光刻胶不能太厚或太薄，需要按制程需求来定。比如对于需要长时间蚀刻以形成深孔的应用场景，较厚的光刻胶层能提供更长的耐蚀刻时间。
2024-03-04 10:49:16
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中图仪器VT6000系列共聚焦高精度三维显微镜基于光学共轭共焦原理，结合精密纵向扫描，以在样品表面进行快速点扫描并逐层获取不同高度处清晰焦点并重建出3D真彩图像，从而进行分析的精密光学仪器，一般用于
2024-02-21 13:55:40
光刻机是微电子制造的关键设备，广泛应用于集成电路、平面显示器、LED、MEMS等领域。在集成电路制造中，光刻机被用于制造芯片上的电路图案。
2024-01-29 09:37:24359 
中图仪器SuperViewW1白光干涉三维测量系统具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高
2024-01-12 11:37:08
。它们主要包括晶体管(三极管)、存储单元、二极管、电阻、连线、引脚等。
随着电子产品越来越“小而精，微薄”，半导体芯片和器件尺寸也日益微小，越来越微细，因此对于分析微纳芯片结构的精度要求也越来越高，在芯片
2024-01-02 17:08:51
引言 近年来，硅/硅锗异质结构已成为新型电子和光电器件的热门课题。因此，人们对硅/硅锗体系的结构制造和输运研究有相当大的兴趣。在定义Si/SiGe中的不同器件时，反应离子刻蚀法（RIE）在图案转移
2023-12-28 10:39:51131 
激光微纳加工技术利用激光脉冲与材料的非线性作用，可以<100nm精度实现传统方法难以实现的复杂功能结构和器件的增材制造。而激光直写（DLW）光刻是一项具有空间三维加工能力的微纳加工技术，在微纳集成器件制造中发挥着重要作用。
2023-12-22 10:34:20401 
在微电子制造领域，光刻机和蚀刻机是两种不可或缺的重要设备。它们在制造半导体芯片、集成电路等微小器件的过程中发挥着关键作用。然而，尽管它们在功能上有所相似，但在技术原理、应用场景等方面却存在着明显的区别。本文将对光刻机和蚀刻机的差异进行深入探讨。
2023-12-16 11:00:09371 
基于GaN的高电子迁移率，晶体管，凭借其高击穿电压、大带隙和高电子载流子速度，应用于高频放大器和高压功率开关中。就器件制造而言，GaN的相关材料，如AlGaN，凭借其物理和化学稳定性，为等离子体蚀刻
2023-12-13 09:51:24294 
现代激光加工，以超快激光加工为主，即使用高强度的超快激光进行材料加工。具有峰值功率高、热熔区域小、加工速度快和重复精度高的特点。 滨松LCOS-SLM则以其高精度的三维多点整形(通常使用CGH算法
2023-12-13 06:42:30169 
GaN作为宽禁带III-V族化合物半导体最近被深入研究。为了实现GaN基器件的良好性能，GaN的处理技术至关重要。目前英思特已经尝试了许多GaN蚀刻方法，大部分GaN刻蚀是通过等离子体刻蚀来完成
2023-12-01 17:02:39259 
在工业应用中，SuperViewW三维光学轮廓检测仪超0.1nm的纵向分辨能力能够高精度测量物体的表面形貌，可用于质量控制、表面工程和纳米制造等领域。与其它表面形貌测量方法相比，SuperViewW
2023-11-30 10:14:52
目前，大多数III族氮化物的加工都是通过干法等离子体蚀刻完成的。干法蚀刻有几个缺点，包括产生离子诱导损伤和难以获得激光器所需的光滑蚀刻侧壁。干法蚀刻产生的侧壁典型均方根(rms)粗糙度约为50纳米
2023-11-24 14:10:30241 
中图仪器GTS大尺寸三维空间测量仪激光跟踪仪是高精度、便携式的空间大尺寸坐标测量机，同时具高精度（μm级）、大工作空间（百米级）的高性能，能够解决大型、超大型工件和大型科学装置、工业母机等全域高精度
2023-11-15 09:26:26
蚀刻设备的结构及不同成分的蚀刻液都会对蚀刻因子或侧蚀度产生影响，或者用乐观的话来说，可以对其进行控制。采用某些添加剂可以降低侧蚀度。这些添加剂的化学成分一般属于商业秘密，各自的研制者是不向外界透露的。至于蚀刻设备的结构问题，后面的章节将专门讨论。
2023-11-14 15:23:10217 以最清晰明了的方式，图解直观阐述MEMS传感器芯片的制造过程和原理！ MEMS是Micro Electro Mechanical Systems（微机电系统）的缩写，具有微小的立体结构（三维结构），是处理各种输入、输出信号的系统的统称。 是利用微细加工技术，将机械零零件、电子电路
2023-11-02 08:37:09772 
中图仪器SuperViewW1白光干涉三维形貌测量仪用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量，以白光干涉技术为原理、结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D
2023-11-01 09:39:26
SuperView W1光学三维轮廓测量仪是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器。数秒内可以获得平面和曲面表面上测量所有常见的粗糙度参数。也可以选择拼接功能软件升级来组合多个
2023-10-30 09:24:38
光学光刻是通过广德照射用投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形画在涂有光刻胶的硅片上，通过光的照射，光刻胶的成分发生化学反应，从而生成电路图。限制成品所能获得的最小尺寸与光刻系统能获得的分辨率直接相关，而减小照射光源的波长是提高分辨率的最有效途径。
2023-10-24 11:43:15271 
WD4000半导体晶圆表面三维形貌测量设备自动测量Wafer厚度、表面粗糙度、三维形貌、单层膜厚、多层膜厚。可广泛应用于衬底制造、晶圆制造、及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、显示
2023-10-23 11:05:50
光刻胶作为影响光刻效果核心要素之一，是电子产业的关键材料。光刻胶由溶剂、光引发剂和成膜树脂三种主要成分组成，是一种具有光化学敏感性的混合液体。其利用光化学反应，经曝光、显影等光刻工艺，将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上，是用于微细加工技术的关键性电子化学品。
2023-10-09 14:34:491674 
Novator系列三维全自动影像测量仪将传统影像测量与激光测量扫描技术相结合，采用高精度光学成像技术和计算机数字处理技术，能够快速、准确地获取三维物体表面形态信息，并进行精密的尺寸、角度等多项测量
2023-10-08 09:17:18
提 出 了一 种 微 小 爬 壁 机 器 人 三 维 位 置 测 量 的新方 法 。笔 者 通 过 深 入 分 析 研 究各 种 位 置 测 控 方 法 与 系统 ，提 出采 用单 目视 觉方 法
2023-09-20 07:25:43
SuperViewW1三维白光干涉表面形貌仪采用光学干涉技术、精密Z向扫描模块和3D重建算法组成测量系统，高精度测量；隔振系统能够有效隔离频率2Hz以上绝大部分振动，消除地面振动噪声和空气中声波振动
2023-09-13 10:30:22
SuperViewW1国产三维白光干涉仪以白光干涉技术原理，结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对各种精密器件表面进行纳米级测量，通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌，专用于精密零部件之
2023-09-13 10:25:07
编辑：镭拓激光因三维激光切割设备作为一种切割具有复杂曲面三维件的激光加工设备，解决了具有复杂轮廓的高强度钢结构部件，不管是技术角度还是经济角度，三维激光切割是不可或缺的切割机设备，激光加工技术凭借
2023-09-12 16:31:36947 
SuperViewW1白光干涉仪三维轮廓仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时2分钟以内，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于
2023-09-07 09:25:42
在印制板外层电路的加工工艺中，还有另外一种方法，就是用感光膜代替金属镀层做抗蚀层。这种方法非常近似于内层蚀刻工艺，可以参阅内层制作工艺中的蚀刻。
2023-09-06 09:36:57811 
、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中，测量各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级
2023-09-04 11:44:34
众所周知，微机电系统(MEMS)严重依赖于集成电路制造中使用的材料，例如单晶硅。然而，由于金属、玻璃和压电陶瓷的特殊性质，这些材料在MEMS中的使用正在迅速增加。
2023-09-01 10:19:20204 
Mars系列三坐标三维测量仪是移动桥式的三坐标测量机。能够对各种零件和部件的尺寸、形状及相互位置关系进行检测，也可以对软材质或复杂零件进行光学扫描测量。可用于机械制造、汽车工业、电子工业、航空航天
2023-08-25 15:05:36
光刻蚀（Photolithography）是一种在微电子和光电子制造中常用的加工技术，用于制造微细结构和芯片元件。它的基本原理是利用光的化学和物理作用，通过光罩的设计和控制，将光影投射到光敏材料上，形成所需的图案。
2023-08-24 15:57:422270 结构的相互作用，金属纳米结构可以设计成对特定波长的光表现出强烈的反应。对于动态、可变的显示器，必须通过向设备施加电压来理想地控制这些共振波长的位置。来自德国的研究人员正在创建基于铜薄膜的设备，其中蚀刻有纳米结构，浸入电解质溶液中
2023-08-23 06:33:33215 
传感新品 【中山大学：基于三维组装微针离子传感器的生理离子波动透皮监测可穿戴系统】 新品亮点 1、降维加工法将片状微针组装成三维微针阵列； 2、基于三维微针阵列的离子传感微针阵列系统包含离子传感阵列
2023-08-21 17:19:49568 
CHOTEST中图仪器SuperViewW1三维白光形貌干涉仪集成X、Y、Z三个方向位移调整功能的操纵手柄，可快速完成载物台平移、Z向聚焦、找条纹等测量前工作。主要应用于半导体制造及封装工艺检测
2023-08-08 11:27:05
和共聚焦3D显微形貌检测技术，广泛应用于涉足超精密加工领域的三维形貌检测与表面质量检测方案。其中，VT6000系列共聚焦显微镜，在结构复杂且反射率低的表面3D微观形貌重构与检测方面具有不俗的表现。
一
2023-08-04 16:12:06
、高等数据的具体化，还可以精确测量工件的表面平面度。 CHOTEST中图仪器Novator系列三维光学影像测量仪是全自动影像测量仪，将传统影像测量与激光测
2023-07-31 09:05:19
CHOTEST中图仪器SuperViewW1白光干涉表面三维轮廓仪通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌，是一款对各种精密器件表面进行纳米级测量的仪器，专用于精密零部件之重点部位表面粗糙度、微小
2023-07-20 13:55:55
蔡司用于亚10纳米级应用的离子束显微镜ORION NanoFab,集 3 种聚焦离子束于一身的显微镜，可以实现亚 10 nm 结构的超高精度加工快速、精准的亚 10 纳米结构加工。借助 ORION
2023-07-19 15:45:07244 
GK-1000光刻掩膜版测温仪，光刻机曝光光学系统测温仪光刻机是一种用于微纳米加工的设备，主要用于制造集成电路、光电子器件、MEMS（微机电系统）等微细结构。光刻机是一种光学投影技术，通过将光线通过
2023-07-07 11:46:07
激光跟踪三维测量仪在大尺度空间测量工业科学仪器中具有高精度和重要性，是同时具有μm级别精度、百米工作空间的高性能光电仪器。 在大尺寸精密测量领域，激光跟踪仪具有测量范围大、精度高、功能多
2023-06-29 14:26:42
都使用Cl基蚀刻化学物质。当在等离子体放电中分解时，CCl为还原物质提供了来源，并用于去除表面氧化物和Cl，与下面的Al反应。
2023-06-27 13:24:11318 
CMOS和MEMS制造技术，允许相对于其他薄膜选择性地去除薄膜，在器件集成中一直具有很高的实用性。这种化学性质非常有用，但是当存在其他材料并且也已知在HF中蚀刻时，这就成了问题。由于器件的静摩擦、缓慢的蚀刻速率以及横向或分层膜的蚀刻速率降低，湿法化学也会有问题。
2023-06-26 13:32:441053 
的尺寸、形状及相互位置关系进行检测，也可以对软材质或复杂零件进行光学扫描测量。 中图仪器MarsClassic系列三维扫描仪移动桥架三坐标测量仪结构特点是开
2023-06-25 10:54:11
在数字化的大背景下，电池结构的数字化建模和管控成为研究热点。过去二十年中，层析成像工具的快速发展为研究人员提供了常规表征电池电极微结构的工具。锂离子电池材料的电化学和机械性能很大程度上取决于其三维微观结构特性，了解随机微观结构的定量影响对于预测材料特性和指导合成过程以及结构设计至关重要。
2023-06-21 15:29:33500 
激光跟踪仪是建立在激光和自动控制技术基础上的一种高精度三维测量系统，主要用于大尺寸空间坐标测量领域。它集中了激光干涉测距、角度测量等先进技术，基于球坐标法测量原理，通过测角、测距实现三维坐标的精密
2023-06-20 10:16:46
Mars系列三维坐标测量机是移动桥式的三坐标测量机。采用中图仪器自主研发的设计与测量系统，提供了测量机的高精度性能，测量行程500*700*500mm延伸到900*1200*600mm，结合多样化
2023-06-20 10:12:21
上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大口径射频离子源 RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE 离子束蚀刻机, 实现 300mm 和 200mm 硅片蚀刻, 刻蚀
2023-06-15 14:58:47665 
器件尺寸的不断缩小促使半导体工业开发先进的工艺技术。近年来，原子层沉积(ALD)和原子层蚀刻(ALE)已经成为小型化的重要加工技术。ALD是一种沉积技术，它基于连续的、自限性的表面反应。ALE是一种蚀刻技术，允许以逐层的方式从表面去除材料。ALE可以基于利用表面改性和去除步骤的等离子体或热连续反应。
2023-06-15 11:05:05526 
显重要。通过对三维形貌的测量可以比较全面地评定表面质量的优劣，进而确认加工方法的好坏及设计要求的合理性，这样就可以反过来通过指导加工、优化加工工艺以加工出高质量的
2023-06-14 14:09:27
为了提供更优良的静电完整性，三维(3D)设计（如全围栅(GAA)场电子晶体管(FET )）预计将在互补金属氧化物半导体技术中被采用。3D MOS架构为蚀刻应用带来了一系列挑战。虽然平面设备更多地依赖于各向异性蚀刻，但是3D设备在不同材料之间具有高选择性，需要更多的各向异性蚀刻能力。
2023-06-14 11:03:531779 
在材料生产检测领域中，共聚焦显微镜主要测量表面物理形貌，进行微纳米尺度的三维形貌分析，如3D表面形貌、2D的纵深形貌、轮廓（纵深、宽度、曲率、角度）、表面粗糙度等。与传统光学显微镜相比，它具有更高
2023-05-25 11:27:02
蚀刻是微结构制造中采用的主要工艺之一。它分为两类：湿法蚀刻和干法蚀刻，湿法蚀刻进一步细分为两部分，即各向异性和各向同性蚀刻。硅湿法各向异性蚀刻广泛用于制造微机电系统(MEMS)的硅体微加工和太阳能电池应用的表面纹理化。
2023-05-18 09:13:12700 
中图仪器GTS激光三维跟踪测量仪集激光干涉测距技术、光电检测技术、精密机械技术、计算机及控制技术、现代数值计算理论于一体，主要用于百米大尺度空间三维坐标的精密测量。功能强的主机测量系统1.集成化控制
2023-05-16 16:34:32
。 中图仪器Novator二次元三维影像测量仪将传统影像测量与激光测量扫描技术相结合，还支持频闪照明和飞拍功能，可进行高速测量，大幅提升测量效率；具有可独立升降和
2023-05-15 11:29:26
光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印刷电路板。
2023-05-11 16:10:492775 
晶圆厂通常使用光刻胶来图案化抗蚀刻硬掩模，然后依靠硬掩模来保护晶圆。但是，如果光刻胶太薄，它可能会在第一个转移步骤完成之前被侵蚀掉。随着光刻胶厚度的减小，底层厚度也应该减小。
2023-04-27 16:25:00689 
以共聚焦技术为原理的共聚焦显微镜，是用于对各种精密器件及材料表面进行微纳米级测量的检测仪器。 中图仪器VT6000系列三维光学轮廓共聚焦材料显微镜基于共聚焦显微技术，结合精密Z向扫描模块
2023-04-20 10:52:25
反应离子蚀刻 (RIE)是一种干法蚀刻工艺，与半导体工业中使用的互补金属氧化物半导体(CMOS)方法兼容。
2023-04-14 14:26:161253 
4月10日，创想三维2023年度战略供应商大会在惠州成功举办，高可靠多层板制造商华秋出席了本次活动并取得了《优秀质量奖》一奖项。大会现场，创想三维董事长陈春指出公司的持续发展与供应链高质量的交付
2023-04-14 11:29:30
4月10日，创想三维2023年度战略供应商大会在惠州成功举办，高可靠多层板制造商华秋出席了本次活动并取得了《优秀质量奖》一奖项。大会现场，创想三维董事长陈春指出公司的持续发展与供应链高质量的交付
2023-04-14 11:27:20
干法蚀刻与湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片，是液体（湿法蚀刻）还是气体（干法蚀刻）
2023-04-12 14:54:331004 因项目需求，需外包Labview 三维云图程序编写，做过类似项目的请回复，我联系您。
2023-03-31 09:36:47
印刷线路板从光板到显出线路图形的过程是一个比较复杂的物理和化学反应的过程，本文就对其最后的一步--蚀刻进行解析。目前,印刷电路板(PCB)加工的典型工艺采用"图形电镀法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886
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