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电子发烧友网>今日头条>用于化学分析应用的Si各向异性湿法化学蚀刻

用于化学分析应用的Si各向异性湿法化学蚀刻

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2023-05-30 16:12:16348

浅谈蚀刻工艺开发的三个阶段

纳米片工艺流程中最关键的蚀刻步骤包括虚拟栅极蚀刻各向异性蚀刻各向同性间隔蚀刻和通道释放步骤。通过硅和 SiGe 交替层的剖面蚀刻各向异性的,并使用氟化化学。优化内部间隔蚀刻(压痕)和通道释放步骤,以极低的硅损失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071

硅在氢氧化钠和四甲基氢氧化铵中的温度依赖性蚀刻

过去利用碱氢氧化物水溶液研究了硅的取向依赖蚀刻,这是制造硅中微结构的一种非常有用的技术。以10M氢氧化钾(KOH)为蚀刻剂,研究了单晶硅球和晶片的各向异性蚀刻过程,测量了沿多个矢量方向的蚀刻速率,用单晶球发现了最慢的蚀刻面。英思特利用这些数据,提出了一种预测不同方向表面的倾角的方法
2023-05-29 09:42:40618

固定电势在电化学反应中的应用

在电化学界面反应过程中,由于电化学反应界面通常与恒定电极电势的外电极相连,为确保电子的化学势与外电极的电势达到平衡
2023-05-26 09:44:431080

湿式化学蚀刻法制备硅片微孔

微孔利用光和物质的相互作用来获得独特的性质,特别是,当用紫外光、可见光或近红外光在其表面等离子体极化频率附近照射时,金属微孔结构表现出强烈的共振。然而,用于制造微孔的技术是耗时的,并且需要昂贵的设备和专业人员。因此,英思特开发了一种通过湿化学蚀刻硅衬底来制造微孔的方法。
2023-05-25 13:47:51846

如何在蚀刻工艺中实施控制?

蚀刻可能是湿制程阶段最复杂的工艺,因为有很多因素会影响蚀刻速率。如果不保持这些因素的稳定,蚀刻率就会变化,因而影响产品质量。如果希望利用一种自动化方法来维护蚀刻化学,以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31575

用于柔性化学传感器的功能性水凝胶

水凝胶由于其独特的3D结构、高渗透性、离子导电性和类组织机械性能,在柔性化学传感器领域引起了相当大的关注。
2023-05-18 09:30:27394

高速硅湿式各向异性蚀刻技术在批量微加工中的应用

蚀刻是微结构制造中采用的主要工艺之一。它分为两类:湿法蚀刻和干法蚀刻湿法蚀刻进一步细分为两部分,即各向异性各向同性蚀刻。硅湿法各向异性蚀刻广泛用于制造微机电系统(MEMS)的硅体微加工和太阳能电池应用的表面纹理化。
2023-05-18 09:13:12700

简述晶圆减薄的几种方法

减薄晶片有四种主要方法,(1)机械研磨,(2)化学机械平面化,(3)湿法蚀刻(4)等离子体干法化学蚀刻(ADP DCE)。四种晶片减薄技术由两组组成:研磨和蚀刻。为了研磨晶片,将砂轮和水或化学浆液结合起来与晶片反应并使之变薄,而蚀刻则使用化学物质来使基板变薄。
2023-05-09 10:20:06979

模拟前端设计增强电化学传感性能

电子发烧友网报道(文/李宁远)目前应用的传感器里以半导体技术、电化学技术和光学技术为主。电化学技术是利用待测物的电化学性质,将待测物化学量转变成电学量进行传感检测的一项技术。   电化学传感很早之前
2023-04-24 01:17:001152

《炬丰科技-半导体工艺》单晶的湿法蚀刻和红外吸收

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》 文章:单晶的湿法蚀刻和红外吸收 编号:JFKJ-21-206 作者:炬丰科技 摘要 采用湿法腐蚀、x射线衍射和红外吸收等方法研究了物理气相色谱法生长AlN单晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118

化学金沉积过程的研究综述

化学镀镍和铜工艺的应用对导体和绝缘体的金属化技术产生了深远的影响。印刷电路工业实际上是建立在无电镀铜以不均匀的金属厚度覆盖绝缘体和导体的能力上的;同时,化学镀镍不仅广泛用于涂覆复杂几何形状的物品,而且用于赋予由各种其他金属和合金制成的部件硬度和耐磨性的工程特性。
2023-04-21 10:08:59445

酸性化学品供应控制系统

[技术领域] 本实用新型涉及半导体制造技术领域,具体地说是一种酸性化学品供应控制系 统。 由于半导体行业中芯片生产线的工作对象是硅晶片,而能在硅晶片上蚀刻图形 以及清洗硅晶片上的杂质、微粒子的化学
2023-04-20 13:57:0074

半导体集成电路失效分析原理及常见失效分析方法介绍!

、改进,产品修复及仲裁失效事故等方面具有很强的实际意义。其方法分为有损分析,无损分析,物理分析化学分析等 。
2023-04-18 09:11:211360

利用有机电化学晶体管放大微弱的生物化学信号

人体内的生物化学信号通常非常微弱,很难直接进行检测和分析。据麦姆斯咨询报道,美国西北大学(Northwestern University)的研究人员基于有机电化学晶体管开发了一种新方法
2023-04-15 09:38:241267

干法蚀刻湿法蚀刻-差异和应用

干法蚀刻湿法蚀刻之间的争论是微电子制造商在项目开始时必须解决的首要问题之一。必须考虑许多因素来决定应在晶圆上使用哪种类型的蚀刻剂来制作电子芯片,是液体(湿法蚀刻)还是气体(干法蚀刻
2023-04-12 14:54:331004

从头到尾的半导体技术

湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高
2023-04-10 17:26:10453

氮化铝单晶的湿法化学蚀刻

清洗过程在半导体制造过程中,在技术上和经济上都起着重要的作用。超薄晶片表面必须实现无颗粒、无金属杂质、无有机、无水分、无天然氧化物、无表面微粗糙度、无充电、无氢。硅片表面的主要容器可分为颗粒、金属杂质和有机物三类。
2023-03-31 10:56:19314

哪些因素能影响应用的电池化学选择呢?

影响应用的电池化学选择:  可重用性——首先需要确定的是给定电路是可充电的还是应该依靠电池更换。因此,原电池或二次电池类型可用于该装置。  生命周期耐久性——当电池是电路中使用的原电池时,电池的耐久性
2023-03-29 15:47:44

PCB加工的蚀刻工艺

印刷线路板从光板到显出线路图形的过程是一个比较复杂的物理和化学反应的过程,本文就对其最后的一步--蚀刻进行解析。目前,印刷电路板(PCB)加工的典型工艺采用"图形电镀法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886

各向异性润湿过程中的表面形态

在过去的几年中,随着器件尺寸的不断减小,蚀刻表面的粗糙度开始发挥越来越重要的作用。
2023-03-24 10:11:13251

Pb(ZrTi)O 3铁电体的湿化学蚀刻

当今世界信息社会的发展在很大程度上依赖于高比特率电信技术的质量。虽然微波和光纤被用于长距离传输,但光网络也将对高比特率信息的局部分布发挥至关重要的作用。
2023-03-23 10:36:32346

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