行业背景 随着工业技术的不断发展，物联网作为新兴生产力正在改变许多行业的工作方式。在半导体芯片行业，自动蚀刻机的物联网应用正在助力企业达到监控设备更加便利、故障运维更加高效、数据分析更加精准等等
2024-03-20 17:52:39
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UV耐候试验机-UV耐候试验箱厂家-高格科技仪器一、设备用途：本试验设备模拟由太阳紫外光引起之破坏，通过将被测材料暴露于受控高温下光照中，来对材料进行耐侯测试。它用紫外线灯管模拟阳光的辐射作用，通过
2024-03-19 17:05:47
4 针位圆形连接器 插头外壳 自由悬挂 底壳，防紫外线
2024-03-14 23:20:06
4 针位圆形连接器 插座外壳 面板安装 防紫外线
2024-03-14 23:20:00
6 针位圆形连接器 插座外壳 面板安装 防紫外线
2024-03-14 23:20:00
4 针位圆形连接器 插座外壳 自由悬挂 底壳，防紫外线
2024-03-14 23:19:55
8 针位圆形连接器 插座外壳 自由悬挂 底壳，防紫外线
2024-03-14 23:19:55
6 针位圆形连接器 插座外壳 面板安装 防紫外线
2024-03-14 23:19:53
根据已公开的研究报告，东京电子的新式蚀刻机具备在极低温环境下进行高速蚀刻的能力。据悉，该机器可在33分钟内完成10微米的蚀刻工作。此外，设备使用了新开发的激光气体，搭配氩气和氟化碳气体以提升工艺水平。
2024-02-18 15:00:22109 蚀刻时间和过氧化氢浓度对ZnO玻璃基板的影响 本研究的目的是确定蚀刻ZnO薄膜的最佳技术。使用射频溅射设备在玻璃基板上沉积ZnO。为了蚀刻ZnO薄膜，使用10%、20%和30%的过氧化氢（H2O2
2024-02-02 17:56:45306 
什么是紫外线传感器？它的结构分类有哪些？ 紫外线传感器是一种能够测量、检测和监测紫外线辐射的电子传感器。紫外线属于电磁波谱的一部分，波长范围在185纳米到400纳米之间。紫外线传感器主要用于科学研究
2024-02-02 15:05:16221 请问如何通过AURIX辅助其他SOC实现功能安全设计？
2024-01-24 07:05:07
通常正片工艺是以碱性蚀刻工艺为基础的。底片上面，所需的路径或铜表面是黑色的，而不需要的部分是完全透明的。同样，在路线工艺曝光后，完全透明的部分被暴露在紫外线下的干膜阻滞剂的化学作用硬化，随后的显影过程将在下一工序中冲走无硬衬底的干膜
2024-01-17 15:33:35163 过程中起着重要的作用。这种制造过程通常需要与埋着的SiGe薄膜接触。与这些埋地区域接触需要蚀刻硅并在薄薄的SiGe层中停止。 因此，为了实现精确的图案转移，我们需要一种可控蚀刻的方法。不幸的是，针对SiGe选择性的RIE技术尚未被发现。幸运的是
2023-12-28 10:39:51131 
在微电子制造领域，光刻机和蚀刻机是两种不可或缺的重要设备。它们在制造半导体芯片、集成电路等微小器件的过程中发挥着关键作用。然而，尽管它们在功能上有所相似，但在技术原理、应用场景等方面却存在着明显的区别。本文将对光刻机和蚀刻机的差异进行深入探讨。
2023-12-16 11:00:09371 
技术提供了典型应用。蚀刻工艺对器件特性有着较大的影响，尤其是在精确控制蚀刻深度和较小化等离子体损伤的情况下影响较大。
2023-12-13 09:51:24294 
另外一种工艺方法是整个板子上都镀铜，感光膜以外的部分仅仅是锡或铅锡抗蚀层。这种工艺称为“全板镀铜工艺“。与图形电镀相比，全板镀铜的缺点是板面各处都要镀两次铜而且蚀刻时还必须都把它们腐蚀掉。
2023-12-06 15:03:45261 按工艺要求排放出部分比重高的溶液经分析后补加氯化铵和氨的水溶液，使蚀刻液的比重调整到工艺充许的范围。
2023-12-06 15:01:46285 GaN作为宽禁带III-V族化合物半导体最近被深入研究。为了实现GaN基器件的良好性能，GaN的处理技术至关重要。目前英思特已经尝试了许多GaN蚀刻方法，大部分GaN刻蚀是通过等离子体刻蚀来完成
2023-12-01 17:02:39259 
由于其独特的材料特性，III族氮化物半导体广泛应用于电力、高频电子和固态照明等领域。加热的四甲基氢氧化铵(TMAH)和KOH3处理的取向相关蚀刻已经被用于去除III族氮化物材料中干法蚀刻引起的损伤，并缩小垂直结构。
2023-11-30 09:01:58166 
便携式气象参数检测仪WX-BQX5P能够实时监测气象参数，如温度、湿度、气压、紫外线等，让人们随时随地掌握天气变化，为自己的出行和生活提供更加便捷的服务。这款仪器能够实时监测气象参数，让人们及时了解
2023-11-28 15:37:06
目前，大多数III族氮化物的加工都是通过干法等离子体蚀刻完成的。干法蚀刻有几个缺点，包括产生离子诱导损伤和难以获得激光器所需的光滑蚀刻侧壁。干法蚀刻产生的侧壁典型均方根(rms)粗糙度约为50纳米
2023-11-24 14:10:30241 
紫外线老化试验机在日常操作中会出现这样或者那样的问题,下面艾思荔小编为大家具体介绍一下：一.紫外灯管点不亮。紫外线试验主要依靠紫外灯管来照射产品,所以紫外灯源很重要,为保障光源的稳定性和均匀
2023-11-24 11:49:26355 
PrescientX的创始人兼首席执行官巴里•亨特（Barry Hunt）表示，这间办公室代表了一种未来可能性——如果未来像新冠肺炎这样的疫情变得更加常见，紫外线杀菌灯是我们战胜它们的一种最有力的武器。
2023-11-21 16:48:35376 
蚀刻设备的结构及不同成分的蚀刻液都会对蚀刻因子或侧蚀度产生影响，或者用乐观的话来说，可以对其进行控制。采用某些添加剂可以降低侧蚀度。这些添加剂的化学成分一般属于商业秘密，各自的研制者是不向外界透露的。至于蚀刻设备的结构问题，后面的章节将专门讨论。
2023-11-14 15:23:10217 光刻是芯片制造的重要环节。以光源波长划分，光刻机分为UV（紫外线）、DUV（深紫外线）、EUV（极紫外线），理论上7纳米及以下的先进芯片制程工艺只能通过EUV实现。
2023-11-12 11:33:14627 
自动蚀刻机是利用电解作用或化学反应对金属板进行处理，以获得所需图纹、花纹、几何形状的自动化设备，广泛应用于芯片、数码、航空、机械、标牌等领域中。现有一家蚀刻机设备制造商，要求对全国各地的蚀刻机设
2023-11-08 13:59:52146 
利用水、工业废水处理站出水等场景。 PLC自动化控制系统在污水处理行业的应用越来越广泛，可以提高污水处理工艺的精确控制与自动化控制，具备良好的操作性与稳定性。通过物通博联工业智能网关接入到紫外线消毒设备PLC中，实现设备数据采集并传
2023-11-03 17:22:40196 
波长多少的紫外线led适合做uv漆的光固化？
2023-11-02 08:08:23
干法蚀刻（dry etch）工艺通常由四个基本状态构成：蚀刻前（before etch），部分蚀刻（partial etch），蚀刻到位（just etch），过度蚀刻（over etch），主要表征有蚀刻速率，选择比，关键尺寸，均匀性，终点探测。
2023-10-18 09:53:19788 
在精细印制电路制作过程中，喷淋蚀刻是影响产品质量合格率重要的工序之一。现有很多的文章对精细线路的蚀刻做了大量的研究，但是大多数都只停留在表象的研究中，并没有从本质上认识喷淋蚀刻中出现的问题。
2023-10-17 15:15:35164 
蚀刻液的化学成分的组成：蚀刻液的化学组分不同，其蚀刻速率就不相同，蚀刻系数也不同。如普遍使用的酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常是&；碱性氯化铜蚀刻液系数可达3.5-4。而正处在开发阶段的以硝酸为主的蚀刻液可以达到几乎没有侧蚀问题，蚀刻后的导线侧壁接近垂直。
2023-10-16 15:04:35553 据悉，东京电子新技术的目标是能够长时间储存数据的3d nand闪存。该公司开发了一种新的通道孔蚀刻方法，该方法是将垂直孔快速深插入存储单元。3D nand的存储器容量可以通过将存储器单元层垂直堆积来增加，如果层数增加，就需要性能更高的装置。
2023-10-16 14:39:49368 电子发烧友网为你提供ADI(ADI)MAX17614:4.5V至60V、3A、理想二极极/有当前限制的电源选择器、紫外线、OV保护数据表相关产品参数、数据手册，更有MAX17614:4.5V至60V
2023-10-08 16:47:50
GaN及相关合金可用于制造蓝色/绿色/紫外线发射器以及高温、高功率电子器件。由于 III 族氮化物的湿法化学蚀刻结果有限，因此人们投入了大量精力来开发干法蚀刻工艺。干法蚀刻开发一开始集中于台面结构，其中需要高蚀刻速率、各向异性轮廓、光滑侧壁和不同材料的同等蚀刻。
2023-10-07 15:43:56319 
紫外线老化试验箱又称紫外光耐候试验箱，紫外光老化测试机，耐光照试验箱，抗紫外线老化试验机，老化试验箱等等，虽然这一设备在名称方面各不相同，可它们的使用性能状况却是一样的。为了使设备安全放心的为我们
2023-10-07 11:08:48200 
用微型光谱仪验证“透明镜片"对眼部紫外线防护效果背景众所周知，长时间的眼部紫外线照射会影响长期的眼部健康。虽然通常可以通过纺织品或涂抹防晒霜来有效保护皮肤，但对眼睛敏感组织和周围皮肤进行
2023-09-26 08:17:48292 
铜的电阻率取决于其晶体结构、空隙体积、晶界和材料界面失配，这在较小的尺度上变得更加重要。传统上，铜(Cu)线的形成是通过使用沟槽蚀刻工艺在低k二氧化硅中蚀刻沟槽图案，然后通过镶嵌流用Cu填充沟槽来完成的。
2023-09-22 09:57:23281 
空气质量对我们的身体健康和生活质量有着重要的影响，紫外线空气净化处理设备的使用也越来越普遍。紫外线传感器作为空气处理设备的重要组成部分，发挥着重要的作用。 紫外线是太阳辐射的一种，紫外线可以促进伤口
2023-09-21 10:14:35489 
一站式PCBA智造厂家今天为大家讲讲pcb打样蚀刻工艺注意事项有哪些?PCB打样蚀刻工艺注意事项。PCB打样中，在铜箔部分预镀一层铅锡防腐层，保留在板外层，即电路的图形部分，然后是其余的铜箔被化学方法腐蚀，称为蚀刻。
2023-09-18 11:06:30669 要注意的是，蚀刻时的板子上面有两层铜。在外层蚀刻工艺中仅仅有一层铜是必须被全部蚀刻掉的，其余的将形成最终所需要的电路。这种类型的图形电镀,其特点是镀铜层仅存在于铅锡抗蚀层的下面。
2023-09-07 14:41:12474 
直接蚀刻和剥离是两种比较流行的图案转移工艺。在直接蚀刻工艺中，首先使用光刻技术对聚合物抗蚀剂进行构图，然后通过干法蚀刻技术用抗蚀剂作为掩模将图案转移到衬底或子层上。
2023-09-07 09:57:14292 
在印制板外层电路的加工工艺中，还有另外一种方法，就是用感光膜代替金属镀层做抗蚀层。这种方法非常近似于内层蚀刻工艺，可以参阅内层制作工艺中的蚀刻。
2023-09-06 09:36:57811 
我们华林科纳通过光学反射光谱半实时地原位监测用有机碱性溶液的湿法蚀刻，以实现用于线波导的氢化非晶硅（a-Si:H）膜的高分辨率厚度控制。由a-Si:H的本征各向同性结构产生的各向同性蚀刻导致表面
2023-08-22 16:06:56239 
半导体蚀刻设备是半导体製造过程中使用的设备。 化学溶液通过将晶片浸入化学溶液（蚀刻剂）中来选择性地去除半导体晶片的特定层或区域，化学溶液溶解并去除晶片表面所需的材料。
2023-08-15 15:51:58319 ，我们描述了一种创造性的解决方案，它在紫外线波长下提供了出色的性能。我们描述了在120至300nm波长下理论量子效率（QEs）大于60%的涂层CCD探测器的开发进展。这种高效率可以通过用一系列薄膜AR涂层涂覆背面照明的、减薄的、delta掺杂的C
2023-08-11 17:13:56227 
用于深紫外线传感应用的GaN型紫外线传感器。
与Si型紫外线传感器相比，新产品对UV-B和UV-C深紫外线具有更高的灵敏度。
通过使用GaN,产品的灵敏度是Si型UV传感器的三倍。
2023-08-11 11:50:40261 
PCB蚀刻工艺中的“水池效应”现象，通常发生在顶部，这种现象会导致大尺寸PCB整个板面具有不同的蚀刻质量。
2023-08-10 18:25:431013 紫外辐射传感器采用光电测探器，接收紫外光波电信号。该产品用来测量大气中的太阳紫外线辐射（UVAB波长范围）的精密仪器，与数据采集仪配合使用可提供公众所关心的信息：UV指数、UV红斑测量，UV对人体
2023-08-07 14:06:0391 
刻蚀和蚀刻实质上是同一过程的不同称呼，常常用来描述在材料表面上进行化学或物理腐蚀以去除或改变材料的特定部分的过程。在半导体制造中，这个过程常常用于雕刻芯片上的细微结构。
2023-07-28 15:16:594140 紫外老化试验箱是一种用于模拟自然环境中的紫外线、湿度和温度对材料老化影响的设备。它被广泛用于研究材料的耐久性、性能和可靠性，是产品质量控制和研发过程中不可或缺的实验设备。上海和晟HS系列紫外老化试验
2023-07-20 11:20:01514 
蚀刻是一种从材料上去除的过程。基片表面上的一种薄膜基片。当掩码层用于保护特定区域时在晶片表面，蚀刻的目的是“精确”移除未覆盖的材料戴着面具。
2023-07-14 11:13:32183 
什么叫UVC紫外线呢？UVC紫外线是电磁辐射的一种类型，处于紫外线光谱中的一部分。紫外线（Ultraviolet Radiation）是指波长介于可见光和X射线之间的电磁辐射，它被分为三个主要区域：UVA、UVB和UVC。
2023-07-14 09:42:35314 
蚀刻是一种从材料上去除的过程。基片表面上的一种薄膜基片。当掩码层用于保护特定区域时在晶片表面，蚀刻的目的是“精确”移除未覆盖的材料戴着面具。
2023-07-12 09:26:03190 
紫外线加速试验机(控制器上直接设定幅照度）一、产品参数工作室尺寸：1140mm×400mm×380mm 外形尺寸：1300mm×500mm×1460mm 灯的中心距离：70mm
2023-07-03 19:29:58
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2023-06-30 15:10:04
0 紫外线无损检测灯
2023-06-29 15:45:23478 
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2023-06-28 10:59:360 随着集成电路互连线的宽度和间距接近3pm，铝和铝合金的等离子体蚀刻变得更有必要。为了防止蚀刻掩模下的横向蚀刻，我们需要一个侧壁钝化机制。尽管AlCl和AlBr都具有可观的蒸气压，但大多数铝蚀刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
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2023-06-27 10:05:420 CMOS和MEMS制造技术，允许相对于其他薄膜选择性地去除薄膜，在器件集成中一直具有很高的实用性。这种化学性质非常有用，但是当存在其他材料并且也已知在HF中蚀刻时，这就成了问题。由于器件的静摩擦、缓慢的蚀刻速率以及横向或分层膜的蚀刻速率降低，湿法化学也会有问题。
2023-06-26 13:32:441053 
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2023-06-26 10:36:210 电子发烧友网站提供《Pinaka:UVD(紫外线消毒)机器人开源分享.zip》资料免费下载
2023-06-25 14:22:110 步骤的工艺中的实时 EPD. 这是通过高信噪比 SNR 实现的, 从而避免了 OES 设备中常见的模棱两可和复杂的多变量分析算法.
2023-06-20 17:28:31258 
上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大口径射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200mm 硅片蚀刻, 刻蚀
2023-06-15 14:58:47665 
器件尺寸的不断缩小促使半导体工业开发先进的工艺技术。近年来，原子层沉积(ALD)和原子层蚀刻(ALE)已经成为小型化的重要加工技术。ALD是一种沉积技术，它基于连续的、自限性的表面反应。ALE是一种蚀刻技术，允许以逐层的方式从表面去除材料。ALE可以基于利用表面改性和去除步骤的等离子体或热连续反应。
2023-06-15 11:05:05526 
【产品介绍】紫外老化试验箱适用于非金属材料的耐阳光和人工光源的老化试验。源采用8只额定功率为40W的紫外荧光灯作发光源。紫外线荧光灯管，分布在机器的两侧，每侧各4只（有UVA-340和UVB-313
2023-06-14 15:20:45250 
为了提供更优良的静电完整性，三维(3D)设计（如全围栅(GAA)场电子晶体管(FET )）预计将在互补金属氧化物半导体技术中被采用。3D MOS架构为蚀刻应用带来了一系列挑战。虽然平面设备更多地依赖于各向异性蚀刻，但是3D设备在不同材料之间具有高选择性，需要更多的各向异性蚀刻能力。
2023-06-14 11:03:531779 
概述：
SB-FSS06 是一款基于C2M低代码核心模组开发的《4G_Lora远程紫外线监测器》设备，可实现4G或Lora远程获取紫外线强度值的功能。该设备的配置方式极其简单，用户无需在电脑端
2023-06-13 10:13:32
本身温度大于绝对零度的物体，都可以发射电磁波；电磁波从低频率到高频率，包括无线电波、微波、红外线、可见光、紫外线、X-射线和伽马射线等。光也是一种电磁波，紫外线通常是指波长在100—400nm之间的电磁波，相对于人眼不可见。
2023-06-07 16:30:54683 
等离子体蚀刻是氮化镓器件制造的一个必要步骤，然而，载体材料的选择可能会实质上改变蚀刻特性。在小型单个芯片上制造氮化镓（GaN）设备，通常会导致晶圆的成本上升。在本研究中，英思特通过铝基和硅基载流子来研究蚀刻过程中蚀刻速率、选择性、形貌和表面钝化的影响。
2023-05-30 15:19:54452 
纳米片工艺流程中最关键的蚀刻步骤包括虚拟栅极蚀刻、各向异性柱蚀刻、各向同性间隔蚀刻和通道释放步骤。通过硅和 SiGe 交替层的剖面蚀刻是各向异性的，并使用氟化化学。优化内部间隔蚀刻（压痕）和通道释放步骤，以极低的硅损失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071 
过去利用碱氢氧化物水溶液研究了硅的取向依赖蚀刻，这是制造硅中微结构的一种非常有用的技术。以10M氢氧化钾（KOH）为蚀刻剂，研究了单晶硅球和晶片的各向异性蚀刻过程，测量了沿多个矢量方向的蚀刻速率，用单晶球发现了最慢的蚀刻面。英思特利用这些数据，提出了一种预测不同方向表面的倾角的方法
2023-05-29 09:42:40618 
微孔利用光和物质的相互作用来获得独特的性质，特别是，当用紫外光、可见光或近红外光在其表面等离子体极化频率附近照射时，金属微孔结构表现出强烈的共振。然而，用于制造微孔的技术是耗时的，并且需要昂贵的设备和专业人员。因此，英思特开发了一种通过湿化学蚀刻硅衬底来制造微孔的方法。
2023-05-25 13:47:51846 
UV三防漆（电防胶）是一种通过紫外线辐射固化的涂料，其固化速度快的特点可有效防止漆膜表面起皱、脱落等现象发生。但是在实际施胶过程中，UV三防漆固化速度会受不同因素影响，那么影响UV三防漆的固化速度
2023-05-22 10:31:26362 
蚀刻可能是湿制程阶段最复杂的工艺，因为有很多因素会影响蚀刻速率。如果不保持这些因素的稳定，蚀刻率就会变化，因而影响产品质量。如果希望利用一种自动化方法来维护蚀刻化学，以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31575 
一般适用于多层印制板的外层电路图形的制作或微波印制板阴板法直接蚀刻图形的制作抗蚀刻 图形电镀之金属抗蚀层如镀覆金、镍、锡铅合金
2023-05-18 16:23:484917 蚀刻是微结构制造中采用的主要工艺之一。它分为两类：湿法蚀刻和干法蚀刻，湿法蚀刻进一步细分为两部分，即各向异性和各向同性蚀刻。硅湿法各向异性蚀刻广泛用于制造微机电系统(MEMS)的硅体微加工和太阳能电池应用的表面纹理化。
2023-05-18 09:13:12700 
抛光硅晶片是通过各种机械和化学工艺制备的。首先，硅单晶锭被切成圆盘（晶片），然后是一个称为拍打的扁平过程，包括使用磨料清洗晶片。通过蚀刻消除了以往成形过程中引起的机械损伤，蚀刻之后是各种单元操作，如抛光和清洗之前，它已经准备好为设备制造。
2023-05-16 10:03:00584 
光刻机用UV光源，其通过特殊光学设计发射出接近平行光的UV平行光，使特定波段的紫外线通过掩膜掩孔对集成电路高精密线路完成蚀刻曝光显影的工作。
2023-05-11 10:34:283159 
文件杀菌机的想法
目前针对文件杀菌的设备很少，主要用于臭氧杀菌，或紫外线照射杀菌。无法对文件内部，或堆叠的文件内页进行杀菌。
想利用静电原理，或者电荷释放使纸张带同种电荷，然后相互排斥，以达到成堆
2023-05-04 15:24:28
在这篇文章中，我们将讨论直流紫外线杀菌灯镇流器电路的结构，该电路可用于通过12V直流电源驱动任何标准的20瓦紫外线灯。
2023-04-29 17:21:007152 
在昨天测试紫外线灯管击穿电压实验中， 灯丝没有加热。 对应的击穿电压为1308V， 如果将灯丝进行加热， 能够在多大程度上降低紫外线灯管的击穿电压呢？ 我们知道电子是从阴极发射的， 所以下面通过实验测试一下对于阴极灯丝加热之后， 紫外线灯管的击穿电压是多少。
2023-04-24 13:45:30358 
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》 文章：单晶的湿法蚀刻和红外吸收 编号：JFKJ-21-206 作者：炬丰科技 摘要 采用湿法腐蚀、x射线衍射和红外吸收等方法研究了物理气相色谱法生长AlN单晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118 波长的紫外线水平不足以影响光刻胶。 黑色墨水透明胶片通过销钉固定，以防止与面板对齐。当面板和钢网接触时，发生器会用高强度的紫外线将其喷砂，从而使光致抗蚀剂硬化。然后，面板进入机器，该机器去除未硬化的抗蚀剂
2023-04-21 15:55:18
在昨天测试紫外线灯管击穿电压实验中， 灯丝没有加热。 对应的击穿电压为1308V， 如果将灯丝进行加热， 能够在多大程度上降低紫外线灯管的击穿电压呢？ 我们知道电子是从阴极发射的， 所以下面通过实验测试一下对于阴极灯丝加热之后， 紫外线灯管的击穿电压是多少。
2023-04-19 11:45:05320 
反应离子蚀刻 (RIE)是一种干法蚀刻工艺，与半导体工业中使用的互补金属氧化物半导体(CMOS)方法兼容。
2023-04-14 14:26:161253 
干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法蚀刻）还是气体（干法蚀刻）
2023-04-12 14:54:331004 经过多年的研发，随着该行业在内存和逻辑方面面临新的挑战，一种称为低温蚀刻的技术正在重新出现，成为一种可能的生产选择。
2023-03-29 10:14:41392 
印刷线路板从光板到显出线路图形的过程是一个比较复杂的物理和化学反应的过程，本文就对其最后的一步--蚀刻进行解析。目前,印刷电路板(PCB)加工的典型工艺采用"图形电镀法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886 研究表明，半导体的物理特性会根据其结构而变化，因此半导体晶圆在组装成芯片之前被蚀刻成可调整其电气和光学特性以及连接性的结构。
2023-03-28 09:58:34251 
在湿蚀刻的情况下，随着SiNx/SiOy层的厚度减小，剩余的SiOy层由于表面张力而坍塌，蚀刻溶液对孔的渗透变得更具挑战性。
2023-03-27 10:17:49402 
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