻蚀(或蚀刻)是从晶圆表面去除特定区域的材料以形成相应微结构。但是,在目标材料被刻蚀时,通常伴随着其他层或掩膜的刻蚀。
2023-10-07 14:19:252073 在半导体制造中,刻蚀工序是必不可少的环节。而刻蚀又可以分为干法刻蚀与湿法刻蚀,这两种技术各有优势,也各有一定的局限性,理解它们之间的差异是至关重要的。
2023-09-26 18:21:003305 本文档的主要内容详细介绍的是半导体芯片的制作和半导体芯片封装的详细资料概述
2023-09-26 08:09:42
在半导体制程工艺中,有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺,如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉,“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料,从而创建所需的微细图案。半导体“刻蚀”工艺所采用的气体和设备,在其他类似工艺中也很常见。
2023-09-24 17:42:03996 很多半导体、光伏行业的制造企业在选择化学品酸碱输送供应管道时,都喜欢选择华林科纳的高纯PFA管,选择华林科纳生产的高纯PFA管作为化学品酸碱输送供应管道有以下几个重要原因: 1、优异的化学稳定性
2023-09-13 17:29:48266 ▌峰会简介第五届意法半导体工业峰会即将启程,现我们敬邀您莅临现场,直击智能热点,共享前沿资讯,通过意法半导体核心技术,推动加快可持续发展计划,实现突破性创新~报名链接:https
2023-09-11 15:43:36
我们华林科纳讨论了在InP、GaAs、GaN、AlN和ZnO等化合物半导体中氢和/或氦注入引起的表面起泡和层分裂。起泡现象取决于许多参数,例如半导体材料、离子注量、离子能量和注入温度。给出了化合物
2023-09-04 17:09:31317 湿法腐蚀在半导体工艺里面占有很重要的一块。不懂化学的芯片工程师是做不好芯片工艺的。
2023-08-30 10:09:041705 光刻蚀(Photolithography)是一种在微电子和光电子制造中常用的加工技术,用于制造微细结构和芯片元件。它的基本原理是利用光的化学和物理作用,通过光罩的设计和控制,将光影投射到光敏材料上,形成所需的图案。
2023-08-24 15:57:422270 随着科技的快速发展,半导体技术已经渗透到我们生活的方方面面,从手机、电脑到各种高精尖的工业设备中。而在这些技术背后,金作为一种贵金属,以其独特的物理和化学性质在半导体领域中扮演着不可替代的角色。
2023-08-19 11:42:36660 半导体技术在当今社会已成为高科技产品的核心,而在半导体制造的各个环节中,铜凭借其出色的性能特点,已成为众多工艺应用的关键材料。在半导体领域中,铜主要被用于制造互连线路。在传统的互连制造中,铜通常被用作通过化学气相淀积(CVD)或物理气相沉积(PVD)技术沉积在金属膜上。
2023-08-19 11:41:15738 半导体制造需要来自世界各地的各种材料。据tsmc的2022年年报,tsmc由12家企业向世界最大规模的纯晶片工厂供应化学产品,由法国液化空气(Air Liquide)、美国空气化工(Air
2023-08-17 11:06:35362 据泰州科技消息,8月11日,江苏省产业技术研究院/长三角国家技术创新中心半导体先进陶瓷材料研究所正式揭牌落户江苏泰兴高新区。
2023-08-16 16:20:35532 半导体蚀刻设备是半导体製造过程中使用的设备。 化学溶液通过将晶片浸入化学溶液(蚀刻剂)中来选择性地去除半导体晶片的特定层或区域,化学溶液溶解并去除晶片表面所需的材料。
2023-08-15 15:51:58319 定制化合物半导体并将其集成到外国衬底上的能力可以带来卓越或新颖的功能,并对电子、光电子、自旋电子学、生物传感和光伏的各个领域产生潜在影响。这篇综述简要描述了实现这种异质集成的不同方法,重点介绍了离子
2023-08-14 17:03:50483 的影响。高纯PFA扩口接头采用高度纯净的PFA材料制造,确保管道系统中的流体不受杂质污染。这种高纯度的材料选择有助于维持制程的稳定性,降低产物缺陷率,从而提高光伏器件的性能和效率。 其次,半导体光伏工艺涉及许多化学反应和腐蚀性
2023-08-14 16:51:29275 在半导体前端工艺第三篇中,我们了解了如何制作“饼干模具”。本期,我们就来讲讲如何采用这个“饼干模具”印出我们想要的“饼干”。这一步骤的重点,在于如何移除不需要的材料,即“刻蚀(Etching)工艺”。
2023-08-10 15:06:10506 昂科烧录器支持Analog
Devices亚德诺半导体的超低功耗、独立式电量计IC MAX17201X
芯片烧录行业领导者-昂科技术近日发布最新的烧录软件更新及新增支持的芯片型号列表,其中昂科发布
2023-08-10 11:54:39
先楫半导体使用上怎么样?
2023-08-08 14:56:29
半导体材料是制作半导体器件和集成电路的电子材料,是半导体工业的基础。利用半导体材料制作的各种各样的半导体器件和集成电路,促进了现代信息社会的飞速发展。
2023-08-07 10:22:031979 刻蚀(Etching)的目的是在材料表面上刻出所需的图案和结构。刻蚀的原理是利用化学反应或物理过程,通过移除材料表面的原子或分子,使材料发生形貌变化。
2023-08-01 16:33:383908 发展。自2019年首次举办以来,世界半导体大会已经成长为行业内具有重要影响力的会议。本次大会由江苏省工业和信息化厅、江苏省半导体行业协会、南京江北新区管理委员会等
2023-07-31 23:04:59385 的成熟程度也间接决定了产品的良率和吞吐量。 这每一道工序中,都有所需的对应设备,比如光刻所需的EUV、DUV光刻机,刻蚀所需的干法、湿法刻蚀机,以及化学、物理气相沉积所需的CVD、PVD设备等等。光刻机作为半导体制造的核心
2023-07-30 03:24:481556 刻蚀和蚀刻实质上是同一过程的不同称呼,常常用来描述在材料表面上进行化学或物理腐蚀以去除或改变材料的特定部分的过程。在半导体制造中,这个过程常常用于雕刻芯片上的细微结构。
2023-07-28 15:16:594139 领军企业”的称号。 此次大会由江苏省工业和信息化厅和南京江北新区管理委员会共同主办,赛迪顾问股份有限公司、江苏省半导体行业协会、南京江北新区产业技术研创园、南京浦口经济技术开发区和南京润展国际展览有限公司共同承办,汇聚半导体领域行业协
2023-07-25 16:54:511039 未来发展。 自2019年首次举办以来,世界半导体大会已经成长为行业内具有重要影响力的会议。本次大会由江苏省工业和信息化厅、江苏省半导体行业协会、南京江北新区管理委员会等多家单位联合组织。同期的专业展会展览面积达20000平方米,围绕
2023-07-20 17:45:04295 陶氏化学公司是粘合剂,辅助剂等在内的多种材料提供的高纯度化学产品生产线的半导体核心化学材料的主要供应商,也供应全球重要的CMP材料包括抛光垫、抛光液等。
2023-07-18 09:59:07613 由华林科纳举办的2023泛半导体湿法交流会第五期:化学流体系统技术与应用交流会在江苏南通市成功召开。会议共邀请42家企业参会,参会人员96人。本期交流会安排了学术技术交流报告、流体展示
2023-07-14 08:47:03356 从当前国内功率半导体产业整体来看,呈现产业链完整、厂家数量多、发展迅速等特点。按区域来看,目前中国功率半导体企业主要分布在长三角和珠三角等地。据统计,截至2022年6月底,广东共有相关功率半导体企业数114家,江苏则有82家。
2023-07-13 11:36:34641 在半导体制造过程中,每个半导体元件的产品都需要经过数百道工序。这些工序包括前道工艺和后道工艺,前道工艺是整个制造过程中最为重要的部分,它关系到半导体芯片的基本结构和特性的形成,涉及晶圆制造、沉积、光刻、刻蚀等步骤,技术难点多,操作复杂。
2023-07-11 11:25:552897 半导体产业往往指以半导体材料为基础的整个产业链生态,这里可以包括半导体材料的生产(属于化学产业),利用半导体材料生产加工的产业,帮助半导体材料生产加工的工具设计及生产产业......是一个非常广泛的产业链体系。
2023-07-11 11:16:233952 国内半导体产业的行业盛会将在上海如期举行,华林科纳将为您带来超全面且领先的湿法解决方案,并携泛半导体湿法装备服务平台亮相SEMICON China,与上下游企业进行一对一交流,为企业发展瓶颈找到
2023-07-04 17:01:30251 半导体同时具有“导体”的特性,因此允许电流通过,而绝缘体则不允许电流通过。离子注入工艺将杂质添加到纯硅中,使其具有导电性能。我们可以根据实际需要使半导体导电或绝缘。 重复光刻、刻蚀和离子注入步骤会在
2023-07-03 10:21:572170 在前几篇文章(点击查看),我们一直在借用饼干烘焙过程来形象地说明半导体制程 。在上一篇我们说到,为制作巧克力夹心,需通过“刻蚀工艺”挖出饼干的中间部分,然后倒入巧克力糖浆,再盖上一层饼干层。“倒入巧克力糖浆”和“盖上饼干层”的过程在半导体制程中就相当于“沉积工艺”。
2023-06-29 16:56:17830 在上一篇文章,我们介绍了光刻工艺,即利用光罩(掩膜)把设计好的电路图形绘制在涂覆了光刻胶的晶圆表面上。下一步,将在晶圆上进行刻蚀工艺,以去除不必要的材料,只保留所需的图形。
2023-06-28 10:04:58843 Dimension, CD)小型化(2D视角),刻蚀工艺从湿法刻蚀转为干法刻蚀,因此所需的设备和工艺更加复杂。由于积极采用3D单元堆叠方法,刻蚀工艺的核心性能指数出现波动,从而刻蚀工艺与光刻工艺成为半导体制造的重要工艺流程之一。
2023-06-26 09:20:10816 突破GaN功率半导体的速度限制
2023-06-25 07:17:49
升级到半桥GaN功率半导体
2023-06-21 11:47:21
7月19-21日,由江苏省工业和信息化厅、南京江北新区管理委员会主办的2023世界半导体大会暨南京国际半导体博览会,将亮相南京国际博览中心。 除了打造开幕式暨高峰论坛、高质量发展企业家峰会、创新
2023-06-21 10:40:38459 GaN功率半导体在快速充电市场的应用(氮化镓)
2023-06-19 11:00:42
GaNFast功率半导体建模(氮化镓)
2023-06-19 07:07:27
尿液分析仪用于快速分析尿液中的各种成分,检测尿液中的病理变化,为医生诊断疾病提供依据。半导体制冷器在尿液分析仪中的工作原理主要是利用半导体的热电制冷效应产生低温,为化学发光检测等提供稳定的低温环境
2023-06-18 10:07:10455 在半导体制程工艺中,有很多不同名称的用于移除多余材料的工艺,如“清洗”、“刻蚀”等。如果说“清洗”工艺是把整张晶圆上多余的不纯物去除掉,“刻蚀”工艺则是在光刻胶的帮助下有选择性地移除不需要的材料,从而创建所需的微细图案。半导体“刻蚀”工艺所采用的气体和设备,在其他类似工艺中也很常见。
2023-06-15 17:51:571177 江苏昆山 6月7日,2023昆山市(深圳)招商推介会举行,期间,同兴达半导体封装项目签约落户江苏昆山。 据“金千灯”消息显示,深圳同兴达科技股份有限公司计划在千灯镇与日月光(昆山)半导体有限公司合作,投资兴建先进封装技术的
2023-06-12 09:37:08831 5月18日-5月19日,由华林科纳举办的2023泛半导体湿法交流会第五期:化学流体系统技术与应用交流会在江苏南通市成功召开。会议共邀请42家企业参会,参会人员96人。本期交流会安排了学术技术交流报告、流体展示及实操等多种形式的活动,交流高纯流体在湿法领域的技术与应用,并展示了超100种高纯流体产品。
2023-06-09 17:30:34418 根据中国集成电路产业人才白皮书数据来看,目前行业内从业人员仅46w左右,人才缺口仍有30w之 巨 。在国内半导体行业快速发展的当下,定位、抢夺优质人才是企业未来长期发展的基石。
那么每年秋招就是赢得
2023-06-01 14:52:23
半导体迄今为止共经历了三个发展阶段:第一代半导体以硅(Si)、锗(Ge)为代表;第二代半导体以砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等化合物为代表;第三代半导体是以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN
2023-05-05 17:46:226173 图案化工艺包括曝光(Exposure)、显影(Develope)、刻蚀(Etching)和离子注入等流程。
2023-04-28 11:24:271073 经过氧化、光刻、刻蚀、沉积等工艺,晶圆表面会形成各种半导体元件。半导体制造商会让晶圆表面布满晶体管和电容(Capacitor);
2023-04-28 10:04:52532 日前,英国品牌估值咨询公司“品牌金融”(Brand Finance)发布最新“全球半导体品牌价值20强(Brand Finance Semiconductor 20 2023)”报告。报告显示,在
2023-04-27 10:09:27
本篇要讲的金属布线工艺,与前面提到的光刻、刻蚀、沉积等独立的工艺不同。在半导体制程中,光刻、刻蚀等工艺,其实是为了金属布线才进行的。在金属布线过程中,会采用很多与之前的电子元器件层性质不同的配线材料(金属)。
2023-04-25 10:38:49986 试述为什么金属的电阻温度系数是正的而半导体的是负的?
2023-04-23 11:27:04
等离子体均匀性和等离子体位置的控制在未来更加重要。对于成熟的技术节点,高的产量、低的成本是与现有生产系统竞争的关键因素。如果可以制造低成本的可靠的刻蚀系统,从长远来看,可以为客户节省大量费用,有可能
2023-04-21 09:20:221349 [技术领域] 本实用新型涉及半导体制造技术领域,具体地说是一种酸性化学品供应控制系 统。 由于半导体行业中芯片生产线的工作对象是硅晶片,而能在硅晶片上蚀刻图形 以及清洗硅晶片上的杂质、微粒子的化学
2023-04-20 13:57:0074 全国领先的制造干湿制程设备、自动供/排液系统等设备的设计生产商江苏英思特半导体科技有限公司于4月14日亮相2023慕尼黑上海电子生产设备展。
2023-04-20 09:19:22433 压力主要控制刻蚀均匀性和刻蚀轮廓,同时也能影响刻蚀速率和选择性。改变压力会改变电子和离子的平均自由程(MFP),进而影响等离子体和刻蚀速率的均匀性。
2023-04-17 10:36:431922 金属刻蚀具有良好的轮廓控制、残余物控制,防止金属腐蚀很重要。金属刻蚀时铝中如果 有少量铜就会引起残余物问题,因为Cu Cl2的挥发性极低且会停留在晶圆表面。
2023-04-10 09:40:542330 DRAM栅工艺中,在多晶硅上使用钙金属硅化物以减少局部连线的电阻。这种金属硅化物和多晶硅的堆叠薄膜刻蚀需要增加一道工艺刻蚀W或WSi2,一般先使用氟元素刻蚀钧金属硅化合物层,然后再使用氯元素刻蚀多晶硅。
2023-04-07 09:48:162198
评论
查看更多