洁净室光刻工艺石墨烯生物传感器的制作

摘要

我们华林科纳研究了用于电解门制造的洁净室工艺用于生物传感的晶片尺度石墨烯场效应晶体管。 我们的制造该工艺克服了两个主要问题:去除石墨烯图案化后的表面残留物和金属触点的介质钝化。 无残留石墨烯转移过程是通过使用预转移，牺牲金属掩膜保护整个晶圆，除了周围区域石墨烯薄膜在其上转移和随后绘制的沟道、源极和漏极。在掩模溶解后，可以得到干净的栅电极。 多层二氧化硅/ SiNx介质钝化利用了SiO2对石墨烯和基材的良好附着力 材料和SiNx优异的抗渗性。 它阻碍天然成核中心和断裂缺陷的传播通过层，保护从长时间的暴露到所有的共同东西。在生物化学工作中发现的溶剂，与常用的聚合物钝化相反。 因为湿蚀刻不允许在要求的水平上控制光刻过程，即反应离子蚀刻提出了一种采用牺牲金属停止层的钝化工艺，并应用于钝化的图形化层。 该工艺实现了在晶圆规模上具有高重现性的器件。  

介绍  

自石墨剥离获得石墨烯以来，石墨烯已被大量探索应用由于其优异的性质，如高载流子迁移率，低本征电子噪声，化学稳定性，对附近电荷的高灵敏度， 记录地表体积比。 石墨烯已被用作各种电子生物传感系统，具有高灵敏度。 其中电化学传感器和场效应晶体管(fet)是最常见的。 石墨烯fet (gfet)利用了石墨烯对电场和电荷的灵敏度，以产生低工作状态下的传感器输出信号电压。 此外，gfet与传感器制造工艺[8]的升级兼容。

材料和方法 略

讨论与结果 略

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　　审核编辑：汤梓红